Transcript 信号測定
MPGD GEM特性 測定結果 2005年10月 4日 内田 智久 Outline テスト環境 GEMの基本特性(P10) P10とArCO2の比較 Test chamber Gas Drift plane HV GEM Pre-amp. Test chamber Triple GEM detector 55Fe (5.9 keV X-ray) Drift plane Drift HV GEM1 Transfer-1 GEM2 Transfer-2 GEM3 Induction Readout pads スペーサーにより間隔を調整 システム構成 NIM system RPN220 Divider Disc. CAMAC system Gate Gen. Gate Gen. CCNET From the pre-amp. GATE GATE BUSY GATE 8 VETO 120 μs delay ADC 2249W GATE Delay 100ns 11 Pre-amp.はカレントアンプ 2249Wで波形を積分 Number of events A sample of spectrum Sigma/Mean≒8.8% ED=0.5kV/cm ΔVGEM=325V ET=1.6kV/cm EI=3.3kV/cm Pedestal=104.6 ADC counts Pulse shape GEM foilからの信号 150mV Readout padからの信号 80ns ΔVGEM dependence 3枚のGEM両面間の電圧を変化させて測定 55Fe (5.9 keV X-ray) 10 mm ΔVGEM GEM1 4 mm GEM2 4 mm GEM3 4 mm ΔVGEM ΔVGEM ΔVGEM 104 ED=0.5kV/cm ET~1.6kV/cm EI ~ 3.2kV/cm 103 ΔVGEMが1V増加するとゲインは約8%増加 102 ED dependence Drift領域の電場を変化させてゲインを測定 55Fe 10 mm (5.9 keV X-ray) ED GEM1 4 mm (1.6kV/cm) GEM2 4 mm (1.6kV/cm) GEM3 4 mm (3.2kV/cm) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) ED dependence 最大値で規格化 ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm EI=3.2kV/cm 強電場ではゲインが下がる ED dependence Electric field map Drift電場が弱い場合 Drift Drift電場が強い場合 Drift GEM表面に入る電気力線が増加 Collection efficiencyが低下する Transfer Transfer S.Bachmann, et. al., NIM A 438(1999) 376-408 ED dependence 最大値で規格化 ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm EI=3.2kV/cm 強電場ではゲインが下がる EI dependence Induction領域の電場を変化させてゲインを測定 55Fe (5.9 keV X-ray) 10 mm (0.5kV/cm) GEM1 4 mm (1.6kV/cm) GEM2 4 mm (1.6kV/cm) GEM3 4 mm EI (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) EI dependence 増加が緩やかに 低電場領域で増加 ΔVGEM=320V ED=0.5kV/cm ET=1.6kV/cm EI dependence Electric field map Induction電場が弱い場合 Induction電場が強い場合 Transfer Transfer GEM表面に戻る電気力線が減少 Extraction efficiencyが飽和する Induction Induction S.Bachmann, et. al., NIM A 438(1999) 376-408 EI dependence ΔVGEM=320V ED=0.5kV/cm ET=1.6kV/cm 高電場領域でも増加 Induction領域で 低電場領域で増加 ガス増幅が行われる ET dependence Transfer領域の電場を変化させてゲインを測定 55Fe (5.9 keV X-ray) 10 mm (0.5kV/cm) GEM1 4 mm ET 4 mm ET GEM2 GEM3 4 mm (1.6kV/cm) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) ET dependence 高電場では減少 低電場では増加 ΔVGEM=320V ED=0.5kV/cm EI=3.2kV/cm ET dependence Drift領域とInduction領域双方の特徴を持っているのではないか。 Drift ED dependence GEM-1 Transfer ED dependence×EI dependence GEM-2 Transfer ED dependence×EI dependence GEM-3 Induction EI dependence Readout pads ET dependence ΔVGEM=320V ED=0.5kV/cm EI=3.2kV/cm 良く一致する Induction gapの影響 Induction領域の間隔を変化させ測定 55Fe (5.9 keV X-ray) 10 mm (0.5kV/cm) GEM1 2 mm (1.6kV/cm) GEM2 2 mm (1.6kV/cm) GEM3 1,2,4 mm (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) EI dependence Induction gap=1, 2, 4 mm 104 103 ほぼ電場強度で決まる 102 Transfer gapの影響 Transfer領域の間隔を変化させ測定 55Fe (5.9 keV X-ray) 10 mm (0.5kV/cm) GEM1 1,2,4 mm GEM2 1,2,4 mm GEM3 2,4 mm(3.2kV/cm) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) (ΔVGEM=320V) ET dependence Transfer gap=1, 2, 4 mm 104 ほぼ電場強度で決まる 103 ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm EI=3.2kV/cm 102 Charge correlation GEM foilからの信号 Readout padからの信号 電荷量の相関はどうなっているのか Charge correlation QFoil (pC) 両チャージ量に相関がある QPad (pC) GEMの基本特性 GEM両面電極間の電圧に Drift領域の電場が上昇すると Collection efficiencyが減少 Induction領域の電場が上昇すると 増幅率が敏感に変化する Extraction efficiencyが増加 GainはΔVGEM+各領域の電場強度でほぼ決まる Readout pad、GEM foil信号の電荷量に相関 ΔVGEM (ArCO2) 104 ED=0.5kV/cm ET~1.6kV/cm EI ~ 3.2kV/cm P10 103 102 ArCO2 (70:30) ED~0.5kV/cm ET~1.8kV/cm EI~3.6kV/cm ED dependence (ArCO2) ΔVGEMが増加したのでEDの大きな方へ移動した P10 ΔVGEM=320V ED=0.5kV/cm EI=3.2kV/cm ArCO2 (70:30) ΔVGEM=360V ED=0.5kV/cm EI=3.6kV/cm EI dependence (ArCO2) 104 103 102 P10 ΔVGEM=320V ED=0.5kV/cm ET=1.6kV/cm ArCO2 (70:30) ΔVGEM=360V ED=0.5kV/cm ET=1.8kV/cm ET dependence (ArCO2) P10 ΔVGEM=320V ΔVGEMが増加したのでETの大きな方へ移動した ArCO2 (70:30) ΔVGEM=360V まとめ GEMの基本特性を測定 GEM foilから信号読み出し 今後さらに詳細な特性を測定し発表する予定 最適動作条件を求める為 •3枚のΔVGEMを独立変化させた時 •2つのETを独立変化させた時、など 付録 ADC calibration ADC calibration Drift velocity of electrons in P10 gas μm/ns 40 20 EI=3.2kV/cm Drift velocity ≒ 25μm/ns (at 3.2kV/cm) 1mm: 40ns 2mm: 80ns 4mm: 160ns で信号が立ち上がる Induction gap = 4mm 160ns 31mV Mean of ADC counts=217.8 EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm Induction gap = 2mm 80ns 85mV Mean of ADC counts=266.2 EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm Induction gap = 1mm 40ns 130mV Mean of ADC counts=276.7 EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm Drift velocity of electrons in ArCO2 gas cm/μs P10 gas 4 2 数kV/cmで飽和 電場の増加により増加 EI=0.72kVcm 120 ns 56 ns EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm EI=3.6kVcm 48 ns EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm EI=5.76kV/cm 40 ns EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm EI=8.64kV/cm 40 ns EI=3.2kV/cm ED=0.5kV/cm ΔVGEM=320V ET=1.6kV/cm