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a
b
c
TEM images of Cu-Ni/GO catalyst at (a) low magnification, (b) high magn
ification and (c) SAED image of Cu-Ni/GO.
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SBS
OsO4 染色
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透射电镜-----衬度
二、衍射衬度
• 由于晶体试样满足布拉格反射条件程度差异以及结构
振幅不同而形成电子图象反差。此种衬度被称为衍射
衬度,简称“衍衬”。它仅属于晶体结构物质,对于非
晶体试样是不存在的。
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透射电镜-----衬度
• 明场:光栏孔只让透射束通过,荧光屏上亮的区域是透射区
• 暗场:光栏孔只让衍射束通过,荧光屏上亮的区域是产生衍射的晶
体区
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明场
暗场
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扫描电镜-----特点
以电子束作为照明源,把聚焦得很细的电子束以光栅状
扫描方式照射到试样上,产生各种与试样性质有关的信
息P12,然后加以收集和处理从而获得微观形貌放大像。
特点:1、仪器分辨本领较高。二次电子像分辨本领可
达1.0nm(场发射),3.0nm(钨灯丝);
2、图像景深大,比TEM大10倍,富有立体感。可直接
观察起伏较大的粗糙表面
3、放大倍数范围广,从十几倍到几十万倍,几乎覆盖
了光学显微镜和TEM的范围
3、比透射电子显微镜(TEM)的制样简单,样品直径
可达10cm;
4、可做综合分析
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扫描电镜-----结构与原理
• 扫描电子显微镜由电子光学系统、
信号收集及显示系统、真空系统及
电源系统组成。
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扫描电镜-----电子光学系统
电子枪
电
子
光
学
系
统
---利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高
能量的电子束
电磁透镜 ---电子枪的束斑逐渐聚焦缩小,使原来
直径约50m的束斑缩小成一个只有数nm
的细小束斑。
扫描线圈 ---提供入射电子束在样品表面上以及
阴极射线管内电子束在荧光屏上的同步
扫描信号
样品室 ---空间较大,一般可放置20×10 mm的
块状样品。样品台沿X、Y及Z三个方向平移,
在水平面内旋转或沿水平轴倾斜。还安置备
种信号检测器。
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扫描电镜-----放大倍数(magnification)
• 当入射电子束作光栅扫描时,若电子束在样品
表面扫描的幅度为AS,在荧光屏上阴极射线同
步扫描的幅度为AC,则扫描电子显微镜的放大
倍数为:
AC
M
AS
• 由于扫描电子显微镜的荧光屏尺寸是固定不变
的,因此,放大倍率的变化是通过改变电子束
在试样表面的扫描幅度AS来实现的。
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扫描电镜-----分辨率(resolution)
分辨率取决于入射电子束直径,电子束直径愈小,分
辨率愈高。但分辨率并不直接等于电子束直径,因为
入射电子束与试样相互作用会使入射电子束在试样内
的有效激发范围大大超过入射束的直径。
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扫描电镜-----分辨率(resolution)
• 俄歇电子和二次像分
辨率 5-10nm
• 背散射电子像分辨率
一般为50-200 nm 。
• 特征x射线分辨率 100
-1000nm
• 分辨率还受样品原子
序数、信噪比、杂散
磁场、机械振动等因
素影响。
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扫描电镜-----样品制备
1、块状试样制备
将试样大小制成不得超过仪器规定(如试样直径最
大为φ25mm,最厚不超过20mm 等),注意:
1)为减轻仪器污染和保持良好的真空,试样尺寸
要尽可能小些。
2)切取试样时,要避免因受热引起试样的塑性变
形,或在观察面生成氧化层。要防止机械损伤或引
进水、油污及尘埃等污染物。
3)非导电样品要喷金
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扫描电镜-----样品制备
粉末状试样的制备
首先在载物盘上粘上导电胶,然后取少量粉末试样在胶
带上的靠近载物盘圆心部位,然后用吹气橡胶球朝载物
盘径向朝外方向轻吹 。
溶液试样的制备
一般采用薄铜片作为载体。首先,在载物盘上粘上
导电胶带,然后粘上干净的薄铜片,然后把溶液小心
滴在铜片上,等干了(一般用台灯近距离照射10分钟)
之后观察析出来的样品量是否足够,如果不够再滴一
次,等再次干了之后就可以蒸金了。
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扫描电镜-----衬度原理
表面形貌衬度
是由于试样表面形貌差别而形成的衬度。利用对试样
表面形貌变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号,
可以得到形貌衬度图像。
二次电子信号主要来自样品表层5-l0 nm深度范围,它
的强度与原子序数没有明确的关系,而仅对微区表面相
对于入射电子束的位向十分敏感。
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表面形貌衬度
• 入射电子束与试样表面法线间夹角愈大,二次电子产
额愈大
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表面形貌衬度
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SEM images of Cu-Ni/EG catalyst
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2.断口形貌观察
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4.纳米结构材料形态观察
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扫描电镜-----衬度原理
原子序数衬度
• 由于试样表面物质原子序数(或化学成分)差别而形
成的衬度。利用对试样表面原子序数(或化学成分)
变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号,可以得
到原子序数衬度图像。
• 背散射电子像、吸收电子像的衬度都含有原子序数衬
度.
• 背散射电子能量较高.离开样品表面后沿直线轨迹运
动。故检测到的信号强度远低于二次电子,因而粗糙
表面的原子序数衬度往往被形貌衬度所掩盖。为此,
对于显示原子序数衬度的样品,应进行磨平和抛光,
但不能浸蚀。
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原子序数衬度像
背散射电子像中重元素区域在图像上是亮区,而轻元
素在图像上是暗区。
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电子探针X射线显微分析
• 电子探针X射线显微分析(简称电子探针显微分析)
(Electron Probe Microanalysis,简称EPMA)是一
种显微分析和成分分析相结合的微区分析,它特别适
用于分析试样中微小区域的化学成分,因而是研究材
料组织结构和元素分布状态的极为有用的分析方法。
• 电子探针镜筒部分的结构大体上和扫描电子显微镜相
同,只是在检测器部分使用的是X射线谱仪,专门用
来检测X射线的特征波长或特征能量,以此来对微区
的化学成分进行分析。
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电子探针X射线显微分析
• 常用的X射线谱仪有两种:
• 一种是利用特征X射线的波长不同来展谱,实现
对不同波长X射线分别检测的波长色散谱仪,简
称波谱仪(Wavelength Dispersive Spectrom
eter,简称WDS)
• 另一种是利用特征X射线能量不同来展谱的能量
色散谱仪,简称能谱仪(Energy Dispersive
Spectrometer,简称EDS)。
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• 波谱仪WDS与能谱仪EDS的性能比较
1) 能量分辨本领
EDS的最佳能量分辨本领为149eV,WDS的能量分辨本领为0.
5nm,相当于5-10eV,可见WDS的成分分辨本领高。
2) 分析速度
EDS可在同一时间内对分析点内的所有X射线光子的能量进行检
测和计数,仅需几分钟时间可得到全谱定性分析结果;而WDS只
能逐个测定每一元素的特征波长,一次全分析往往需要几个小时。
3) 分析元素的范围
WDS可以测量铍(Be)-铀(U)之间的所有元素,EDS以前只能分析
Na以上的元素。 现在也可以分析从铍(Be)-铀(U)的所有元素
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4) 可靠性
EDS结构简单,数据的稳定性和重现性好。但WDS的
定量分析误差(1-5%)远小于EDS的定量分析误差(2
-10%)。
5) 样品要求
WDS在检测时要求样品表面平整,以满足聚焦条件。
EDS对样品表面无特殊要求,适合于粗糙表面的成分
分析。
6)运行成本
EDS小而快,定性为主;
WDS大而慢, 精确定量为主。
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电子探针仪的分析方法及应用
(1) 定点定性分析
• 定点定性分析是对试样某一选定点(区域)进
行定性成分分析,以确定该点区域内存在的元
素。
• 其原理如下:用光学显微镜或在荧光屏显示的
图像上选定需要分析的点,使聚焦电子束照射
在该点上,激发试样元素的特征X射线。
• 用谱仪探测并显示X射线谱。根据谱线峰值位置
的波长或能量确定分析点区域的试样中存在的
元素。
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微区成分分析
温石棉纤维
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(2) 线扫描分折
• 使聚焦电子束在试样观察区内沿一选定直线(穿越粒子或界面)
进行慢扫描,X射线谱仪处于探测某一元素特征X射线状态。显
像管射线束的横向扫描与电子束在试样上的扫描同步,用谱仪
探测到的X射线信号强度(计数率)调制显像管射线束的纵向
位置就可以得到反映该元素含量变化的特征X射线强度沿试样
扫描线的分布。
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(3) 面扫描分析
聚焦电子束在试样上作二维光栅扫描,X射线谱仪处于能探测某一元
素特征X射线状态,用谱仪输出的脉冲信号调制同步扫描的显像管亮
度,在荧光屏上得到由许多亮点组成的图像,称为X射线扫描像或元
素面分布图像。试样每产生一个X光子,探测器输出一个脉冲,显像
管荧光屏上就产生一个亮点。若试样上某区域该元素含量多,荧光屏
图像上相应区域的亮点就密集。根据图像上亮点的疏密和分布,可确
定该元素在试样中分布情况。
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