Presentation - 松澤・岡田研究室
Download
Report
Transcript Presentation - 松澤・岡田研究室
オンチップ差動インダクタの
構造による非対称性の解析
○今西大輔,金丸正樹,岡田健一,松澤昭
東京工業大学大学院理工学研究科
電子物理工学専攻
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& of
Okada
Lab.
Tokyo Institute
Technology
発表内容
2
背景・目的
差動インダクタの解析手法
ミスマッチのシミュレーション
まとめ
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
背景・目的
3
オンチップ差動インダクタ
VCOや差動LNA,ミキサで利用
左右のミスマッチが回路性能に大きく影響
例)差動LNA,ミキサのIIP2
周囲のレイアウトによる非対称性からミスマッ
チが生じてしまう
差動インダクタへの周囲レイアウトの影響を評価
する必要がある
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
非対称性を考慮した解析
4
port3(C.T.)
port1
port2
3portのSパラメータ
p型等価回路のパラメータを抽出する
[2] T. Ito, et al., IEEE Automatic RF Techniques Group Conference, 2007
L1,L2を個別に求めることができる
→ミスマッチの評価が可能
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
Yc,Ysubの定義
5
Ymeas
Ymeas Yc Ysub
v3
・インダクタコア部
z1, z2 , M12 Yc
ysub1 0
Ysub 0
ysub2
0
0
2008/09/19
0
0
ysub3
i3
Yc
M12
1 i1
・基板-配線間容量
および基板抵抗・容量
3
z1
v1
ysub1
i2
z2
ysub3
2
v2
ysub2
Ysub
i1
v1
i i2 Ymeas v2 Ymeasv
i
v
3
3
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
Ysubの算出
6
すべてのポートが同電位
→z1,z2には電流は流れない
i1
va
i2 Ymeas va
i
v
3
a
va
va
Yc va Ysub va
v
v
a
a
=0
va
va
Ymeas va Ysub va
v
v
a
a
2008/09/19
Ymeas
v3=va
3
i3
Yc
M12
1 i1
v1=va
z1
z2
i =0
i =0
ysub1
ysub3
i2
2
v2=va
ysub2
Ysub
ysub1 ymeas11 ymeas12 ymeas13
ysub2 ymeas21 ymeas22 ymeas23
y y
y
y
sub3 meas31 meas32 meas33
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
コアインピーダンスの抽出
Yc Ymeas Ysub
から z1, z2 , M12を求める
vz1 v1 v3
i i
Av z1 1 Bi
vz 2 v2 v3
iz 2 i2
i1
v1
i i2 Yc v2 Ycv
i
v
3
3
となる行列 A, B を求める
v1 1
このとき ABT I (疑似逆行列)
1 0 1
1 0 0
例) A B
0 1 1
0 1 0
i1
Zcore を2×2の行列で定義
jM12 vz1
z1
i
Zcore z1
Zcore
z2 vz 2
jM12
iz 2
Av ZcoreBi ZcoreBYcv
A ZcoreBYc
2008/09/19
7
v3 3
i3
Yc
v2 2
i2
vz1
vz2
z1
z2
iz1
iz2
M12
T 1
Zcore (BYc B )
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
周囲のレイアウトによる影響
8
意識せずに回路設計すると非対称な誘導電流ループ
が生じる
鎖交する磁束が左右で異なり,ミスマッチの要因となる
ガードリングは電流
ループが生じないよう
に通常切れている
周囲レイアウトによる
誘導電流ループ
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
巻数によるミスマッチ耐性の違い
L1の磁束のみ鎖交
9
両方の磁束が鎖交
3
1
2
1巻
2巻
1 32
L1の磁束
L2の磁束
奇数巻 → レイアウトからの影響を
受けやすい
レイアウトからの影響を
偶数巻 →
受けにくい
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
L1
1
L2
3
2
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
シミュレーションによる実証
Dx
3 120mm
120mm
10
3
120mm
160mm
1 2
GND
1巻
132
2巻
1
2
3巻
アンソフト社のHFSSを用いた電磁界シミュレーション
シミュレーション結果に非対称性を考慮した解析手法
を用いて検証
Dxを変化させたときのL1,L2のミスマッチを解析
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
シミュレーション結果
1.5
25
1巻
2巻
3巻
20
15
10
3巻
L1
L2
1
L (nH)
L mismatch (%)
11
0.5
1巻
5
2巻
0
0
0
50
100
Dx (mm)
150
200
0
50
100
Dx (mm)
150
2巻でミスマッチの抑制が確認された
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology
200
まとめ
12
非対称性を考慮した解析手法を用いて差動
インダクタの周囲レイアウトからのミスマッチ
への影響をシミュレーションした
1巻,2巻,3巻の差動インダクタについてシ
ミュレーションを行い,2巻において周囲レイ
アウトからのミスマッチへの影響が抑制され
ることが確認された
2008/09/19
D. Imanishi, Tokyo Tech.
Matsuzawa
Matsuzawa
Lab.
& Okada
Lab.
Tokyo Institute
of Technology