Transcript Παρουσίαση "Ηλιόσφαιρα Α.Ε."

HelioSphera A.E.
Παραγωγή Φωτοβολταϊκών Υψηλής Τεχνολογίας στην Ελλάδα
Δρ. Αλέξανδρος Ζαχαρίου, Απρίλιος 2010
Λ. Κηφισίας 37A (Golden Hall - Κτίριο A)
151 23, Μαρούσι
T: +30 210 6412009
E: [email protected] | W: www.heliosphera.com
CONFIDENTIAL
Πού βρισκόμαστε σήμερα;
•
Ν.3468/06 & 3734/09: Εγγυημένη FiT (0,40-0,50 €/kWh).
•
Κίνητρα εγκαταστάσεων στον Οικιακό Τομέα (0,55 €/kWh για 25 χρόνια).
•
Εν αναμονή νέου νόμου (προς ψήφιση στη Βουλή τον Απρίλιο 2010), που
θα απλοποιεί την αδειοδοτική διαδικασία.
•
Προσαρμογή του Αναπτυξιακού Νόμου στα νέα δεδομένα τιμών
(φορολογικά κίνητρα;)
CONFIDENTIAL
2
Ανάπτυξη της ελληνικής αγοράς την τελευταία 10ετία
64
54.7
56
48
MWp
40
32
24
19.7
16
8
1.0
1.6
2.4
4.5
3.3
5.4
9.2
6.7
0
2000
2001
2002
2003
2004
Ετήσια Εγκατεστημένη Ισχύς
CONFIDENTIAL
2005
2006
2007
2008
2009
Συνολική εγκατεστημένη ισχύς
3
Σενάρια ανάπτυξης έως το 2020
Annual PV market in Greece
2008-2020
900
800
700
MWp
600
500
400
300
200
100
0
2008
2009
2010
2011
2012
2013
2014
2015
2016
2017
2018
2019
2020
Γραφειοκρατικό
10
36
52
70
70
70
70
70
70
70
70
70
70
Σημερινές τάσεις
10
36
102
125
145
165
190
225
250
275
300
325
350
12% PV το 2020
10
36
117
250
400
450
585
650
750
775
800
825
850
CONFIDENTIAL
4
Γενικές πληροφορίες - HelioSphera
Εταιρία
• Κεντρικά γραφεία στην Αθήνα
• Ίδρυση το 2007 για την ανάπτυξη μονάδας παραγωγής 60MWp thin film στην Τρίπολη
–
–
–
–
Έναρξη παραγωγής Q4 2009 πλήρης δυναμικότητα Q4 2010
160+ θέσεις εργασίας, 200+ κατασκευαστικές θέσεις εργασίας
30 μηχανικοί της Oerlikon για 2 χρόνια στην Τρίπολη
500.000 πλαίσια/χρόνο, 1.000 φορτηγά/χρόνο
• Τεχνολογία Oerlikon Solar micromorph
Τεχνολογία
– Μεγαλύτερη μονάδα παραγωγής micromorph στον κόσμο προσφέροντας συνδυασμό
υψηλής απόδοσης (~9.3%) και μέγεθος πλαισίου (μέχρι 130 Wp/πλαίσιο)
– Προμήθεια πλήρους γραμμής και υποστήριξη στη λειτουργία της Ελβετικής Oerlikon
– Ανταγωνιστικό κόστος BOS
Διοίκηση
• Έμπειρη ομάδα διοίκησης και ισχυροί επενδυτές
– CEO (ex-McKinsey, Goldman Sachs), COO (ex-Viohalco Group) and CFO (ex-Arthur
Andersen, Friesland Royal Hatziioannou Group )
– Επενδυτές: Plainfield Asset Management, Sciens Capital και Γ. Φακίδης
Επένδυση
CONFIDENTIAL
• 193εκ.€ επενδυμένο κεφάλαιο
– 97 εκ. € τραπεζικό δάνειο
– 66 εκ. € ίδια κεφάλαια ιδρυτών
– 30 εκ. € κρατική επιδότηση
5
Εγκαταστάσεις HelioSphera στην Τρίπολη
Εργοστάσιο Heliosphera
Clean Room
Μονάδες παραγωγής Oerlikon
CONFIDENTIAL
Πλατφόρμα φορτώσεων
6
Πλεονεκτήματα τεχνολογίας
Micromorph
Κρυσταλλικό
CdTe
Διαθεσιμότητα πρώτων υλών



Τοξικότητα πρώτων υλών



Δυνατότητα μείωσης κόστους παραγωγής



Ευρύ φάσμα απορρόφησης ηλ. ακτινοβολίας



Συντελεστής θερμ. -> υψηλότερες αποδόσεις σε θερμά
κλίματα



Υψηλή απόδοση στη διάχυτη ακτινοβολία



Φαινόμενο Hot-spot σε συνθήκες μερικής σκίασης



Απώλειες στις συνδέσεις στοιχείων του Φ/Β πλαισίου



Χωρίς πλαίσιο αλουμινίου



Συστήματα στήριξης από ελ. Εταιρίες



Κόστος περιφερειακού εξοπλισμού



CONFIDENTIAL
7
Χαμηλό κόστος παραγωγής
Κρυσταλλικά πλαίσια – Σύνθετη παραγωγική διαδικασία
Cast (multy)
Ingots
Pull (mono)
Φ/Β στοιχεία
Συναρμολόγηση
πλαισίων
Thin film micromorph – Απλή διαδικασία σε ένα στάδιο
Αυτόματη μονολιθική διαδικασία
2-3 h
Γυαλί
CONFIDENTIAL
Φ/Β πλαίσιο
8
Διπλό στρώμα Φ/Β στοιχείων – ευρύτερο φάσμα απορρόφησης
Structure μ-morphous Module
Positive Effect Two Layers
–
–
Δομή
•
Δύο στρώσεις: άμορφο & μικροκρυσταλλικό πυρίτιο
•
50% υψηλότερη απόδοση από τα συμβατικά πλαίσια α-Si
Πλεονέκτημα διπλής στρώσης
•
Το άμορφο στρώμα απορροφά το ορατό φάσμα
•
Το μικροκρυσταλλικό απορροφά επιπλέον ακτινοβολία στο
υπέρυθρο
1.- Εμπρόσθιο γυαλί
2.- Επίστρωση TCO
3.- Άμορφο πυρίτιο
4.- Μικροκρυσταλλικό πυρίτιο
5.- Οπίσθια ηλεκτρική επαφή
6.- Πολυμερές ενθυλάκωσης
7.- Οπίσθιο γυαλί
CONFIDENTIAL
9
Συντελεστής θερμοκρασίας – υψηλότερες αποδόσεις σε θερμά κλίματα
Συντελεστές θερμοκρασίας ισχύος [%/οC]
αSi
0.2
μSi
0.24
CdTe
0.25
CzHIT
0.3
CIS
0.35
CzSi
0.44
EFG
0.47
mcSi
0.47
0
CONFIDENTIAL
0.1
0.2
0.3
0.4
0.5
10
Απορρόφηση διάχυτης ακτινοβολίας
Μεταβολή +/-30o στην κλίση ή προσανατολισμό έχει αμελητέα επιρροή
στην απόδοση των Φ/Β πλαισίων micromorph χάρη στην απορρόφηση
της διάχυτης ακτινοβολίας.
CONFIDENTIAL
11
Φαινόμενο Hot-spot λόγω μερικής σκίασης
•
Αδύνατο να σκιαστεί ολόκληρο στοιχείο
•
Η παραγωγή των Thin Film συνεχίζεται ακόμα και σε συνθήκες μερικής
σκίασης
•
Αποτροπή φαινομένου hot spot
Κρυσταλλικά πλαίσια
Σημαντική έως συνολική
απώλεια ισχύος με τη
σκίαση ενός μόνο στοιχείου
CONFIDENTIAL
Thin Film πλαίσια
Μερική απώλεια ισχύος
12
Συστήματα στήριξης
“Atlas” – Εγκατάσταση στο έδαφος
CONFIDENTIAL
13
Συστήματα στήριξης
“Venus” – Ενσωμάτωση σε στέγες
CONFIDENTIAL
14
Κόστος BΟS
1.6
1.4
1.2
€/Wp
1
Others
Cabling
Inverters
Structures
0.8
0.6
0.4
0.2
0
Crystalline Micromorph Amorphous
Τεχνολογία πλαισίου
CdTe
Παραδοχές: Εγκατάσταση στο έδαφος, 1 MWp
Εγκατάσταση με το κλειδί στο χέρι, περιλαμβάνει έργα πολ. Μηχ., δεν περιλαμβάνει κόστος
γης και συντήρηση/λειτουργία
CONFIDENTIAL
15
Εξωστρέφεια
•
Κίνητρο επένδυσης η ελληνική αγορά – Στόχος >5ΜWp τo 2010
•
193εκ€ επένδυση – από τις μεγαλύτερες στην Ελλάδα την τελευταία 10ετία,
άντληση ξένων κεφαλαίων
•
Διεθνής εταιρία με συνεργασίες στην Ευρώπη και την Αμερική
•
Σημαντική διείσδυση σε αγορές του εξωτερικού:
– Γερμανία (σύμβαση 10MWp το 2010, πρώτο έργο 2.77ΜWp σε εξέλιξη)
– Ιταλία, Γαλλία, Ισπανία, Βέλγιο, Ισραήλ…
•
Δεύτερη μονάδα στην Ελλάδα ή/και στις ΗΠΑ – 180MWp
CONFIDENTIAL
16
Ευχαριστώ για την προσοχή σας!
CONFIDENTIAL
17