Transcript 3.2.电光调制
第3章
光辐射的调制
§3 光辐射的调制
光辐射的调制
将信息加载到光波的过程
主要内容
3.1 光辐射调制原理
3.2 电光调制
3.3 声光调制
3.4 磁光调制
3.5 直接调制
§3.2 电光调制
共有五个方面的内容
电光效应
电光强度调制
电光相位调制
电光调制器设计考虑
电光器件
§3.2.1 电光效应
电光效应
介质在外加直流或低频电场作用下,由于极化而出现
光学特性(各向异性)的改变,进而影响到光波在介
质中的传播特性的性质
本质:某些晶体在光波电场与外电场的共同作用下出
现非线性的极化,从而引起介质折射率变化
可以是静电场、射
频场,直至微波场,
但不考虑频率更高
甚至光频的电磁场
主要有四个方面的内容
1. 电场作用下材料的非线性极化
2. 电光系数张量
3. 电场作用下折射率椭球的形变
4. 电光相位延迟
1.电场作用下材料的非线性极化
•
pi el
P
P
介质受光频电场(入射光场)和射频电场(外加电场,低频或直流)的
i
共同作用,应同时考虑电子的受迫振动和离子的受迫振动;(位能函数,
运动方程)
i
V
PL 0 L E D
D E E E
dD
D
'
2E
3
E 0E
P
dE
• 考虑 D ~ E 关系,(为简化,设外加电
场 // 晶体某主轴,则 D//E ,标量关系);
2
线性
3
射频
2
光频
斜率,代表介质材料对电场响应的大小
Eo
• E 为光频时, ' 相当于光频折射率;
• E 为射频时, ' 相当于射频介电系数;
• 同时存在射频和光频时,相当于工作
点设在 Eo ,并对光频产生响应。
(折射率)随
'
Eo的大小改变
E
若外加电场不在主轴
方向, 是张量
电光效应
'
2.电光系数张量
定义:用材料的相对介电抗渗张量的变化量来表示介质对外场的响应
1
b 2
n
bij bij E bij 0 ijk Ek sijkl Ek El
加射频场
未加射频场
射频
射频
其中第一项:线性电光效应(Pockels 效应,1893年),
ijk为线性电光系数,三阶张量;
只有非中心对称晶体才有,可查表得到
第二项:二次电光效应(Kerr效应,1875年),
sijkl 为二次电光系数,四阶张量;
任何介质
电光系数张量矩阵
电光系数张量矩阵
( 1
n2
( 12
n
1
( n 2
( 1
n2
1
( 2
n
1
( 2
n
)1
)2
)3
)4
)5
)6
•不同的晶体有不同的系数矩阵元
•可通过查表得到
11 12
21 22
31 3 2
41 4 2
51 52
61 62
13
23
33
43
53
63
Ex
E y
E
z
KDP晶体的电光张量
[ ij ]
0
0
0
41
0
0
0
0
0
0
52
0
0
0 其中(p59 表2-3)
0 41 52 8.6 1012 m/ V
0 10.6 1012 m/ V
63
0
63
3.折射率椭球的形变
b P
折射率椭球法
b r n
研究电光效应
bij xi x j 1
折射率椭球:
未加外场时:
任意坐标系
方程的展开式?
bij bij 0
在主坐标系中:
b11 0x2 b22 0y 2 b33 0z 2 1
1
2
nx
加外场后:
A
耦合波分析法
1
2
ny
nx
ny
nz
主折射率
1
2
nz
bij E bij 0 bij E
在主坐标系中
2 1
1
2 1
2
2 b11 x
b
y
b
22
33 z 2b23 yz 2b13 xz 2b12 xy 1
n 2
n
n 2
z
x
y
via: http://dbk2.chinabaike.org/imagesdb/bk/XT/WL/WLgx122t1%E6%8A%98%E5%B0%84%E7%8E%87%E6%A4%AD%E7%90%
83%E6%88%96%E6%B3%A2%E6%B3%95%E7%BA%BF%E6%A4
%AD%E7%90%83.gif
via: http://www.sngyw.com/hbook/4/7-15-41-p3.html
返回
3.折射率椭球的形变
2 1
1
2 1
2
2 b11 x
b
y
b
22
33 z 2b23 yz 2b13 xz 2b12 xy 1
n 2
n
n 2
z
x
y
使用加电场后的新折射率椭球,按照通常研究光在晶体中
传播的方法研究光的传播规律
一般,在原主坐标系 ( x, y, z ) 中, bij E 不是对角张量(存在
交叉项),需要寻找新的主坐标系 ( x' , y' , z ')
找新坐标系
(线性代数)找本征值,本征矢——构成新的坐标系
(解析几何)通过坐标变换,消去交叉项
3.折射率椭球的形变
bij 2 ijk1Ek sijkl E2 k El
1 线性电光效应
2 1
y
2 b11 x
b
b33 z 2b23 yz 2b13 xz 2b12 xy 1
22
2
2
n
42m ,查表,找出
以KDP晶体为例,
教材59表2-3
nz
ijk 矩阵的形式
x
ny
b1
0
b
0
2
E
x
b3
0
Ey
b
E
4 41
E 41 x
b5
z 41 E y
41
63
b6
63 E z
折射率椭球方程(在原主坐标系中):
1 2
1 2
2
x
y
z 2 41 Ex yz 2 41 E y zx 2 63 Ez xy 1
2
2
no
ne
未加电场的原有部分
加电场后增加的部分
no nx ny , ne nz :o光、e光主折射率
3.折射率椭球的形变
1 2
1 2
2
x y 2 z 2 41 Ex yz 2 41 E y zx 2 63 Ez xy 1
2
no
ne
• 若 E Ez ,
1 2
1 2
2
x y 2 z 2 63 Ez xy 1
2
no
ne
Ex E y 0
方程关于 x, y 对称,将坐
标系绕 z 轴转 角:
(坐标变换法)
代入原方程,整理得到:
老
新
x x' cos y ' sin y’
y x' sin y ' cos
z z'
y
α
1
1
1
2 63 E z sin 2 x'2 2 63 E z sin 2 y '2 2 z 2 2 63 E z cos 2x' y ' 1
n
n
ne
o
o
令 cos2 0,
即
45 , sin 2 1
消除了交叉项(非对角项),即找到了新的主坐标系!
x’
x
3.折射率椭球的形变
新主折射率(新的椭球方程):
1
1
1
2 63 E z x'2 2 63 E z y '2 2 z 2 1
n
n
ne
o
o
1
2
nx '
1
2
ny'
y'
1
2
nz '
y
x'
45
x
1
2 的微扰增量
no
2
1
1
1
d 2 3 dn dn n3d 2
n
2
n
n
通常 63 很小,可把 63 E z 看作
1 3
nx ' no 63 E z
2
1 3
nx ' no no 63 E z
2
1 3
n y ' no no 63 E z
2
nz ' ne
结论:( E z 0 )
• 坐标系绕 z 轴转 45 ,该角度与电场大小无关;
• 折射率变化的大小是外场的函数;
•
nx ' , n y ' 等值反号,单轴晶体变为双轴晶体。
4.电光相位延迟
(仍是以KDP晶体为例)
1 2
1 2
2
x y 2 z 2 41 Ex yz 2 41 E y zx 2 63 Ez xy 1
2
no
ne
从上式可以看出
垂直于光轴方向的电场分量其电光效应只与 41 有关
平行于光轴方向的电场分量其电光效应只与 63 有关
实际应用中,电光晶体总是沿着相对光轴的某些特殊方向
切割而成,外电场也是沿着某一主轴的方向加到晶体上。
按照外电场方向与通光方向的关系,可分为两种运用方式
•纵向应用:电场方向与通光方向一致
•横向应用:电场方向与通光方向垂直
下面以KDP晶体为例来具体说明这两种运用方式
纵向
应用
4.电光相位延迟
以KDP晶体为例,沿z轴加电场,光束沿z轴进入晶体
沿晶体 Z 轴加电场后,其折射率
椭球发生偏转
如果光波沿 Z 方向传播,则其双
折射特性取决于光率体与垂直于
Z 轴的平面相交所形成的椭圆
1 3
nx ' no no 63 E z
2
1 3
n y ' no no 63 E z
2
nz ' ne
y'
光率体图
y
x'
45
x
z ' 0 截面
未加电场时
的圆截面
沿Z轴加电
场时的椭圆
截面
纵向
应用
4.电光相位延迟
以KDP晶体为例,沿z轴加电场,光束沿z轴进入晶体
当一束线偏振光沿z轴进入晶体,且沿 x 方向偏振时
进入晶体后可以分解为沿 x ' 和 y' 方向的两个垂直偏振分量
由于二者的折射率不同, 则当它们经过长度
L 后相位落后分别为
x 与 x '夹角 45
n 2 nx L 2L (no 1 no3 63 Ez )
2
n 2 ny L 2L (no 1 no3 63 Ez )
2
x
y
因此,当这两个光波穿过晶体后将产生一个相位差
ny nx '
3
3
2
2
Lno 63E z
no 63V
V = Ez L 是沿 Z 轴加的电压
纵向
应用
4.电光相位延迟
以KDP晶体为例,沿z轴加电场,光束沿z轴进入晶体
ny nx '
3
3
2
2
Lno 63E z
no 63V
当电光晶体和通光波长确定后,相位差的变化仅取
决于外加电压,即只要改变电压,就能使相位差成
比例地变化
c
半波电压 V 2 V
3
2no 63 no3 63
使两个垂直分量的光程差为
半个波长(相应的相位差为π)
所需电压
–KDP晶体的半波电压为7.45kV
纵向
应用
4.电光相位延迟
以KDP晶体为例,沿z轴加电场,光束沿z轴进入晶体
简单 根据上述分析可知,两个偏振分量间的差异,会使一
应用 个分量相对于另一个分量有一个相位差( △ ),而
这个相位差会改变出射光束的偏振态(类似于波片)
可以用电学方法将入射光
波的偏振态变换成所需要
的偏振态
电光调Q激光器就用的是这个方法来
控制腔内光的损耗
因为可以配合偏振片实现光强度的改
变,所以可用于强度调制
纵向
应用
2n (n 0,1,2)
当晶体上未加电场时
起到一个“全波片”的作用
通过晶体后的合成光仍然是线偏振光,且与
入射光的偏振方向一致
当晶体上所加电场
1
V 4 使 (n )
2
时
起到一个“1/4波片”的作用
其合成光就变成一个圆偏振光
当晶体上所加电场 V 使 (2n 1) 时
2
起到一个“半波片”的作用
合成光又变成线偏振光,但偏振方向相对于入
射光旋转了一个2θ角(此处θ=45°)
Return
横向
应用
4.电光相位延迟
以KDP晶体为例,沿z轴加电场,光束传播方向垂直于z轴并与y
(或x)轴成45 °角
设光波垂直于 x ' z 平面入射,E矢量与z轴成 45 角
进入晶体后分解为沿 x ' 和 z方向的两个垂直分量
1 3
传播距离L后它们的相位延迟分别
nx ' no no 63 E z
2
为
n
x
n
z
2 nx L 2L (no 1 no3 63 Ez )
2
2 n L 2L n
z
1 3
n y ' no no 63 E z
2
nz ' ne
e
相位差为 nz nx ' 2 ne no L Lno3 63 E z
L
3
0 no 63 V
d
横向
应用
4.电光相位延迟
以KDP晶体为例,沿z轴加电场,光束传播方向垂直于z轴并与y
(或x)轴成45 °角
z x ' 2 ne no L Lno3 63 E z
L
3
0 no 63 V
d
电光效应相位延迟
与外加电场无关,由晶
体自然双折射引起
比较纵向应用 ① 横向应用存在自然双折射的固有相位
与横向应用
延迟,应设法消除
② 横向相位延迟不仅与电压V成正比,
而且与晶体的长宽比 L/d 有关,可通
过提高 L/d 来降低半波电压
§3.2.2 电光强度调制
利用泡克耳斯效应实现电光调制可以分为
两种情况
一种是施加在晶体上的电场在空间上基本是均匀的,但在时间上是
变化的。当一束光通过晶体之后,可以使一个随时间变化的电信号
转换成光信号,由光波的强度或相位变化来体现要传递的信息
另一种是施加在晶体上的电场在空间上有一定的分布,形成电场图
像,即随x和y坐标变化的强度透过率或相位分布,但在时间上不变
或者缓慢变化,从而对通过的光波进行空间调制
§3.2.2 电光强度调制
以KDP晶体为例
1. 纵向电光调制(通光方向与电场方向一致)
x,
y, z // 三边
L
起偏
E Ez , x' y' 45
输入
入射光沿 z, (// E ) 纵向
E
入射光起偏 // y
V
L
x'
x
y
输出
KDP
z (z ' )
V
入射光
z 0 处入射光分解为 x' , y ' 方向偏振的两个传播模,两个模分别在晶体中传播
1 3
Ex ' Aei t k x ' z k x ' nx ' nx ' no no 63 Ez
c
2
1 3
i t k y ' z
E y ' Ae
k y ' n y ' n y ' no no 63 Ez
c
2
相位延迟 z L 处,两传播模有相位差(称作相位延迟)
1 3
1 3
k y ' k x ' L L no no 63 Ez no no 63 Ez
c
2
2
§3.2.2 电光强度调制
以KDP晶体为例
1. 纵向电光调制(通光方向与电场方向一致)
1 3
1 3
k y ' k x ' L L no no 63 Ez no no 63 Ez
c
2
2
2
no 63 E z L
3
其中
2n
Ez L V
半波电压:使相位延迟达到 所用的电压
令
, 得到 V
3
2no 63
另一个表达式
V
V
出射光: z L 处,合成光波的偏振态取决于相位差 ,一般是椭圆偏振态
几个特殊点: 0, 线偏振;
2
, 圆偏振; ,线偏振
如何由此实现强度调制? Review
§3.2.2 电光强度调制
以KDP晶体为例
1. 纵向电光调制(通光方向与电场方向一致)
检偏 P2 P1 :实现强度调制的关键
透过率: 调制特性
Ex Ex' Lcos45 Ey ' Lsin 45
I out
2
T
sin
I in
2
2
ik L
A e ikx ' L e y ' eit
2
2 V
sin
i 2 A sin
e
2V
2
2
2
I out Ex Ex 2 A sin
实现了强度调制
2
L
起偏
2
I in 2 A
i t no L
c
输入
y
x'
x
y'
E
V
L
x'
x
y
KDP
z (z ' )
V
检偏
输出
§3.2.2 电光强度调制
以KDP晶体为例
1. 纵向电光调制(通光方向与电场方向一致)
问题一:加交变电压后,输出
T
非线性失真;
解决:加入
波片, 相当于引
T sin 2
2
1
B
4
入一固定的相位延迟,将
透
过
率
曲
线
2
调制器偏置在 T 50% 处;
当输入在一定范围内(小
信号),获得线性调制。
L
起偏
输入
E
V
L
V V
x'
x
y
快 // x'
z (z ' )
V
思考:沿 x’和 y’
检偏
输出
KDP
4
V
偏振的光之间的总
相位延迟? 波
片的取向?
4
§3.2.2 电光强度调制
以KDP晶体为例
1. 纵向电光调制(通光方向与电场方向一致)
问题二:KDP晶体半波电压很高(>16000V@1064nm),工作电压很高
解决一:采用 KD*P 晶体,工作电压仍很高(>3500V@633nm)
解决二:采用四块晶体,光路上串联,电路上并联,每块晶体承担
所需相位延迟的1/4。
优点:纵向电光调制器具有结构简单、工作稳定、不存在自然双折射的影响等
缺点:半波电压太高,特别在调制频率较高时,功率损耗比较大
– 强度调制器小结:
• 入射光分解为感应主轴方向的两个传播模;
• 找出相位延迟和外加电压(电场)的关系;
• 加入检偏器得到输出光强随外加电压变化,实现强度调制;
• 加入1/4波片提供固定“偏置”,以得到线性调制。
§3.2.2 电光强度调制
2. 横向电光调制(通光方向与电场方向垂直)
不需要透明电极,
工艺简单
横向电光效应可以分为三种不同的运用方式:
① 沿z轴方向加电场,通光方向垂直于z轴,并与x或y
轴成45o夹角(晶体为45o-z切割)
② 沿x方向加电场(即电场方向垂直于z轴),通光方向垂
直于x轴,并与z轴成45o 夹角(晶体为45o -x切割)
③ 沿y方向加电场(即电场方向垂直于z轴) ,通光方向
垂直于y轴,并与z轴成45o夹角(晶体为45o -y切割)
以下仅以KDP类晶体为代表
讲述第一种运用方式
§3.2.2 电光强度调制
以KDP晶体为例
2. 横向电光调制(通光方向与电场方向垂直)
45 z 切割, E Ez ,
y' 方向通光
入射光分解为沿 x ' 和 z z ' 方向偏振的两个传播模
1 3
nx ' no no 63 E z
2
nz ' ne
起偏
输入
y' L 处 ' k x' k z ' L
L
z z '
x'
2
1 3 L
n
n
L
no 63 V o
e
o
o
2
d
自然双折射
检偏
KDP
y'
输出
d V
电致双折射
问题:自然双折射项不受调制电压影响
稳定性差!
no , ne 随温度而变,且变化率不同
ne no
1.110 5 / C
T
T 1 C ,
L 3cm,
o 6328 A, 1.1
§3.2.2 电光强度调制
2. 横向电光调制(通光方向与电场方向垂直)
组合调制器
L
KDP 63( z 方向加电压)组合调制器
45 z 切割, E Ez ,
y'
z z '
两块晶体光轴(z)反向平
行,中间插入
2
波片,
起偏与 y' 夹角 45
入射光分解为 y’(o)和 z’(e)方向
1 3
n y ' no no 63 E z
2
nz ' ne
L
o
e
x'
y'
E
z z '
2
E
x'
z z '
x'
y'
• 加电压后KDP是双轴晶体,但
新光轴与原光轴夹角很小
• 光沿主轴方向之一,没有偏离
经过第一块晶体以后的相位延迟
1
2
1 3
n
n
n
E
o e
o 63 z L
2
1 1 2
// y ' // z '
e
o
两束光经过 2 波片(相位差
)后各自偏振方向转 90 ,进入第二块晶体:
原来的 y' o 光变成 z' e , z' e 变成 y' o ; 但 Ez (对晶体)反向。
L
L
经过第二块晶体的相位延迟:
y'
2
(仍保持 1 2 顺序)
z z '
x'
2
1 3
E
y'
2
n
n
n
(
E
)
L
e o
o 63
z
E
x'
2
z z '
x'
z z '
y'
总相位延迟
1 2
2
no 63
3
V
L
d
T sin 2
2
• 消除了自然双折射的影响;
• 相位延迟与
调制器。
63 有关,故称 63
• 缺点:结构复杂,尺寸加工
要求极高
实际应用中,因为 43m 族CaAs晶体(
no ne
)和3m
族LiNbO3晶体(x方向加电场,z方向通光)都没有自然双
折射影响,多采用横向电光调制。
§3.2.2 电光强度调制
以LiNbO3晶体为例
2. 横向电光调制(通光方向与电场方向垂直)
L
起偏
快 // y '
x' x
输入
输出
LN
d V
z
y
检偏
4
外场 E // x,
起偏 // x,
光沿 z 方向传输; 1/4波片,快轴 // y ' ,
由表(表2-3),感应主轴
相位延迟
透过曲线
半波电压
2
x' ,
L
no 22 V
o
d
2
3
T sin
2
V
o d
3
2no 22 L
y ' 沿 45 ,z 轴几乎没变;
相位延迟?
V
Ex
其中
d
减小 d, 增大 L,
可使 V 下降
思考:1/4波片的位置?
检偏的方向?
0
0
0
ij
0
51
- 22
2
2
2
- 22
22
0
51
0
0
13
13
33
0
0
0
x
y
z
2 2 2 51 E x xz 2 22 E x xy 1
2
nx n y nz
§3.2.3 电光相位调制
以KDP晶体为例
KDP晶体,45 z
外加电场 E Ez ,
感应主轴?
输入光沿 z ,起偏 // x'
输入
1 3
n
n
no 63 E z
相应主折射率
x'
o
2
z 0 处入射光场 Ei A cost
为
什
么? 射频调制场
c
/ 2
x
x'
输出
KDP
y'
E
V
L
~
Vm , m
V Vm sin mt
传输相位随调
制电场而变
Ez Em sin mt
z L 处出射光场 E A cos(t k L)
out
z
L
起偏
切割
相位变化
x '
c
nx ' L k z L
1 3
A cost no no 63 Em sin mt L
c
2
A cost no L m sin mt
c
no 3 63 Em L
恒定传输
相位因子
相位调
制因子
m
电光效应的其它应用
电光调Q
Q 2 o
腔内存储的激光能量
单位时间损耗的激光能量
部分反射
x
偏振片
x'
y'
输出
激光介质
z
y
全反射
KD*P
V
• 通常,晶体上加半波电压的一半 V ,自发辐射光一次通过晶体产
2
生 1 ,反射后第二次通过晶体 2 , 。回到偏振片处
2
2
仍为线偏振,偏振面转 90 ,不能通过;损耗大,不能起振。
• 适当时候,突然撤去电压,光沿光轴通过,没有相位延迟,反射后
可以通过偏振片; 损耗低,起振,产生巨大脉冲,称“退压
式”Q开关。
§3.2.4 电光调制器设计考虑
1、线性调制
偏置在 B
2
处,小信号范围内可以得到线性调制。 “小信号”是多小?
Vm sin mt
Vm
sin mt
2
V
若外加正弦调制电压:V
总相位延迟:
4
m
半角公式
1 cos
sin 2
2
2
m
2
T sin
sin
sin
t
m
2
2
4
Bessel展开
1
1
1 sin m sin mt J 2l 1 m sin 2l 1mt
2
2 l 0
2
其中, l
0 项 J1 m sin mt
l0
基波分量
高次谐波,失真
J 3 m sin 3mt J 5 m sin 5mt
§3.2.4 电光调制器设计考虑
1、线性调制
J1 m sin mt
J 3 m sin 3mt
若限制 m
J3
J1
(弧度),J1 1 0.44
1
0.045
以后,取
J 3 1 0.02
三次谐波是基波的5%,可以接受
m 1(弧度),为线性调制的判据,即 𝑽𝒎 ≤ 𝑽𝝅
𝝅
1
T J 2l 1 m sin 2l 1mt
2
l 0
1
在 m 1范围内,有近似 J1 m m
2
即: T 1 1 sin t
实现了线性调制
m
m
2
§3.2.4 电光调制器设计考虑
2、调制度
定义
一般情况下
若m
Iˆ I I
m
I
I
Iˆ
:光强峰值
I
:光强平均值
1
1 sin m sin mt Bessel展开之前
2
1
1
ˆ
1(弧度),sin1 0.84, I 1 0.84, I
2
2
则:
T
m 0.84
小信号条件下 (m
1
Iˆ 1 m ,
2
1),
I
1
T 1 m sin mt
2
1
,
2
Vm
则:m m
V
矛盾:调制电压越小,线性越好,但调制度也越
小,实际上只好折中
Return
§3.2.4 电光调制器设计考虑
3、调制带宽
电极
晶体
介质
外电路对调制带宽的影响
晶体+电极=电容器
导线电阻
电源
内阻
等效为RC电路,R
很大,C 很小
希望大部分电压降落在晶体上,要求:R Ri
V
晶体等
效电路
Rs
对低频,C很小,容易做到
当频率升高,晶体的 RC等效阻抗变小,补救办法:并联电感L,
1
构成RLC并联谐振回路。当 0
时,回路阻抗是RL
LC0
1
1
这时的调制带宽: f
即
2 RLC0
2RLC0
负载
§3.2.4 电光调制器设计考虑
3、调制带宽
渡越时间对调制带宽的影响
2
L
当调制频率很高时,渡越时间 n 接近调制周期 Tm
m
c
光波在晶体内各处“经历”的电场强度不同,总的相位延迟为各段延
迟之和:
L
3
t a E t 'dz t '
no 63 E z L
0
a
2
t
n03 63
ac
E t 'dt'
n t
考虑频率影响的
1 e im
m
衰减因子:
im
高频相位延迟缩
m ei eimt
减因子
meimt
dz t '
c
dt '
n
E t ' Em ei mt '
i m t
e
im
1
e
令 ei
im
表征因渡越时间引起的峰
值相位延迟的减小程度
§3.2.4 电光调制器设计考虑
3、调制带宽
渡越时间对调制带宽的影响
|γ|越大,衰减作用越小。
说明光波在晶体内的渡越时间必须远小于调制信号的周期,才能使
调制效果不受影响。
即,调制频率存在一个上限。
若取|γ|=0.9,即 m d
规定 m
sin c
m
2
为判据
0.64
对 KDP
n 1.5, L 2cm,
2
,则 f m
幅度下
降一半
m
1
c
2 4 d 4nL
相应最大调制频率
f m max m
2
1
c
2 2nL
fm max 5109 Hz
采用行波调制,光波和
解决方法 调制波同步通过晶体
§3.2.5 电光器件
F-P(法布里-珀罗)电光调制器
行波调制器
电光开关
电光偏转器
F-P(法布里-珀罗)电光调制器
作用:用较小的电压获得较大的调制度
结构:如图所示
原理:光束在腔内多次反射,相当于
增加了晶体的长度
以KDP晶体为例,横向应用
两偏振光束相位差为
透过率
l '是来回多次的总距离 l ' L
F-P(法布里-珀罗)电光调制器
调制曲线
R——反射率,一般很
大,所以透过率随相位
差的变化很灵敏
较小的电压变化可引起
较大的透过率变化
一定程度上解决了
前述矛盾
行波调制器
作用:消除光波在晶体中渡越时间长对调制频率的限制
结构:如图所示
原理:调制电场以行波形式加到晶体上,光波在晶体中传播
的相速度与电场前进速度一致
电光开关(如,调Q开关)
作用:利用脉冲信号控制光路的接通断开
结构:如图所示
原理:电光强度调制原理
开关频率:109~1012Hz
两种类型:
加压式:加上电压后接通
退压式:加上电压后断开
电光偏转器
A n n
假设,折射率沿坐标变化
n
n x n
x
d
光线 A 的渡越时间
光线 B 的渡越时间
L
B n
L
A n n
c
L
B n
c
x
晶体
d
y
A
A
d
B
y
由于渡越时间差,波阵面倾斜,法线偏转。
y
c
A B L n
n
n
在晶体内部的偏转角
出射到晶体外
y
由 y 转向 x,
L dn 取负号
n
'
L
d
nd
n dx
sin n sin '
B
dn
dx
若转角较小 ' n L
双 KDP楔形棱镜偏转器
x'
结构:将KDP电光晶体切割成两块
直角棱镜,沿斜面胶合在一起,棱
镜的三个直角边与晶体加电场后的
感应主轴坐标系的三个轴x’、y’、z’
分别平行,但两块晶体的z轴反向
平行
y'
A
下
入射光
z
上
B
E
x'
y'
z
原理:
光到达两个KDP晶体的界面上时,由于两边的折射率不同而改
变传播方向
由于 ny ' nx ' ,光波通过两块棱镜的光程是从下到上线性增加
的,所以光束向上偏转
双 KDP楔形棱镜偏转器
x'
上棱镜,E 为负,对光 A:
y'
A
1 3
n A n o no 63 E z
2
下
入射光
下棱镜,E 为正,对光 B:
将 m 对棱镜串联使用,总偏转角
上
B
1 3
y'
nB n o no 63 E z
2
n
L 3
求得
L
no 63 E z
d
d
E
x'
z
dn
' n L
dx
总 m
可分辨点数:实际光束有发散角 束 ,有意义的不是 总 的绝
对值,而是相对值:
N
总
束
z
若外加锯齿波电压,可实现光束扫描
电光移频和脉冲压缩
• 相位调制器中,如果调制电压是时间的线性函数,则感应折射率随
时间线性变化。
i t kz
k t z
c
nz
k
则
c
E z , t Ae
nt z
t o a1t
线性变化
i t a t ikz
i a t ikz
E z , t Ae
e Ae
1
表示一个频率为
相移增量
o
' a1
1
、波矢为
d
a1
频率偏移:
dt
k
o
的平面波;
a1 0,
a1 0,
电光移频和脉冲压缩
• 如果调制电压随时间平方变化,感应折射率也按平方变化
光波相位变化:
t o a2t 2
d
频率偏移:
2a2t
dt
时间的线性函数,
称为线性调频
• 考虑一个激光脉冲(理想方波),并且做到:
幅度
前沿
后沿
•调制电压和脉冲同步(折射率在脉冲期间线
性增大,则频率在脉冲期间线性下移)
时间
电光移频和脉冲压缩
•脉冲中心(t=0)时电压为零( n 0,
0
,前后沿频率差 2a2T
将这样的线性调频脉冲通过色散介质
前沿 大,n 大,速度慢;
后沿 小,n 小,速度快;
)
a2 t
频率
T
后沿追前沿脉冲压缩。
先在频域展宽,然后通过色散介质,牺牲频域特
性得到时域上性能的提高(脉宽变小)。
a2 t
时间
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