Document 1616223

Download Report

Transcript Document 1616223

第四章 单组元相图
及纯晶体的凝固
第一节
第二节
第三节
第四节
单元系相图
纯晶体的凝固
气-固相变与薄膜生长
高分子的结晶特征
第二节 纯晶体的凝固
一、晶核的形成
二、晶体的生长
三、凝固理论的应用举例
一、晶核的形成
1、金属凝固过程简介
凝固:
物质由液态到固态的转变过程称为凝固。
结晶:
如果液态转变为结晶态的固体,这个过程称
为结晶。
纯金属的结晶过程
结晶示意图
气态、液态、固态金属的结构
结构
起伏
金属气态、液态和固态的原子排列示意图
热分析设备示意图
结晶的过冷现象
从温度-时间曲线(冷
却曲线)可见,纯金属结
晶有两个宏观现象: 过冷
和恒温。
纯金属的实际凝固温度
Tn总比其熔点Tm低,这种
现象叫做过冷。
Tm与Tn的差值⊿T叫做
过冷度。
图
纯铁的冷却曲线
2、结晶的热力学条件
G  H  TS
dG  Vdp  SdT
压力可视为常数,dp=0
dG
 S
dT
温度升高,原子活动能力提高,因而原子排列的混
乱程度增加,即熵值增加,系统的自由能随温度的升
高而降低。
T>Tm,GL<GS,
处于液态;
T=Tm,GL=GS,
两相共存;
T<Tm,GL>GS,
处于固相。
吉布斯自由能随温度变化的关系
△T称为过冷度。
△T越大, △G越大,凝固的驱动力越大。
GV  GS  GL
G  H  TS
GV  H S  TS S  ( H L  TS L )
 H S  H L  T (SS  S L )
H L  H S  Lm为熔化潜热,
T  Tm时,GV  0
Lm
Tm  T
T
GV   Lm  T
  L(
)  Lm
m
Tm
Tm
Tm
3、均匀形核
自发形核(均匀形核):在液态金属中,
存在大量尺寸不同的短程有序的原子集
团。当温度降到结晶温度以下时,短程
有序的原子集团变得稳定,不再消失,
成为结晶核心。这个过程叫自发形核。
非自发形核(非均匀形核) :实际金属内
部往往含有许多其它杂质。当液态金属
降到一定温度后,有些杂质可附着金属
原子,成为结晶核心,这个过程叫非自
发形核。
均匀形核
非均匀形核
均匀形核的能量条件
在液态金属中,时聚时散的近程有序的原子集团是形成
晶核的胚芽,叫晶胚。
在过冷条件下,晶胚形成时,系统自由能变化包括体积
自由能的下降和表面能的增加。
G  GV V    A
4 3
2
G  r GV  4r 
3
图 晶胚形成时系统自由能的变化与半径的关系
r<r*,其进一步长大将导致体系
总自由能增加,因此这种晶胚不能
成为晶核,会重新熔化;
r>r*,其进一步长大将导致体系
自由能减小,因此半径大于r* 的晶
胚能够成为晶核;
r=r*,其长大的趋势和熔化的趋
势相等。
图 晶胚形成时系统自
由能的变化与半径的关系
把半径恰为r*的晶核称为临界晶
核,而r*称为晶核的临界半径。
4 3
2
G  r GV  4r 
3
dG
 4r 2 GV  8r
dr
dG
0
dr
随着过冷度
Lm T
的增加,临
GV  
Tm
界晶核半径
减小,形核
2Tm
rc 
的几率增加。
Lm T
r>r*的晶核长大时,虽然可以使系统自由能下降,但形
成一个临界晶核本身要引起系统自由能增加⊿GC,说明临
界晶核的形成是需要能量的。
2
rc  
GV
4 3
G  r GV  4r 2
3
16 3Tm2 1
16 3
Gc 

 Ac  
2
2
3(GV )
3( Lm T )
3
形成临界晶核时,液、固两相之间的自由能差只提供所需
要的表面能的三分之二,另外的三分之一则需由液体中的能
量起伏来提供。
所谓能量起伏是指体系中微小体积所具有的能量偏离体系
的平均能量,而且微小体积的能量处于时起时伏,此起彼优
状态的现象。
能量起伏包括两个含义:
一是在瞬时,各微观体积的
能量不同,二是对某一微观
体积,在不同瞬时,能量分
布不同。在具有高能量的微
观地区生核,可以全部补偿
表面能,使⊿G<0。
图
液相的能量起伏
4、形核率
形核率受两个互相矛盾的因素控制:一方面从热力学
考虑,过冷度愈大,晶核的临界半径及临界形核功愈小,
因而需要的能量起伏小,则形核率愈高;
但另一方面从动力学考虑,过冷度愈大,原子活动能
力愈小,原子从液相转移到临界晶核上的几率减小,不利
于稳定晶核形成,则形核率愈低。
综合考虑上述两个方面,形核率可用下式表示:
N=N1·N2
式中N为总的形核率,N1为受形核功影响的形核率因子,
N2为受原子扩散影响的形核率因子。
图 温度对N1、N2的影响(a)和形核率与温度的关系(b)
5、非均匀形核
图 非均匀形核示意图
2 L
rc  
GV
Gc非
2  3 cos   cos 
 Gc均
(
)
4
3
图
不同润湿角的晶核形貌
当θ=0时,则⊿G* 非 =0,说明固体杂质或型壁可作为现
成晶核,这是无核长大的情况,如图a所示。
当θ=π时,则⊿G*非=⊿G*均。
当
0<θ<π时,G*非<⊿G*均,这便是非均匀形核的条件,
如图b所示。
非均匀形核时的形核率表达式与均匀形核相似。只是由于
G*非<⊿G*均,所以非均匀形核可在较小过冷度下获得较高
的形核率。
非均匀形核的最大形核率小于均匀形核。其原因是非均匀
形核需要合适的“基底”,而基底数量是有限的,当新相晶
核很快地覆盖基底时,使适合新相形核的基底大为减少。
不是任何固体杂质均能作为非均匀形核的基底促进非均匀
形核。只有那些与晶核的晶体结构相似,点阵常数相近的固
体杂质才能促进非均匀形核,这样可以减小固体杂质与晶核
之间的表面张力,从而减小θ角以减小⊿G*非。
非均匀形核功与均匀形核功对比的示意图
均匀形核率和非均匀形核率随过冷度变化的对比
二、晶体的生长
1、晶体生长概述
一旦核心形成后,晶核就继续长大形成晶粒。
系统总自由能随晶体体积的增加而下降是晶体长大的驱动力。
晶体的长大过程可以看作是液相中原子向晶核表面迁移、液固界面向液相不断推进的过程。
2、液-固界面的微观结构
图 光滑界面(a)和粗糙界面(b)的微观和宏观结构示意图
固-液界面(Solid-liquid interface)按微观结构可以分为光
滑界面(Smooth interface)和粗糙界面(Rough interface)两种。
(1)光滑界面是指固相表面为基本完整的原子密排面,固
液两相截然分开,从微观上看界面是光滑的。但是从宏观来看,
界面呈锯齿状的折线。
(2)粗糙界面在微观上高低不平、粗糙,存在几个原子厚
度的过渡层。但是宏观上看,界面反而是平直的。
光滑界面和粗糙截面是根据微观结构进行分类的,
光滑界面在微观上是光滑的,在宏观上是粗糙的;
粗糙界面在微观上是粗糙的,在宏观上是光滑的。
3、具有粗糙界面物质的长大机制
图 晶体的垂直长大方式示意图
具有粗糙界面的物质,液-固相界面上有大约一半的原子
位置是空的,液相中的原子可随机地添加在界面的空位置上
而成为固相原子。
晶体的这种生长方式称为垂直生长机制,其长大速度很快。
4、具有光滑界面物质的长大机制
(1)二维晶核台阶生长模型
需要较大形核功
长大速率很慢
首先在平整界面上通过均匀形核形成一个具有单原子厚度
的二维晶核;
然后液相中的原子不断地依附在二维晶核周围的台阶上,
使二维晶核很快地向四周横向扩展而覆盖了整个晶体表面;
接着在新的界面上又形成新的二维晶核,并向横向扩展而
长满一层。
(2)晶体缺陷台阶生长机制
如果结晶过程中,在晶体表面存在着垂直于界面的螺位
错露头,那么液相原子或二维晶核就会优先附在这些地方。
螺型位错长大机制
螺旋长大的SiC晶体
熔化熵是表征材料晶体生长特性的基本参数,常以下式表示:
S f / k 
H f
kTe
(1)熔化熵<2
粗糙界面
垂直生长机制
(2)熔化熵2-3.5
光滑界面
台阶生长模型
(3)熔化熵比较大时
生长速度很慢,很大程度上取决于形核速度而不是生
长速度。
5、温度梯度对晶体生长的影响
纯金属凝固时晶体的生长形态取决于界面的微观结构和
界面前沿液相中的温度分布。
液态金属在铸模中凝固时,
由于模壁温度比较低,使靠近
模壁的液体首先过冷而凝固;
在铸模中心的液体温度最
高,液体的热量和结晶潜热通
过固相和模壁传导迅速散出;
(a) 正温度梯度
由此造成了液-固相界面前
沿液体的温度分布为正的温度
梯度。
在缓慢冷却条件下,
液体内部的温度分布均匀
并同时过冷到某一温度;
液-固相界面上所产生
的结晶潜热将同时通过固
相和液相传导散出;
导致固液界面的温度
比两边都要高,由此使得
界面前沿的液体中产生负
的温度梯度。
(b) 负温度梯度
(一)在正的温度梯度下
1)粗糙界面时
其生长界面以垂直长
大方式推进。
由于前方液体温度高,
所以生长界面只能随前
方液体的逐渐冷却而均
匀地向前推移。
整个液-固相界面保
持稳定的平面状态,不
产生明显的突起。
(一)在正的温度梯度下
2)光滑界面时
其生长界面以小平
面台阶生长方式推进。
小平面台阶的扩展
同样不能伸入到前方温
度高于Tm的液体中去。
因此,从宏观来看
液 - 固 相 界 面 似 与 Tm 等
温线平行,但小平面与
Tm等温线呈一定角度。
(二)在负的温度梯度下
晶体生长界面一旦出现局部凸出生长,由于前方液体
具有更大的过冷度而使其生长速度增加。
生长界面会形成许多伸向液体的结晶轴,同时在晶轴
上又会发展出二次晶轴、三次晶轴等等。
晶体的这种生长方式称为树枝状生长。在树枝晶生长时,
伸展的晶轴具有一定的晶体取向以降低界面能。
在负的温度梯度下,对于粗糙界面结构的金属晶体,明
显以树枝状方式生长。
在负的温度梯度下,对于光滑界面结构的晶体,仍以平
面生长方式为主(即树枝状生长方式不很明显),某些亚金
属则具有小平面的树枝状结晶特征。
三、凝固理论的应用举例
1、凝固后细晶的获得
细化晶粒的好处:
提高强度、硬度、塑性和韧性。
工业上将通过细化晶粒来提高材料强度的方法称
为细晶强化。
细化铸件晶粒的基本思路:
形成足够多的晶核,使它们在尚未显著长大时便相
互接触,完成结晶过程。
细化铸件晶粒的基本途径:
(1)提高过冷度
过冷度增加,形核率N与长大线速度G均增加,但形核
率增加速度高于长大线速度增加的速度,因此,增加过冷度
可以使铸件的晶粒细化。
在工业上增加过冷度是通过提高冷却速度来实现的:
采用导热性好的金属模代替砂模;在模外加强制冷却;在砂
模里加冷铁以及采用低温慢速浇铸等都是有效的方法。
对于厚重的铸件,很难获得大的冷速,这种方法的应
用受到铸件尺寸的限制。
(2)加入形核剂做变质处理
外来杂质能增加金属的形核率并阻碍晶核的生长。
如果在浇注前向液态金属中加入某些难熔的团体颗粒,
会显著地增加晶核数量,使晶粒细化。这种方法称为变质
处理,加入的难熔杂质叫变质剂。
变质处理是目前工业生产中广泛应用的方法。如往铝和
铝合金中加入锆和钛;往钢液中加入钛、锆、钒;往铸铁
铁水中加入Si-Ca合金都能达到细化晶粒的目的。
图 Al-Mg合金变质处理前后的对照
(3)振动、搅拌
在浇注和结晶过程中实施搅拌和振动,也可以达到细化
晶粒的目的。
搅拌和振动能向液体中输入额外能量以提供形核功,促
进晶核形成;可使结晶的枝晶碎化,增加晶核数量。
搅拌和振动的方法有机械、电磁、超声波法等。
2、单晶体的制备
单晶体就是由一个晶粒组成的晶体。
单晶硅、锗是制造大规模集成电路的基本材料。
近百种氧化物单晶体如TeO2,TiO2,LiTiO3,LiTaO3,
PbGeO3,KNbO3等可用于制造磁记录、磁贮存原件、光记
忆、光隔离、光变调等光学和光电元件和制造红外检测。
制取单晶体的基本原理就是保证液体结晶时只形成一个
晶核,再由这个晶核长成一整块单晶体。
(1)垂直提拉法
先用高频或电阻加热方法
熔化坩埚中的材料,使液体保
持稍高于熔点的温度。
然后将夹有一个籽晶的杆
下移,使籽晶与液面接触。
缓慢降低炉内温度,将籽
晶杆一边旋转一边提拉,使籽
晶作为唯一的晶核在液相中结
晶,最后成为一块单晶体。
图 拉制单晶的原理图
(2)尖端形核法
将材料装入一个带尖头
的容器中熔化。
然后将容器从炉中缓慢
拉出。
尖头首先移出炉外缓冷,
在尖头部产生一个晶核,
容器向炉外移动时便由这
个晶核长成一个单晶体。
图 下移法制造单晶原理图
3、非晶态合金
在特殊的冷却条件下金属可能不经过结晶过程而凝固成
保留液体短程有序结构的非晶态金属,又称为金属玻璃。
非晶态金属具有一系列突出的性能,如具有很高的室温
强度、硬度和刚度,具有良好的韧性和塑性。
由于非晶态无晶界、相界、无位错、无成分偏析,所以
有很高的耐蚀性及高电阻率、高导磁率、低磁损和低的声
波衰减率等特性,广泛用于高技术领域。
制备方法:快速冷却(107℃/S)
离心急冷法;
扎制急冷法。
微晶合金
利用急冷技术可以获得晶粒尺寸达微米(µm)和纳米(nm)
的超细晶粒合金材料,我们称之为微晶合金和纳晶合金。
微晶结构材料因晶粒细小、成分均匀,空位、位错、层
错密度大,形成了新的亚稳相等因素而具有高强度、高硬度、
良好的韧性、较高的耐磨性、耐蚀性及抗氧化性、抗幅射稳
定性等优良性能。
微晶合金还具有良好的物理性能,如高的电阻率、较高
的超导转变温度、高的矫顽力等。
微晶玻璃
本节重点与难点
1、晶体凝固的热力学条件;
2、均匀形核时的临界形核功以及临界晶核半径的计算;
3、非均匀形核的概念及形状因子;
4、形核率的概念及其影响因素;
5、微观粗糙界面的垂直生长机制,微观光滑界面的二维
生长机制、螺型位错生长机制;
6、凝固过程中温度梯度对晶体生长的影响;
7、凝固理论的应用:细化晶粒、单晶生长等。