Transcript 第二章
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半导体器件原理
主讲人:仇志军
本部物理楼435室 55664269
Email: [email protected]
助教:熊丝纬 [email protected]
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.6 频率特性
2.7 开关特性
2/149
3/149
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布1
2.1.1 晶体管的基本结构
发射区 基区 集电区
E
n+
p
C
发射区 基区 集电区
E
p+
n
B
E
npn
p
B
C
B
n
E
C
B
pnp
C
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2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布2
2.1.2 制造工艺
合金管
平面管
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2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布3
2.1.3 杂质分布
均匀基区
缓变基区
自建电场
扩散
扩散型晶体管
基区内载流
子传输方式
扩散 +
漂移
漂移型晶体管
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.6 频率特性
2.7 开关特性
6/149
2.2 电流放大原理1
2.2.1 放大条件
E
C
n+
Ie
p
RE
n
Ic
B
Vbe
Ib
Vcb
RL
放大条件:
1、Wb << Lnb
2、发射结正偏
3、集电结反偏
7/149
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2.2 电流放大原理2
2.2.2 电流传输
I e I ne I pe
I c I nc I cbo
I b I pe I vb I cbo
Ine Inc
Ie Ib Ic
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2.2 电流放大原理3
2.2.3 共基极电流放大系数
Ie Ib Ic
Ic
<1
I e Vcb 0
1
I c I ne I nc I c
* *
I e I e I ne I nc
发射效率(注入比)
基区传输系数
Ie
Vbe Ib
Ic
Vcb
集电区倍增因子
I ne
I ne
1
1 (当 Ne / Nb >> 1 时)
I e I ne I pe 1 I pe I ne
I nc I ne I vb
I vb
1
I ne
I ne
I ne
*
1
(当 Wb << Lnb 时)
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2.2 电流放大原理4
2.2.4 共射极电流放大系数
Ic
Ic
Ib V
Ie Ic 1
ce
>> 1
Ib
Ic
Vce
Vbe
Ie
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.6 频率特性
2.7 开关特性
11/149
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2.3 直流特性1
2.3.1 晶体管中的少子分布
Ecp
N+
P
q(VD –V)
N
Efp
x
-x1 0
Wb x2
Ecp
qV
Ecn p
Ef
Ef n
Evp
Evp
q(VD -V)
qV
Evn
x p xn
n pb (0) n 0pb exp qVbe kT
n pb (Wb ) n 0pb exp qVbc kT 0
0
pne ( x1 ) pne
exp qVbe kT
x2
0
pnc ( x2 ) pnc
exp qVbc kT 0
Ecn
Efn
Evn
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2.3 直流特性2
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
假设:
突变结 一维(Aje = Ajc = A)
外加偏压全加在结上 忽略势垒区的产生-复合电流
小注入 基区均匀掺杂
1. 少子分布
(1) 基区
d 2 n pb ( x ) n pb ( x ) n 0pb
2
L
nb Dnb n
0
dx 2
L2nb
n pb (0) n 0pb exp qVbe kT
n pb (Wb ) n 0pb exp qVbc kT 0
0
Wb
n pb (0) sinh Wb x Lnb n pb (Wb ) sinh x Lnb
n pb ( x ) n
sinh Wb Lnb
Wb << Lnb
0
pb
n 0pb exp qVbe kT 1 x Wb
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2.3 直流特性3
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
1. 少子分布
(2) 发射区
d 2 pne ( x ) pne ( x ) pne0
0
2
2
dx
Lpe
We >> Lpe
0
pne ( x1 ) pne
exp qVbe kT
0
pne ( ) pne
0
pne ( x) pne
pne ( x1 ) exp x x1 Lpe
-x1 0
Wb x
2
We
We << Lpe 且 pne ( x1 We ) 0
0
pne ( x ) pne
exp qVbe kT 1 x x1 We
-x1 0
Wb x
2
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2.3 直流特性4
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
1. 少子分布
(3) 集电区
d 2 pnc ( x ) pnc ( x ) pnc0
0
2
2
dx
Lpc
0
pnc ( x2 ) pne
exp qVbc kT 0
0
(Wc >> Lpc )
pnc ( ) pnc
0
1 exp x x2 Lpc
pnc ( x ) pnc
-x10
Wb x
2
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2.3 直流特性5
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
2. 电流密度 (只计算扩散电流)
(1) 基区中电子电流
J nb
dn pb ( x )
qDnb
dx
-x10
Wb x
2
n pb (0) sinh Wb x Lnb n pb (Wb ) sinh x Lnb
n pb ( x ) n
sinh Wb Lnb
0
pb
qDnb n pb (0) coshWb x Lnb n pb (Wb ) cosh x Lnb
Lnb
sinh Wb Lnb
2.3 直流特性6
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2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
2. 电流密度 (只计算扩散电流)
(1) 基区中电子电流
Jnb(0)
Jnb(Wb)
qDnb n pb (0) cosh Wb Lnb n pb (Wb )
J nb (0)
Lnb
sinh Wb Lnb
qDnb n pb (0) n pb (Wb ) cosh Wb Lnb
J nb (Wb )
Lnb
sinh Wb Lnb
J nb (0) J nb (Wb )
0
n 0pb exp qVbe kT
Wb
a
qDnb n pb (0) n pb (Wb )coshWb Lnb 1 J
vb
Lnb
sinhWb Lnb
Wb << Lnb
0
b
0
Wb
qDnb n 0pb
J nb ( x )
exp qVbe kT
Wb
= 常数 = Jnb(0) = Jnb(Wb)
问题:上述结论也可从载流子线性分布直接推出.
问题:考虑复合时,少子如何分布?a 还是 b ?
2.3 直流特性7
18/149
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
2. 电流密度 (只计算扩散电流)
(2) 发射区中空穴电流
We >> Lpe
0
pne ( x) pne
pne ( x1 ) exp x x1 Lpe
qDpe pne0
exp qVbe kT 1
J pe ( x1 )
Lpe
(3) 集电区中空穴电流
Wc >> Lpc
0
1 exp x x2 Lpc
pnc ( x ) pnc
qDpc pnc0
exp qVbc kT 1
J pc ( x2 )
Lpc
x2
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2.3 直流特性8
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
3. Ie、Ib、Ic 表达式
(1) Ie 表达式
J e J ne ( x1 ) J pe ( x1 ) J nb (0) J pe ( x1 )
0
Dnb n 0pb
Wb D pe pne
qVbe 1
q
coth
exp
L
L
L
kT
nb
pe
nb
qDnb n 0pb
Wb
qVbc
csc h
exp
1
Lnb
kT
Lnb
qV
qV
I e J e A a11 exp be 1 a12 exp bc 1
kT
kT
0
Dnb n 0pb
Wb D pe pne
a11 qA
coth
L
L
L
nb
pe
nb
x2
E
C
Ie
Ic
Ib
qADnb n 0pb
W
a12
csc h b
Lnb
Lnb
B
x
Je , Jc
20/149
2.3 直流特性9
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
3. Ie、Ib、Ic 表达式
(1) Ie 表达式
Wb << Lnb 时,且放大偏置
0
0
Dnb n 0pb D pe pne
qVbe qDnb n pb
J e q
1
exp
W
L
kT
Wb
b
pe
qVbc
exp kT 1
qVbe
qVbc
I e a11 exp
1 a12 exp
1
kT
kT
0
Dnb n 0pb D pe pne
a11 qA
W
L
b
pe
qADnb n 0pb
a12
Wb
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2.3 直流特性10
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
3. Ie、Ib、Ic 表达式
(2) Ic 表达式
J c J nc ( x2 ) J pc ( x2 ) J nb (Wb ) J pc ( x2 )
qDnb n 0pb
W
qV
csc h b exp be 1
Lnb
kT
Lnb
0
Dnb n 0pb
D
p
Wb
qVbc 1
pc nc
q
coth
exp
L pc
kT
Lnb
Lnb
qVbe
qVbc
I c J c A a21 exp
1 a22 exp
1
kT
kT
x2
E
C
Ie
Ic
Ib
0
Dnb n 0pb
qADnb n 0pb
Wb D pc pnc
Wb
coth
a21
csc h
a12 a22 qA
L
L
L
Lnb
L
nb
pc
nb
nb
B
x
Je , Jc
2.3 直流特性11
22/149
2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程
3. Ie、Ib、Ic 表达式
(2) Ic 表达式
Wb << Lnb 时,且放大偏置
0
Dnb n 0pb D pc pnc
qDnb n 0pb
qVbe
qVbc
Jc
exp
1
q
exp
1
Wb
Lpc
kT
kT
Wb
qVbe
qVbc
I c a21 exp
1 a22 exp
1
kT
kT
qADnb n 0pb
a21
a12
Wb
0
Dnb n 0pb D pc pnc
a22 qA
W
L
b
pc
23/149
2.3 直流特性12
2.3.3 、 表达式
1. 表达式
= * *
(1)
J ne
1
1
J e 1 J pe J ne 1 J pe ( x1 ) J ne (0)
Dpe p Lnb
Wb
1
tanh
Dnb n Lpe
Lnb
0
ne
0
pb
pb N b Wb
1
N
L
ne
e
pe
1
1
x2
Dpe p Wb
1
D n L
nb
pe
e Wb
1
L
b
pe
0
ne
0
pb
1
We < Lpe
1
(Wb < Lnb)
e Wb
1
b We
1
24/149
2.3 直流特性13
2.3.3 、 表达式
L
1. 表达式
W
W
= * *
薄层电阻推导示意图
(1)
R
e Wb
1
L
b
pe
t
电流I
L
n W
n n Rs
S
t W
t
1
We < Lpe
定义方块电阻
Rsh ,e e We
Rsh,b b Wb
要 则要 Rsh,e/Rsh,b Ne/Nb
Rsh ,e
1
Rsh ,b
1
25/149
2.3 直流特性14
2.3.3 、 表达式
1. 表达式
= * *
(2) *
J nc J nb (Wb )
x
J ne
J nb (0)
qDnb n 0pb
Wb
J
(
0
)
coth
exp( qVbe kT )
放大偏置时
nb
Lnb
Lnb
qDnb n 0pb
Wb
J nb (Wb )
csc h
exp( qVbe kT )
Lnb
Lnb
*
2
2
J
(
W
)
W
W
* nb b sec h b 1 b2
J nb (0)
2 Lnb
Lnb
要 * 则要 Wb
Lnb nb
2.3 直流特性14
26/149
2.3.3 、 表达式
1. 表达式
= * *
(3) * = 1
e Wb
1
L
b
pe
2
W
* *
b
1 2
2 Lnb
1
2
J
(
W
)
W
W
* nb b sec h b 1 b2
J nb (0)
2 Lnb
Lnb
2
e Wb
W
W
1
1 e b b2 1
L
b L pe 2 Lnb
b
pe
2. 表达式
eWb W
1
1 1 b Lpe 2 L
2
b
2
nb
1
>> 1
27/149
2.3 直流特性15
2.3.4 理想晶体管的输入、输出特性
1. 共基极
Ie
IE / mA
Vbe
Ic
Ib
VCB
VBE / V
输入特性
输出特性
Vcb
28/149
2.3 直流特性16
2.3.4 理想晶体管的输入、输出特性
2. 共射极
Ic
Ib
Vce
Vbe
Ie
VCE
输出特性
输入特性
29/149
2.3 直流特性17
2.3.5 晶体管的非理想现象
1. 发射结结面积对 的影响
Ine’
n+
本征基区:Wb << Lnb
Ajeo
Ine
n
非本征基区:Wb >> Lnb
p
Aje*
I pe J pe A*je Ajeo
I ne
J ne A*je
J pe A Ajeo Ajeo
I ne
1
*
'
*
I ne I pe I ne
J ne Aje
Aje
1
1
Ajeo J pe
1 * 1
Aje J ne
*
je
要 则要 Ajeo/ Aje*
结面积大、结浅
1
30/149
2.3 直流特性18
2.3.5 晶体管的非理想现象
2. 基区宽度调制效应(Early效应)
N+
P
Wb*
N
Wb
Vcb Wb* dnb/dx
Ine Ic
qADnb n 0pb
I c I ne
exp qVbe kT
*
Wb
I c
I
I Wb
I Wb
I
c c
c
c
Vce Vcb Wb Vcb
Wb Vcb
VA
Early 电压
VA Wb
影响输出电阻
Wb
Vcb
Wb
对非均匀基区晶体管 V A
0
N b ( x )dx
Wb
N b (Wb )
Vcb
2.3 直流特性19
31/149
2.3.5 晶体管的非理想现象
3. 发射结复合电流影响
Ie
Ipe
Ire
Ivb
Ic
ni
exp qVbe 2kT
2
1
I re q e An i exp qVbe 2kT
2
I e I ne I pe I re
I ne
I ne I pe I re
复合率 U
Ine
0
-x1
Vbe
2
势垒区 np ni exp qVbe kT > ni2
qADnb n 0pb
I ne
exp qVbe kT
Wb
eWb N b eWb
1
exp qVbe 2kT
2
b Lpe 2ni Lnb
1
32/149
2.3 直流特性20
2.3.5 晶体管的非理想现象
3. 发射结复合电流影响
发射结复合电流影响
增益 随电流 Ic 变化
Ic
I nc
I ne
I b I pe I re I vb I pe I re I vb
1
I pe I vb I re exp qV mkT
be
I ne I ne I ne exp qV kT
be
e Wb
b L pe
Wb2
2 L2nb
qV
exp 1 m 1 be
kT
d log I c d I c d dVbe
1 1 m
d log I c dIc dVbe dIc
2.3 直流特性21
33/149
2.3.5 晶体管的非理想现象
4. 大注入效应之一 Webster 效应
基区大注入条件:npb(0) ~ Nb
Ex.:Si npn晶体管:若 Nb = 1017 cm-3 ,
计算当 npb(0) = 0.1Nb 时所需的发
射结偏压Vbe .(答案:0.76 V)
qADnb n 0pb
I c I ne
exp qVbe kT
Wb
Dnb 2Dnb
qVbe/kT qVbe/ 2kT
I c I ne qA2 Dnb
I pe
ni
expqVbe 2kT
Wb
qDpe pne0
exp qVbe kT
Lpe
34/149
2.3 直流特性22
2.3.5 晶体管的非理想现象
4. 大注入效应之一 Webster 效应
增益 随电流 Ic 变化
1
Ic
I ne
I b I pe I re I vb
Webster 效应
I pe I vb I re
I ne I ne I ne
I pe exp qVbe kT
I ne exp qVbe 2kT
I pe
exp qVbe 2kT Ic
I ne
1 1 I c 2 3 I c1 m1
发射结复合电流
1 Wb2
2
基区复合
2 2L
nb
Webster 效应
( D nb 2 D nb )
2.3 直流特性23
2.3.5 晶体管的非理想现象
5. 大注入效应之二 Kirk 效应
n
p
n+
(基区展宽效应)
E
x
q ( N c nc )
q ( N b + nc )
集电区大注入:nc ~ Nc
集电极电流 Jc nc
nc
Jc
qvs
饱和漂移速度
35/149
36/149
2.3 直流特性24
2.3.5 晶体管的非理想现象
5. 大注入效应之二 Kirk 效应
N
- -- -- -- -- ----
Emax
Wc
中性
nc = N c
nc > N c
问题:计算 Jc0 , nc0
1
Vbc Wc E max
2 s Vbc
2
nc 0
Nc
2
E max qnc 0 N c
qWc
Wc
s
即
J c0
临界 Jc0
nc = nc0
Kirk 效应
2 s Vbc
qvs
N
Jc > Jc0 Wb Wb + Wb
c
2
qWc
2.3 直流特性25
2.3.5 晶体管的非理想现象
6. 大注入效应之三 发射极电流集边效应(基极电阻自偏压效应)
Seff -发射极有效半宽
kT
Vy V ( Seff ) Vy (0)
q
J (Seff) = J (0) x e-1
Se
z
y
x
Seff
Wb Le
S eff
Ic
kT
q
kT pb N bWb Le
Ic
37/149
38/149
2.3 直流特性26
2.3.5 晶体管的非理想现象
6. 大注入效应之三 发射极电流集边效应(基极电阻自偏压效应)
发射极电流分布
E
B
+dIB
V ( y) 0
…
J e ( y ) J e (0) exp qV ( y ) kT
…
dV ( y ) I b ( y ) drb
I b ( y ) b
dy
J b ( y ) b dy
LeWb
dIb J e ( y ) J c ( y )
Le dy
0
rbb’
y
y
JC
y+dy y
dJb J e ( y ) J c ( y ) 1 J e ( y )
dy
Wb
Wb
d 2V ( y ) b 1
qV ( y ) V(y) Je (y)
J e (0) exp
2
kT Seff = ?
dy
Wb
qV ( y )
qV ( y )
exp
1
kT
kT
39/149
2.3 直流特性27
2.3.6 实际晶体管的输入、输出特性
rbb’自偏压
Webster/Kirk 效应
发射结复合电流影响
Webster/Kirk
发射结复合电流
Si 晶体管
Vbe (V)
40/149
2.3 直流特性28
2.3.6 实际晶体管的输入、输出特性
1. 共基极输入、输出特性
E
N+
P*
Wb
Wb
Vcb Wb* dnb/dx
C
B
dnb/dx
Early 效应
Vcb 0, I c 0
输入特性
输出特性
N
Ine Ic
41/149
2.3 直流特性29
2.3.6 实际晶体管的输入、输出特性
2. 共射极输入、输出特性
Early 效应
C
B
E
Early 效应
基区复
合减少
Vbe 0, I b I cbo
输入特性
输出特性
问题:为什么Early效应对共发射极输出特性有明显影响,而共基极输出特性却无明显影响?
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.6 频率特性
2.7 开关特性
42/149
43/149
2.4 反向特性1
2.4.1 晶体管的反向电流
PN 结反向电流
I R Id I g Il
n p < ni 2
漏电流(与工艺有关)
pn
np
p
n
Si 管:Ig 为主
产生电流
Dn n 0p D p pn0
扩散电流 qA
Lp
Ln
Dn ni2 D p ni2
qA
L N
n A Lp N D
IR (Si) << IR (Ge)
Ge 管:Id 为主
qAni x D 2
44/149
2.4 反向特性2
2.4.1 晶体管的反向电流
1. Icbo
n+
+
Veb(fl)
qAni xc
2
Dnb n 0pb
D pc pnc0
1
qA
L pc
Wb
Si : I cbo
p
n
Icbo Ge:I cbo
V
因此
I c I e I cbo
问题:为什么有浮动电压 Veb(fl) ,且 > 0?
2. Iebo
n+
Iebo
p
n
Si : I ebo
Ge: I ebo
qAni xe
2
Dnb n 0pb
D pe pne0
1 I
qA
W
L
b
pe
反向工作注入比
45/149
2.4 反向特性3
2.4.1 晶体管的反向电流
3. Iceo(反向穿透电流)
I c I e I cbo
n+
p
n
Iceo
Ie Ib Ic
基极开路 Ib = 0
I ceo I ceo I cbo
I ceo
1
问题:从物理上如何理解此关系?
I cbo 1 I cbo
1
结论:要 Iceo 则 Icbo
不宜太高
I c I e I cbo
Ie Ib Ic
1
Ic
Ib
I cbo I b 1 I cbo I b I ceo
1
1
2.4 反向特性4
46/149
2.4.2 晶体管的反向击穿电压
1. BVebo
特点:
Ie
n+
p
1o 通常为雪崩击穿
Nb 很高时可能有齐纳
n
A
Veb
BVebo
2o 双扩散管击穿在表面
3o 通常 BVebo > 4 V 即可
2. BVcbo
Ic
n+
p
特点:
n
1o 雪崩击穿
A
Vcb
BVcbo
2o BVcbo 越高越好
理想 BVcbo = VBR(纯pn结)
2.4 反向特性5
47/149
2.4.2 晶体管的反向击穿电压
3. BVce BVceo BVces BVcer BVcex
(1) BVceo
雪崩击穿时 I c MI e MI cbo
基极开路时 Ib = 0 Ic = Ie
I ceo
MI cbo
1 M
M→∞
Iceo 发生雪崩倍增条件:1 M = 0 M = 1/(更容易达到)
经验公式:
4 npn
1
n(Si)=
M
n
2 pnp
1 V VBR
BVcbo
BVceo
n 1
n(Ge)=
BVceo < BVcbo
3 npn
6 pnp
2.4 反向特性6
48/149
2.4.2 晶体管的反向击穿电压
3. BVce BVceo BVces BVcer BVcex
(1) BVceo
问题:击穿时为何有负阻特性?
集电结雪崩
注入到基区
的空穴
基区开路
无法流出
填充发射
结耗尽区
发射结正
偏压增大
I c ,
填充集电
结耗尽区
集电结反
偏压减小
M
M 1
1
n
1 V VBR
负阻
2.4 反向特性7
2.4.2 晶体管的反向击穿电压
3. BVce BVceo BVces BVcer BVcex
(2) BVces > BVceo
rb
Ic
Ib
RL
Vce
Ie
(3) BVceo < BVcer < BVces
(4) BVcex > BVcer
49/149
2.4 反向特性8
50/149
2.4.3 晶体管穿通电压(punch-through)
1. 基区穿通
Ic
n+
p
BVcbo = Vpt + BVebo
xc
n
Vcb
Vpt
BVcbo
不发生穿通现象的条件:Vpt > BVcbo
Nc
W Wb
xc 0
Nc Nb
1 qN eff 2
V pt
xc
2 s
*
b
2 sV pt
Wb
2
q
N
b N eff
1/ 2
2 sVcbo
2
q
N
b N eff
1/ 2
结论:合金管更容易发生基区穿通,而平面管则不太可能发生。
Nc<Nb,集电结耗尽区主要向集电区扩展
2.4 反向特性9
51/149
2.4.3 晶体管穿通电压(punch-through)
2. 集电区穿通效应
n+
p
E
n
(Nc)
为防止集电区穿通:Wc xmc’ (←Nc)
n+
集电区穿通时击穿条件:Emax = Ec
1/ 2
0 Wc
xmc’
x
'
mc
x
Emax
电场分布斜率一样
集电区穿通电压
2 s VBR
q Nc
1
'
E max xmc
VBR
2
'
'
1 xmc
Wc
Emax xmc Wc VBR BVcbo
'
2 xmc
BVcbo
Wc
Wc
VBR ' 2 '
xmc
xmc
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.6 频率特性
2.7 开关特性
52/149
2.5 晶体管的模型1
53/149
2.5.1 Ebers-Moll 方程(本征晶体管)
qVbe
qVbc
I e a11 exp
1 a12 exp
1
kT
kT
qV
qV
I c a21 exp be 1 a22 exp bc 1
kT
kT
0
Dnb n 0pb
Wb D pe pne
a11 qA
coth
L
L
L
nb
pe
nb
qADnb n 0pb
W
a12 a21
csc h b
Lnb
Lnb
0
Dnb n 0pb
Wb D pc pnc
a22 qA
coth
L
L
L
nb
pc
nb
2.5 晶体管的模型2
54/149
2.5.1 Ebers-Moll 方程(本征晶体管)
IF
Ie
E
Ie IF R IR
IR
Ic
RIR
FIF
Ic IR F IF
Ib
其中
规定:端电流流入为正
B
I b 1 F I F 1 R I R
C
I F I F 0 exp qVbe kT 1
I R I R 0 exp qVbc kT 1
a11 I F 0
a12 a21 F I F 0 R I R 0
Ebers-Moll方程:
I e I F 0 exp qVbe
a22 I R 0
kT 1 R I R 0 exp qVbc kT 1
I c F I F 0 exp qVbe kT 1 I R 0 exp qVbc kT 1
问题:求 IF0, IR0 与 Iebo, Icbo 之间的联系.
答案:Iebo = (1 FR) IF0 , Icbo = (1 FR) IR0 .
2.5 晶体管的模型3
55/149
2.5.1 Ebers-Moll 方程(本征晶体管)
Ebers-Moll方程:
1
qVbe
R
qVbc
Ie
I ebo exp
I cbo exp
1
1
1 F R
kT 1 F R
kT
Ic
F
qV
1
qV
I ebo exp be 1
I cbo exp bc 1
1 F R
kT 1 F R
kT
F I ebo R I cbo
F = 100
只有 3 个独立参数
R = 2
2.5 晶体管的模型4
56/149
2.5.2 实际晶体管模型
IF
E
(Vce’/VA)IF
IR
res E’
C’ rcs
B’
Ce
gle
Cc
glc
rbb’
I c ( 有Early 效应) I c ( 无Early 效应)
Vc’e’
Ic(无Early效应)
C
B
Ic(有Early效应)
I c ( 无Early 效应)
VA
Vc 'e '
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.6 频率特性
2.7 开关特性
57/149
2.6 频率特性1
58/149
2.6.1 晶体管的放大作用
Ie
Ie
p
n+
n
n
RL
RE
Vbe
Ic
Ic
RL
Ib
p
Ib
Vcb
RB
Vbe
问题:共基极有放大作用吗?
问题:放大时能量守恒吗 ?
Vce
n+
Ie
2.6 频率特性2
2.6.1 晶体管的放大作用
Ie
Ie
1. 共基极
re RE
ri
re
re RE
Vi I e re
Pi I e2 re
rc RL
ro
RL
rc RL
Vo I c RL
Po I RL
2
c
59/149
p
n+
Ic
n
RL
RE
Vbe
Ib
Vcb
Ic
GI 1
Ie
V I R
R
GV o c L L >> 1
Vi
I e re
re
Po I c2 RL RL
GP 2
>> 1
Pi
I e re
re
Transistor = Trans + Resistor !
2.6 频率特性3
2.6.1 晶体管的放大作用
60/149
Ic
n
2. 共发射极
RL
Ib
p
RB
re RB
ri
re
re RB
Vi I b re
Pi I b2 re
rc RL
RL
rc RL
Vo I c RL
ro
Po I c2 RL
Vce
n+
Vbe
Ie
Ic
GI >> 1
Ib
V I R
R
GV o c L L >> 1
Vi
I b re
re
Po I c2 RL
R
GP 2 2 L >> 1
Pi
I b re
re
功率放大的是交流信号!
2.6 频率特性4
61/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
ii
io
+
+
以 ii io 为自变量 z 参数等效电路
vo
vi
1. y 参数等效电路 (共基极)
IF
IR
Ie
E
RIR
FIF
Ib
B
以 vi vo 为自变量 y 参数等效电路
以 ii vo 为自变量 h 参数等效电路
Ic
本征晶体管的直流模型
Ebers-Moll 方程:
C
qV
qV
I e a11 exp be 1 a12 exp bc 1
kT
kT
qVbe
qVbc
I c a21 exp
1 a22 exp
1
kT
kT
2.6 频率特性5
62/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
1. y 参数等效电路-以 vi vo 为自变量
求 Ie(Veb, Vcb), Ic(Veb, Vcb)
对 E-M 方
程求微分
dI e
qa11
qV
qa
qV
exp be dVbe 12 exp bc dVbc
kT
kT
kT
kT
qa21
qVbe
qa22
qVbc
dI c
exp
exp
dVbe
dVbc
kT
kT
kT
kT
ie y11ve y12 vc ie dI e ve dVbe
ic y21ve y22 vc ic dI c vc dVbc
y11
qa11
qV I e
exp be
>0
kT
kT Veb
qa12
qVbc I e
y12
exp
<0
kT
kT Vcb
量纲:电导
qa21
qVbe I c
y21
exp
<0
kT
kT
V
eb
qa22
qVbc I c
y22
exp
>0
kT
kT Vcb
2.6 频率特性6
63/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
1. y 参数等效电路-以 vi vo 为自变量
共基极 y 参
数等效电路
E
ie
ic
C
+
+
y111
ve
|y12|vc
|y21|ve
y221
vc
B
放大偏置时
E
B
ie
ic
C
+
ve
B
kT
y re
qI e
1
11
a21 / a11 F
+
ie
rc
vc
y21 / y11 F
ve ie re
B
2.6 频率特性7
64/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量
C
B ib
ic C
+
B
+
?
vbe
vce
E
E
全微分
E
h 参数 以 ib vce 为自变量
Vbe
Vbe
dVbe
dI b
dVce
I b Vce
Vce I b
I c
I c
dI c
dI b
I b Vce
Vce
dVce
Ib
vbe(ib, vce)
ic(ib, vce)
vbe h11ib h12 vce
ic h21ib h22 vce
2.6 频率特性8
65/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量
h11
Vbe
I b
1
Vbe Vce
I b Vce
hie 共发射极输出端交流短路时的输入电阻
B ib
+
vbe
E
ic C
+
vce
E
Ebers-Moll方程
I b 1 F I F 0 exp qVbe kT 1 1 R I R 0 exp qVbc kT 1
放大偏置时,Vbe >> kT/q, Vbc < 0
I b 1 F I F 0 exp qVbe kT
I b
qI
b
Vbe Vce kT
kT
h11 hie
re
qI b
VCE
h-111
2.6 频率特性9
66/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
ic C
2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量
B ib
+
Vbe
h12
> 0 Why ?
vbe
Vce I b
E
hre 共发射极输入端交流开路时的电压反馈系数
Vbe
Vce
Ib
Vce
1
Vbe
Ib
Vbc
Vbe Vbc
1
1 1
Vbe
Vbe I b
Ib
由 Ib(Vbe, Vbc) 全微分
I b 1 F I F 0 exp qVbe kT 1 1 R I R 0 exp qVbc kT 1
q
qV
q
qV
exp be dVbe 1 R I R 0
exp bc dVbc
kT
kT
kT
kT
1 F I F 0 exp qVbe kT
1 F R
qV
qV
exp ce R exp ce
1 R I R 0 exp qVbc kT
1R F
F
kT
kT
dI b 1 F I F 0
Vbc
Vbe
Ib
+
vce
E
2.6 频率特性10
67/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量
F
qVce
h12 hre
exp
R
qV
R
kT
1
exp ce
F
kT
1
实际 hre
104,原因:
(i) Early 效应,Wb(Vce)
0 (<10 15)
VCE=4V
(ii) Early 效应,rbb’(Vce)
(i) Early 效应,Wb(Vce) (Vce)
Vbc
Vbe
Ib
1 F qI F 0 exp qVbe I R 0 exp qVbc 1 R
kT
kT
kT
Vbe
Ib
1 R qI R 0 exp qVbc I F 0 exp qVbe 1 F
kT
kT
1
F
q
1 F
kT
V
bc I b
<0
kT
Vbc
VBE
Ib
2.6 频率特性11
68/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量
B ib
I
+
h21 c
I b Vce
vbe
hfe 共发射极输出端交流短路时的正向电流传输比
E
ic C
+
vce
E
共发射极 E-M 方程: I c F I b 1 F I cbo expqVbc kT 1
F I b I ceo
I c
F
h21 h fe
F Ib
I b Vce
I b
中等电流 Ib ,
F
I b
0
Vce
IC
Vce
h21 h fe F
IB
2.6 频率特性12
69/149
2.6.2 低频交流小信号等效电路
2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量
I c
h22
Vce
B ib
+
vbe
E
Ib
hoe 共发射极输入端交流开路时的输出电
导
I c
0
Vce
Early 效应
B
ib
ic C
+
vce
E
输出阻抗rce 不是
ic
hoe
C
+
+
hie
vbe
E
+
~
hrevce
hfeib
hoe1
vce
E
问题:共基极 h 参数
等效电路如何画?
2.6 频率特性13
70/149
2.6.3 放大系数的频率特性
1. 晶体管的高频效应
inc ( 0)
re
inc ( xm )
E ie
res
i pe
iCTe
ine
CTe
CDe
CDc
iCDe ivb
rbb’
n
0
B
交流(高频):
t
ie ~ ic 相位差
CTc
rc
incc
iCTc
rcs
ic
C
2.6 频率特性14
71/149
2.6.3 放大系数的频率特性
2. () 和发射极延迟时间 e
2.1. ()
I ne
直流(或低频)
I ne I pe
高频
ie ine i pe iCTe
ine
ine i pe iCTe
iCTe
问题:为什么CTe充放电电流对 有影响,而CDe充放电电流对 无影响?
2.2. e
CTe
E
re
iCTe
ine+ ipe
B
ine
ine i pe
ine
0
0
iCTe
ie
1 ireCTe 1 i e
1
ine i pe
e reCTe 正偏 pn 结CTe = 2.5~4.0 CTe(0)
2.6 频率特性15
72/149
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
3. *() 和基区渡越时间 b
3.1 *()
Vbe VE ve (t ) VE Ve exp( it )
Vbc VC vc (t ) VC Vc exp( it )
n+
~
p
n
~
ve(t)
VE
VC
假设 Wb = 常数
基区中少子分布 npb(x,t)
n pb ( x, t )
2 n pb n pb n 0pb
Dnb
2
t
x
nb
vc(t)
n+
p
n
ie, ic
0 Wb
2.6 频率特性16
73/149
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
3. *() 和基区渡越时间 b
3.1 *()
n pb ( x, t ) n0 ( x ) n1 ( x ) exp( it )
n pb ( x, t )
2 n pb n pb n 0pb
Dnb
2
t
x
nb
n1 ( x ) A exp x L'nb B exp x L'nb
0
n
n
d n0
0
pb
0 直流分量
2
2
dx
Lnb
d 2 n1 n1
交流分量
0
dx 2 L'nb 2
Lnb
'
L
通解
nb
1 i nb
2
qVE Ve exp it
n pb (0, t ) n 0pb exp
kT
边界条件
小信号条件
qVC Vc exp it
0
n pb (Wb , t ) n pb exp
kT
kT
Vc
kT
Ve
q
q
qVE qVe
0
n pb (0, t ) n pb exp
exp it nE ne exp it
1
kT kT
边界条件
qVC qVc
0
n pb (Wb , t ) n pb exp
exp it nC nc exp it
1
kT kT
2.6 频率特性17
74/149
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
3. *() 和基区渡越时间 b
3.1 *()
npb (Wb , t ) nC nc expit
npb (0, t ) nE ne expit
nE n exp qVE kT
0
pb
ne
qnE
Ve
kT
边界条件
nC n expqVC kT 0 nc
0
pb
n1 ( x ) A exp x L'nb B exp x L'nb
qnC
Vc 0
kT
Lnb
L
1 i nb
'
nb
qVe sinh Wb x L'nb
n1 ( x ) nE
kT sinh Wb L'nb
n pb ( x, t ) n0 ( x ) n1 ( x ) exp( it )
d n1 ( x ) exp it
qDnb nE qVe coshWb x L'nb
jnb qDnb
exp it
'
'
dx
Lnb kT
sinh Wb Lnb
2.6 频率特性18
75/149
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
3. *() 和基区渡越时间 b
3.1 *()
交流
Wb
Wb
jnb (Wb )
sec h ' sec h
1 i nb
jnb (0) Vc 0
Lnb
Lnb
*
Wb2
* ( ) sec h Wb L'nb 1 Wb2 2 L2nb 1 i nb Wb2 Wb2
1 2 1 2 i
*
2
2
2
L
2
L
2
D
0
sec h Wb Lnb
1 Wb 2 Lnb
nb
nb
nb
Wb2
1
1
1 i
2 Dnb 1 i Wb2 2 Dnb 1 i b
严格分析可以证明:
超相移因子
0* exp im b 1 m
1 i b 1 m
Wb2
b
2 Dnb
*
m 0.22 0.098 电场因子
N b (0)
ln
N b (Wb )
2.6 频率特性19
76/149
2.6.3 放大系数的频率特性
3. *() 和基区渡越时间 b
I nc I ne Aqnpb ( x) ( x)
1.
3.2 基区渡越时间 b
Wb
b
0
IncIne
Ine
Wb
I ne AqDnb
0
Wb
扩散电容
3.
b C De re
Wb Aqnpb ( x )
1
dx
dx
0
( x)
I ne
n pb (0)
Wb
0
Aqnpb (0)(1 Wxb )
I ne
1
Q
qA n pb (0) Wb
2.
2
Q
Wb2
b
I ne 2 Dnb
dQ
dVbe
q 1
qVbe
q Wb2
0
qAn pb exp
Ie
Wb
E
kT 2
kT 2 Dnb
kT
CDe
re
kT
qI e
Wb2
= 1/b
dx
2 Dnb
发射结电阻
re
CDe
B
2.6 频率特性20
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
4.集电结势垒区输运系数 d () 和集电结渡越时间 d
4.1 d ()
E > 104 V/cm
n
p
- ++
- ++
- ++
qnvs
E
77/149
t d xm
d
2 2v s
vs = 8.5 106 cm/s
td = xm / vs
xm
x
jc j传导 j位移
jnc s E
t
E(x,t)
jnc qnvs
假设
连续性方程
n( x, t ) n( x) expit
n 1 jnc
t q x
dn( x ) in( x )
dx
vs
2.6 频率特性21
78/149
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
4.集电结势垒区输运系数 d () 和集电结渡越时间 d
4.1 d ()
dn( x ) in( x )
dx
vs
n( x ) n(0) exp ix v s
jnc qnvs
n( x, t ) n( x) expit
jnc ( x, t ) qv s n(0) exp ix v s exp it
x
jnc ( x, t ) jnc 0, t x
qv s n(0) exp i t
vs
v
s
对势垒区积分
xm
xm
xm
x
0 jc dx 0 (q)vs n(0) exp i t vs dx t 0 s E ( x, t )dx
1 exp itd
s Vbc
jc ( q)vs n(0)
exp it
0
itd
xm t
jc
1 exp itd
d 定义: d
势垒区平均传导电流 jnc
jnc (0) Vbc
itd
2.6 频率特性22
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
4.集电结势垒区输运系数 d () 和集电结渡越时间 d
4.2 d
1
2
1 1 itd itd ......
1 exp itd
2
d
itd
itd
1
1
1
1 itd
1
2
1 itd 1 i d
2
t d xm
这里 d
2 2v s
79/149
2.6 频率特性23
80/149
2.6.3 放大系数的频率特性(自学)
5. 集电极衰减因子 c 和集电极延迟时间 c
E ie
+
CTe
hib
CDe
+
~
ie
hrbvc
c rcs CTc
inc C’
incc
iCTc
hob1
ic C
rcs
CTc
B’
rbb’
B
incc
incc
c
inc innc iCTc
Vcb = 常数
c rcs CTc
1
1
1
1
iCTc
rcs
1 ircs CTc 1 i c
1
1
1 iCTc
innc
2.6 频率特性24
81/149
2.6.3 放大系数的频率特性
6. 放大系数的频率特性
6.1 () 和 f
d c
*
低频
0
1 i e 1 i b 1 i d 1 i c
0
0
1 i e b d c 1 i ce
0
0
0
( )
1 i ce 1 i 1 i f f
共基极截止频率
f
1
2 ce
ce e b d c
Wb2
x
reCTe
m rcsCTc
2 Dnb 2vs
1
2 e b d c
2.6 频率特性25
82/149
2.6.3 放大系数的频率特性
6. 放大系数的频率特性
6.1 () 和 f
Wb2
x
ce e b d c reCTe
m rcsCTc
2 Dnb 2vs
1
1
f
2 ce 2 e b d c
0
f
2
dB(分贝)定义:
(dB) 20 log
(dB) 20 log
f : 3dB 频率
通常 b >> e d c
2.6 频率特性26
2.6.3 放大系数的频率特性
B
ic ?
=
ib Vce
1
CTc
E
ic
ic
e
定义 e
ie Vce
ie ic Vce 1 e
ie
CTe
re
res
E
CDe
e 定义
CTe
ic
ie Vcb
B r
bb’
C
定义
6. 放大系数的频率特性
6.2 () 和 f
83/149
CTc
e reCTe
rcs
C
e' re CTe CTc
2.6 频率特性27
84/149
2.6.3 放大系数的频率特性
6. 放大系数的频率特性
6.2 () 和 f
0
0
e
'
1 i e b d c 1 i f f'
e' re CTe CTc reCTe e
e
f f
'
1 i f f'
1
2 e' b d c
CTe >> CTc
0
e
1 i f f'
0
1 e 1
f
'
0
1 0 i f f
0
0
'
1 i 0 f f 1 i f f
'
f
f'
0
0
1 0
1 i
f
0
1
f f'
1 0
2.6 频率特性28
85/149
f
2.6.3 放大系数的频率特性
0
2
6. 放大系数的频率特性
6.2 () 和 f
同样
1
'
1 '
e b d c
0 0
1
Wb2
xm
reCTe
rcsCTc
0
2 Dnb 2vs
6.3 fT
0
1 i f f
f : 3dB 频率
f
f
0 1 m 共发射极截止频率
考虑超相移因子 m,且 b >> e d c
(1) fT 定义
1
f > f 时, > 1. 定义
0
1 fT f
2
1
fT 1
0 >> 1
fT 0 f
f
1 m
2.6 频率特性28
86/149
2.6.3 放大系数的频率特性
6. 放大系数的频率特性
6.3 fT
当 f < f < f 时
fT
if
或
f fT
特征频率
电流增益-带宽积
1
1
W
xm
1
e b d c reCTe
fT
rcsCTc
2
2
2 Dnb 2vs
2
b
(2) 提高 fT 的措施 ( 通常 b >> e d c )
b Wb 非均匀基区
e re CTe Aje
d xm Nc
c rcs Nc
CTc Ajc Nc
1
f < fT f
2.6 频率特性29
87/149
2.6.3 放大系数的频率特性
6. 放大系数的频率特性
6.3 fT
(3) fT 与工作点的关系
e
b
Kirk 效应
b,c
d
2.6 频率特性30
88/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
1. h 参数等效电路
1.1 共基极
E ie
+
E’
res
re
+
CTe
~
ie
B’
rob
hrbvc’b’
CDe
CTc
rbb’
B
共基极 h 参数高频等效电路
共基极 T 形高频等效电路
ic C
C’
+
rcs
2.6 频率特性31
89/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
1. h 参数等效电路
1.2 共发射极
B
+
rbb’ B’ re
CTc
vce
hret vce
C
~
CTe +
E’
ib
C
C’
roe
+
rcs
CDe
CTc
共发射极 h 参数高频等效电路
共发射极 T 形高频等效电路
(1+)CTc
res
E
问题:为什么 CTc 需要乘上 (1+) ?
问题:证明高频时反馈电压系数为 CTc / Ct ,这里Ct = CTe + CDe +CTc?
2.6 频率特性32
2.6.4 高频等效电路(自学)
1. h 参数等效电路
1.2 共发射极
B ib
+
90/149
CTc
rbb’ B’
ic C
rb’c
+
re
CTe
CDe
ib
roe
E
E
共发射极 h 参数高频等效电路
共发射极 形高频等效电路
rb’c 反馈电阻 反馈电压源 hre
re
re rb'c
vce hrevce
1
r
r
1
b 'c
e
hre
问题:验证高频时反馈电压源可等效为反馈容抗 CTc .
2.6 频率特性33
91/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率
CTc
vce
Ct
2.1 高频功率增益 Gp()
B
rbb’ B’ re
E’
+
~
CTe +
共发射极 h 参数 T
形高频等效电路
ib
C
C’
+
rcs
roe
CDe
CTc
B
+
rbb’
B’
ib
C
+
E
高频
(1+)CTc
(1+)CTc
res
输入阻抗 zi rbb '
输出阻抗
E
zo
1
i 1 CTc
2.6 频率特性34
92/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率
2.1 高频功率增益 Gp()
1
1
1
zo
i 1 CTc i 1 T i CTc T CTc iCTc
T i
Pi ib2 zi
Po ic2 RL
1
T CTc
2
i R ic RL
' 2 RL
GP
i z
rbb '
ib rbb '
2
c L
2
b i
ib
CTc
2.6 频率特性35
93/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率
1
RL
T CTc
1
L
CTc
2.1 高频功率增益 Gp()
当输出阻抗最佳匹配(共轭复量)时,
可得到最大功率增益 Gpmax
z L zo*
ib
vce
vce
vce vce
ib
1 T CTc 1 iCTc RL iL
2v
ce 2ic ' ic
RL
ib 2
1
T CTc
CTc
L
RL
最大功率增益
RL RL
fT
rbb ' 2 rbb ' 8f 2 rbb 'CTc
2
GP max
'2
2.6 频率特性36
2.6.4 高频等效电路
2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率
2.2 最高振荡频率 fm
(1) fm 定义
当 Gpmax = 1 时,对应 fm 最高振荡频率
RL f T
1
fT
2
2
r
2
f
2
f
C
r
8
f
rbb 'CTc
bb '
T Tc bb '
2
2
GP max
1/ 2
fT
fm
8rbb 'CTc
高频优值
M G p max ( f ) f 2 f m2
功率增益-带宽积
94/149
2.6 频率特性37
95/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率
i
ib rbb ' ie (iLe )
rbb ' 1 c iLe
ib
ib
rbb' 1 ’iLe
2.2 最高振荡频率 fm
zi
(2) 发射极引线电感 Le 影响
ib
B
B’
rbb’
Le
1
T CTc
CTc
E
C
rbb ' 1 iLe
2
T i
1
rbb ' T Le
2
RL
2
阻抗匹配时
fT
GP max
2 zi 8f 2 r T Le C
bb '
Tc
2
2.6 频率特性38
96/149
2.6.4 高频等效电路(自学)
2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率
2.2 最高振荡频率 fm
(3) 提高 fm 的措施
fT
rbb’
CTc Ajc Nc
Le
1/ 2
(4) fm 与工作点的关系
d , fT , CTc
fT
fm
8rbb 'CTc
fT
GP max
8f 2 rbb 'CTc
Wb , fT
fT 1/Wb2
Ic ,Vcb , Wb , fT
re ,e ,fT
rbb’ 1/Wb
2.6 频率特性39
97/149
2.6.5 漂移晶体管
1. 非均匀基区及自建电场
1.1 漂移晶体管杂质分布
ND NA
ND, NA
Ne
n+
Nb
Nc
n
p
x
0
n+
x
0 xje
xjc
E阻滞 E加速
2.6 频率特性40
2.6.5 漂移晶体管
1. 非均匀基区及自建电场
1.2 基区自建电场
近似
忽略 E阻滞
均匀电场 Nb(x) 指数分布
考虑自建场 Eb(x) 后
dp pb
J pb q pb p pb ( x ) Eb ( x ) qD pb
dx
dn pb
J nb q nb n pb ( x ) Eb ( x ) qDnb
dx
令 Jpb = 0(为什么?)
Eb
D pb
pb
dp pb ( x ) kT
1
1
dN b ( x )
p pb ( x )
dx
q N b ( x)
dx
若假设 Nb(x) 为指数分布
Eb(x) = 常数
98/149
2.6 频率特性41
99/149
Nb (x)
2.6.5 漂移晶体管
1. 非均匀基区及自建电场
n+
n
p
Nb (x)
1.2 基区自建电场
若 Nb(x) 为指数分布
x
N b ( x ) N b (0) exp x Wb
Eb
D pb
pb
We
dp pb ( x ) kT
1
1
dN b ( x )
p pb ( x )
dx
q N b ( x)
dx
kT
Eb
q Wb
N b 0 基区电场因子
ln
N b Wb
= 0 均匀基区
?
Eb
0
Wb
2.6 频率特性42
100/149
2.6.5 漂移晶体管
2. 直流特性
2.1 少子分布与少子电流
(1) Jnb
J nb
假设 Jvb = 0 Jnb(x) = 常数
dn pb
D pb 1 dp pb ( x )
dn pb
q nb n pb ( x ) Eb ( x ) qDnb
qnb n pb
qDnb
dx
pb p pb ( x ) dx
dx
n pb dN b ( x ) dn pb
1 d N b ( x)n pb ( x )
qDnb
qDnb
dx
Nb ( x)
dx
N b ( x ) dx
J nb ( x ) N b ( x )dx qDnb d N b ( x )n pb ( x )
Wb
x
J nb ( x ' ) N b ( x ' )dx' qDnb d N b ( x ' )n pb ( x ' )
Wb
x
Jnb = 常数
J nb N b ( x ' )dx' qDnb d N b ( x ' )n pb ( x ' )
Wb
Wb
x
x
2.6 频率特性43
101/149
2.6.5 漂移晶体管
2. 直流特性
2.1 少子分布与少子电流
J nb N b ( x ' )dx' qDnb d N b ( x ' )n pb ( x ' )
Wb
Wb
x
x
边界条件 n pb (Wb ) 0
N b ( x ) N b (0) exp x Wb
Wb
J nb
J nb Wb
n pb ( x )
N
(
x
'
)
dx
'
b
1 exp Wb x
qDnb N b ( x ) x
qDnb
Wb
假设 Jre = 0 Jne = Jnb
J ne Wb
n pb ( x )
1 exp Wb x
qDnb
Wb
2.6 频率特性44
2.6.5 漂移晶体管
2. 直流特性
2.1 少子分布与少子电流
102/149
J ne Wb
n pb ( x )
1 exp Wb x
qDnb
Wb
问题:定性解释 > 0 时,少子分布 npb(x) 的
形状。为什么不象红虚线?
J nb ( x ) N b ( x )dx qDnb d N b ( x )n pb ( x )
J nb N b ( x )dx qDnb d N b ( x )n pb ( x )
Wb
Wb
0
0
边界条件
J ne
n pb (Wb ) n 0pb exp qVc kT 0
qDnb ni2 exp qVe kT
Wb
0
n pb (0) n 0pb exp qVe kT
N b ( x )dx
Gummel 数 Qb
Wb
0
qDnb ni2
qV
exp e
Qb
kT
N b ( x )dx [cm 2]
2.6 频率特性45
2.6.5 漂移晶体管
发射区有自建场 Ee(x) ,类似地
2. 直流特性
Ee
2.1 少子分布与少子电流
(2) Jpe
W
e
0
+
+
+
Ee
p
kT 1 dN e ( x )
q N e ( x ) dx
问题:Ee 与 Eb 方向相反,相差 一个
“”号,为什么?
Ee(x)有何作用?
ND NA
n+
103/149
n
Wb
(3) Jpc
与均匀基区相同
若为薄发射区,即 We << Lpe 时,则
n+
x
J pe
qDpeni2
0
We
qVe
exp
kT
N e ( x)dx
发射区 Gummel 数
0
nc
qDpc p
J pc ( x2 )
Lpc
Qe
0
We
N e ( x )dx
qDpc pnc0
exp qVc kT 1
Lpc
2.6 频率特性46
104/149
2.6.5 漂移晶体管
2. 直流特性
2.2 直流增益 0 0
(1)
J ne
1
J ne J pe 1 J pe J ne
(2) *
Rsh,e
1
Wb
D pe N b ( x )dx Rsh,b
1
1
0
0
Dnb
We
J nc J nb (Wb )
=1?
J ne
J nb (0)
N e ( x )dx
Qb
Qe
*
更高级近似
J ne J vb
J vb
1
J vb 0
J ne
J ne
*
1
Rsh,e
1
Rsh,b
2.6 频率特性47
105/149
2.6.5 漂移晶体管
npb(x)
2. 直流特性
2.2 直流增益 0 0
Wb
I vb
J vb
qA n pb ( x )dx
0
q
nb
0
0
nb
Wb
x
n pb ( x )dx
q
Wb
nb 0
J ne Wb
1 exp Wb x dx
qDnb
Wb
J ne Wb2 1 exp( )
1
Dnb nb
定义
1 exp( )
2
1
Wb
J vb
Wb2
1
1 2
J ne
Lnb
*
1 1 exp( )
2 2
Wb2
1 2
Lnb
*
0(均匀基区) 2
> 0(加速场) > 2
2.6 频率特性48
106/149
2.6.5 漂移晶体管
2. 直流特性
2.2 直流增益 0 0
(3) 0 0
1
2
2
R
R
W
W
0 * 1 sh,e 1 b2 1 sh,e b2
Rsh,b Lnb
Rsh,b Lnb
1
2
Rsh,e Wb
0
0
2
1 0 Rsh,b Lnb
0 0 除了 Rsh,e / Rsh,b Ne/Nb
还可以
Wb
Lnb nb
2.6 频率特性48
107/149
2.6.5 漂移晶体管
2. 直流特性
2.3 Early 效应
I c
I c Wb
Vcb Wb Vcb
J ne
qDnb ni2 exp qVe kT
Wb
Jc
Wb
0
N b ( x )dx
0
J c J c Wb
Wb
W
qDnb ni2 exp qVe kT ( 1) Wb
2
Vcb Wb Vcb
b
Vcb
N
(
x
)
dx
0 b
N b (Wb ) Wb
Jc
J c Wb
VA
N ( x )dx Vcb
N b ( x )dx
0
Wb
VA
0
b
N b ( x )dx
Wb < 0
N b (Wb )
Vcb
2.6 频率特性49
108/149
2.6.5 漂移晶体管 (自学)
3. 频率特性
3.1 b 方法 解连续性方程
求 *() / 0*
设
n pb ( x, t )
2 n pb ( x, t )
n pb ( x, t ) n pb ( x, t ) n 0pb
Dnb
nb Eb
2
t
x
x
nb
n pb ( x, t ) n0 ( x ) n1 ( x ) exp( it )
代入上式
d 2 n0 ( x, t ) nb Eb dn0 ( x, t ) n0 ( x, t ) n pb
直流分量
0
2
2
dx
Dnb
dx
Lnb
kT
Eb
q Wb
Wb
0
交流分量
d 2 n1 ( x ) dn1 ( x ) n1 ( x )
' 2 0
2
dx
Wb dx
Lnb
Lnb
L
1 i nb
'
nb
2.6 频率特性50
109/149
2.6.5 漂移晶体管(自学)
3. 频率特性
3.1 b 方法 解连续性方程
直流分量
2
2
4
4
0
1
1
n0 ( x ) A exp 2 x B exp 2 x n pb
2
W
Lnb Wb
2
W
Lnb Wb
b
b
n0 (0) A B n 0pb
边界条件
…
…
1 2 4Wb2
1 2 4Wb2
n0 (Wb ) A exp 2 B exp 2 n 0pb
2
Lnb
2
Lnb
0
求出 0*
Lnb Lnb’
交流分量 *()
Wb2
Wb2
*
1 2 ( ) 1 ' 2
Lnb
Lnb
*
0
*() / 0*
b
2.6 频率特性51
110/149
2.6.5 漂移晶体管
3. 频率特性
3.1 b 方法 解连续性方程(自学)
Wb2
1 ' 2
*
( )
Wb2
Wb2
Wb2 Wb2
Lnb
1 ' 2 2 1 1 i nb 2 2
2
*
W
0
Lnb Lnb
Lnb Lnb
1 b2
Lnb
Wb2 Wb2
Wb2
1
1
1 1 i nb 2 2 1 i
Wb2 1 i b
Lnb Lnb
Dnb
1 i
Dnb
方法 基区渡越
2
W
qAn
(
x
)
1
pb
b b
b
dx
dx
0 v( x )
0
Dnb
I nb ( x )
I nb Wb
n pb ( x )
1 exp Wb x
qADnb
Wb
Wb
Wb
Wb2
b
Dnb
2.6 频率特性52
111/149
2.6.5 漂移晶体管
3. 频率特性
3.1 b
方法 扩散电容(自学)
CDe
2
dQ
qI
W
1
b
…… e
b 问题:试推导左式。
dVbe
kT Dnb re
考虑超相移因子后,
0* exp im b 1 m
( )
1 i b 1 m
*
Wb2
1 1 exp( )
N b (0)
ln
m 0.22 0.098
这里 b
Dnb
2
N b (Wb )
3.2 f 、f 、 fT 、 fm
Wb2
2 Dnb
Wb2
Dnb
2.6 频率特性53
2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT)
1. 结构
n+-GaAs
11019 cm-3 750 Å
n-GaAs
51017 cm-3 1250 Å
E n-Al0.3Ga0.7As 51017 cm-3 2500 Å
B
p+-GaAs
51018 ~ 11020 cm-3
500~1000 Å
C
n-GaAs
31016 cm-3 5000 Å
n+-GaAs
41018 cm-3 6000 Å
SI-GaAs Sub.
112/149
2.6 频率特性54
113/149
2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT)
2. 理想异质结能带图
不考虑界面态情况,突变反型异质结的能带图
真空能级
真空能级
W2 2
1 W
1
E c1
E F 1 E g1
E v1
Ec
1
2
Ec 2
EF 2
Eg 2
Ev
Ev 2
-能带弯曲,形成尖峰和凹口
-能带在界面处不连续
-界面处内建电场不连续,要考虑材料介
电常数的不同
-结两边都是耗尽层
1 W 凹口
1
E c1
qVD1
E F 1 E g1
E v1
qVD
尖峰
W2 2
Ec qV
D2
Ev
Ec 2
EF 2
Eg 2
x1 x0 x2
Ev 2
VD VD1 VD 2 Ec 1 2
Ec Ev Eg 2 Eg1
2.6 频率特性55
114/149
2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT)
3. 工作原理
热平衡
Ic
I ne
0
I b I pe I vb I re
放大偏置
max
I ne
I pe
Dnb n 0pb
I ne qA
exp qVbe kT
Wb
注意
D pe pne0
exp qVbe kT 1
I pe qA
Lpe
2
n
n 0pb i b
Nb
ni2e
0
pne
Ne
2.6 频率特性56
115/149
2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT)
3. 工作原理
max
I ne Dnb Lpe N e nib2 Dnb Lpe N e
2
exp E g kT
I pe D pe Wb N b nie D pe Wb N b
若 Eg = 0.25 eV,则 exp(Eg / kT) ~ 104
ND NA
ND NA
HBT 特点:
n+
1o 宽 Eg 发射区
p
n
n+
n+
p+
2o 重掺杂基区
n+
n
3o 窄基区
n
0
同质结 BJT
x 0
HBT
x
2.6 频率特性57
2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT)
3. 工作原理
HBT 优点:
1o Eg > 0
2o rbb’
0
fmax
基区穿通效应
3o N b
Wb 0
4o Ne CTe
Early效应
基区大注入效应(Webster)
fT
116/149
第二章 双极型晶体管
2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布
2.2 电流放大原理
2.3 直流特性
2.4 反向特性
2.5 晶体管的模型
2.5 频率特性
2.7 开关特性
117/149
2.7 开关特性1
118/149
2.7.1 晶体管的开关作用
1. 晶体管的工作区
A
A
rb
RL
Vcc
VCC VCE
负载电流: I C
RL
A
A
2.7 开关特性2
119/149
2.7.1 晶体管的开关作用
2. 截止区和饱和区的少子分布
1. 截止区
npb0
B
A
Vbe < 0 (A)
= 0 (B)
Ine
Inc
Iebo
Icbo
Ipe
Ipc
Ib = Iebo + Icbo
Vbc < 0
2.7 开关特性3
120/149
2.7.1 晶体管的开关作用
2. 截止区和饱和区的少子分布
2. 饱和区
(1) 发生饱和现象的原因
问题:为什么当
Vbc > 0 时,而流过
集电结的电流却与
Vbc 极性相反?
rb
b
Vin
放大区、饱和区
Vin Vbb V je
Ib
rb
Vcc Vce
Vcc Vbb
<
Ic
RL
RL
V Vces
I c ,max I cs cc
RL
当 Ib Ic,max 时,进入饱和状态,
Ib Ic,(= Ib) IcRL Vce Vbc () (+)
放大区 饱和区
Ib
c
Ic
e
RL
Vcc
A
A
A
A
2.7 开关特性4
121/149
2.7.1 晶体管的开关作用
2. 截止区和饱和区的少子分布
2. 饱和区
(1) 发生饱和现象的原因
定义:临界饱和状态
Ib
I cs
I bs
Vbc 0
(2) 少子分布
线性放大状态
饱和状态
(超量储存电荷)
临界饱和状态
2.7 开关特性5
122/149
2.7.1 晶体管的开关作用
2. 截止区和饱和区的少子分布
Ics
Ie
Ibx
2. 饱和区
(3) 电流传输
Ipe
Ivb + Ivbs
Ipcs
Ib = Ipe + Ivb + Ivbs + Ipcs
Ibs
Ibx
过驱动电流 I bx I b I bs I vbs I pcs
饱和时
Ib
Vin Vbb V je
定义:饱和深度
Ib
rb
Ib
Ib
Ib
s
Vcc
I bs I cs Vcc RL
I c I cs
RL
s = 1 临界饱和状态
I e I b I c I bs I bx I cs
2.7 开关特性6
123/149
2.7.1 晶体管的开关作用
3. 晶体管的开关作用
K合上,CE导通,
K断开,CE断开,
C
Vcc
Vcc
Vce 0
I ce
RL
I ce 0 Vce Vcc
K
RL
E
rb
截止
I ce I ceo 0 Vce Vcc I ceo RL Vcc
导通
Vce Vces 0 I c Vcc Vces Vcc
RL
RL
c
b
RL
e Vcc
Vbb
开关管要求:
1o Vces 越小越好,最好 0
rb1
2o Iceo 越小越好,最好 0
3o
BVce 高(使用范围大)
4o 开关时间短
ViH
ViL
c
b
rb2
Vbb
RL
e Vcc
2.7 开关特性7
2.7.1 晶体管的开关作用
Vin
ViH
4. 晶体管的开关过程
rb1
ViH
ViL
b
rb2
124/149
ViL
c
t
RL
Ib
e
Ib1
Vcc
t
Vbb
ViH V je V je Vbb
I b1
>> 0
rb1
rb 2
V je Vbb V je ViL
I b2
rb 2
rb1
延迟时间 td = t1 t0
储存时间 ts = t4 t3
上升时间 tr = t2 t1
下降时间 tf = t5 t4
Ib2
Ic
0.9Ics
0.1Ics
t0 t1 t2
Ics
t
t3
t4 t5
Vce
t
2.7 开关特性8
Vin
2.7.1 晶体管的开关作用
ViH
4. 晶体管的开关过程
..
ViL
t
A
D
Ib
Ib1
A
C
储存时间
125/149
上升时间
下降时间
t
A
..
B
Ib2
A
Ic
延迟时间
0.9Ics
A
下降时间 tf = t5 t4 ( C B )
t
0.1Ics
延迟时间 td = t1 t0 ( A B ) t = t + t
on
d
r
上升时间 tr = t2 t1 ( B C ) toff = ts + tf
储存时间 ts = t4 t3 ( D C )
Ics
t0 t1 t2
波形频率
1
ton toff
f
t3
t4 t5
Vce
t
2.7 开关特性9
126/149
2.7.1 晶体管的开关作用
5. 晶体管开关过程中的少子分布
..
1. 延迟过程 td
n+
储存时间
A
反偏
A
C
n
p
A
D
上升时间
A
..
下降时间
B
A
延迟时间
A
反偏
对 CTe, CTc 充电
n+
n
p
n+
n
p
B
零偏
反偏
弱正偏
反偏
2.7 开关特性10
127/149
2.7.1 晶体管的开关作用
5. 晶体管开关过程中的少子分布
..
A
D
2. 上升过程 tr
n+
p
A
C
n
储存时间
B
上升时间
下降时间
A
..
B
A
延迟时间
A
弱正偏
反偏
n+
n
p
n+
n
p
对 CTe, CDe, CTc 充电
正偏
C
反偏
正偏
零偏
2.7 开关特性11
128/149
2.7.1 晶体管的开关作用
5. 晶体管开关过程中的少子分布
3. 储存过程 ts
n+
n
p
D
..
A
D
A
C
储存时间
正偏
正偏
抽取基区、集电区超量储存电荷
n+
下降时间
n
p
零偏
A
..
B
A
延迟时间
A
C
正偏
上升时间
2.7 开关特性12
129/149
2.7.1 晶体管的开关作用
5. 晶体管开关过程中的少子分布
4. 下降过程 tf
n+
..
A
D
A
C
储存时间
n
p
C
上升时间
下降时间
A
..
B
A
延迟时间
A
正偏
n+
零偏
n
p
n+
n
p
B
弱正偏
反偏
A
反偏
反偏
2.7 开关特性13
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
1. 电荷控制理论
交流小信号 线性放大区
(线性微分方程 线性元件等效)
开关晶体管 { 截止区 饱和区 }
大信号过程(Ebers-Moll方程 高度非线性)
电荷控制理论 少子连续性方程
基区少子电荷 基区电子电荷 Qb
n( x, t ) 1
n ( x, t )
J n
t
q
n
V ( 基区)
dV
130/149
2.7 开关特性14
131/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
1. 电荷控制理论
定义
n( x, t ) 1
n ( x, t )
J n
t
q
n
Qb (t ) qn( x, t )dV
V
J dV J
V
n
I CTe
S
n
ds I n
注入基区的净电子电流
净流出的电子电流
I p I n (电中性条件)
Ipe
注入基区的净空穴电流
I CDe (e )
Ib
I p I b I CTe I CTc I pe I pcs I CDe ( e ) I CDc ( c )
dQb (t )
Qb (t )
I p
dt
nb
势垒电容充放电 少子扩散 扩散电容充放电
I b I CTe I CTc I pe I pcs
Qb
dQb
I CDe ( e ) I CDc ( c )
nb dt
2.7 开关特性15
132/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
1. 电荷控制理论
I b I CTe I CTc I pe I pcs
Qb
dQb
I CDe ( e ) I CDc ( c )
nb dt
Ic /
Ivb +Ivbs
I b I pe I vb I vbs I CTe I CTc I pcs
Ic /
各电流
含义
Ipe :少子扩散电流
Ivb + Ivbs :基区复合电流
dQb
I CDe ( e ) I CDc ( c )
dt
dQ pc
截止区,Ipe 0
放大、饱和区,
I pe
dt
Rsh ,e
I ne
Rsh,b
截止区,Ivb 0
2
2
W
W
放大区, I b I b I
vb
ne
c
2 L2nb
2 L2nb
2.7 开关特性16
133/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
1. 电荷控制理论
I b I pe I vb I vbs I CTe I CTc I pcs
I CTe :对 CTe 充电电流
I CTc :对 CTc 充电电流
I CTe
I CTc
Ipcs :集电区少子扩散电流
I c I nc I pcs
I nc I b I pcs
d
dt
d
dt
Vbe ( t )
Vbe ( t0 )
Vbc ( t )
Vbc ( t0 )
dQb
I CDe ( e ) I CDc ( c )
dt
(V )dV
CTe (Vbe )dVbe
CTc
bc
bc
截止、放大区,Ipcs = 0
饱和区, Ipcs
饱和时
I pcs
Q pc
pc
Ic
1
I pcs
I b 1
I b 1
1 I b
s
1
Q pc I pcs pc I b pc 1
s
2.7 开关特性17
134/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
1. 电荷控制理论
I b I pe I vb I vbs I CTe I CTc I pcs
I CDe( e )
对发射结发射区侧的扩散电容 CDe(e) 充电电流
CDe ( e ) CDe ( b ) CDe
I CDc( c )
dQb
I CDe ( e ) I CDc ( c )
dt
dQb
dt
对集电结集电区侧的扩散电容 CDc(c) 充电电流
截止、放大区, I CDc ( c ) 0
饱和区, I CDc ( c )
Ib
Ic
I CTe I CTc
dQ pc
I CDc ( c ) I CDc ( b )
dt
dQb dQ pc
I vbs I pcs
dt
dt
电荷控制方程
2.7 开关特性18
135/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
1. 电荷控制理论--各工作区讨论
Ib
Ic
I CTe I CTc
1). 截止区 Ic 0
Qb = Qpc = 0 I b CTe CTc
2). 放大区(有源区)
I CTe
d
dt
dQb dQ pc
I vbs I pcs
dt
dt
Vje = 0.7 V
Vbe ( t )
Vbe ( t0 )
dVje 0
dVbe
dt
Qpc = 0
CTe (Vbe )dVbe CTe Vbe
dVbe
dt
dVbe redIe
I CTe
dVbe (t )
dI e
dI c
CTe
CTe re
CTe re
dt
dt
dt
截止区电荷
控制方程
2.7 开关特性19
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
1. 电荷控制理论--各工作区讨论
同理
I CTc CTc RL rcs
dI c
dt
Vbc Vbe Vcc I c RL rcs
dQb d Wb2 Wb2 dI c
Ic
dt dt 2 Dnb 2 Dnb dt
Wb2
dI c
dI c
Ib
CTe re CTc rcs
RLCTc
2 Dnb
dt
dt
Ic
1
dI c
Ib
RLCTc
2f T
dt
Ic
放大区电荷控制方程
136/149
2.7 开关特性20
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
1. 电荷控制理论--各工作区讨论
Ic Ics dIc = 0 dVje = 0
3). 饱和区
在此忽略 I vbs 以及在饱和区 Qb I c b 几乎不随时间变化。
Ib
Ic
Q pc
pc
dQ pc dQb
>>
dt
dt
Ib
Ic
Q pc
pc
dQ pc
dt
饱和区电荷控制方程
137/149
2.7 开关特性21
138/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
Vbe ( t )
1
C Te
CTe (Vbe )dVbe
Vbe (t ) Vbe (t0 ) Vbe ( t0 )
2. 开关时间
1). 延迟时间 td = t1 t0
n+
p
放大区
..
A
D
n
td = td1 + td2
A
C
储存时间
上升时间
A
截止区
下降时间
计算 td1(截止区) 对 CTe, CTc 充电
..
B
A
延迟时间
A
dVbe
I b1 CTe CTc
dt
td 1
td 1
0
Vbe ( B ')
I b1dt
Vbe ( A)
CTe CTc dVbe
C Te C Tc
Vbe ( B' ) Vbe ( A) C Te C Tc 0.5 Vbb C Te C Tc Vbb 0.5
I b1
I b1
I b1
2.7 开关特性22
139/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
1). 延迟时间 td = t1 t0
计算 td2(放大区)
n+
p
..
A
D
A
C
储存时间
上升时间
A
n
下降时间
..
B
A
延迟时间
A
1
dI c
Ib
RLCTc
2f T
dt
Ic
C Tc
初始条件 Ic(0) = 0
dI c (t )
I c (t ) 1
I b1
RL C Tc
2f T
dt
t
I c (t ) I b1 1 exp
1 R C
L Tc
2
f
T
2.7 开关特性23
140/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
1). 延迟时间 td = t1 t0
1
I b1
td 2
RL C Tc ln
2f T
I b1 0.1I cs
1
0.1I cs
dI c (t ) 线性近似
I c (t ) 1
I b1
RL C Tc
I b1
RL C Tc
2f T
td 2
2f T
dt
1
0.1I cs
td 2
RL C Tc
2f T
I b1
Ic(t) 从 0 0.1Ics
t 从 0 td2
降低 td1 措施:
降低 td2 措施:
1o CTc
Ajc
2o Vbb
2o fT
Wb
3o Ib1 (但导致 s )
3o Ib1 (但导致 s )
1o CTe CTc
Aje Ajc
2.7 开关特性24
141/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
2). 上升时间 tr = t2 t1
n+
p
..
A
D
n
A
C
储存时间
上升时间
下降时间
A
..
B
A
延迟时间
A
1
dI c
RLCTc
计算 tr(放大区) I b
2f T
dt
1
I 0.1I cs
Ic(t) 从 0.1Ics 0.9Ics
tr t1 t2
RL C Tc ln b1
t 从 t1 t2
2f T
I b1 0.9 I cs
0.8 I cs
0.5I cs 1
线性近似
I b1
RL C Tc
tr = ?
2f T
tr
Ic
降低 tr 措施 降低 td2 措施
+ 4o Wb Lnb
nb
2.7 开关特性25
142/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
..
3). 储存时间 ts = t4 t3
n+
p
A
D
A
C
储存时间
n
ts = ts1 + ts2
饱和区
上升时间
下降时间
放大区
A
..
B
A
延迟时间
A
计算 ts1(饱和区) I b
Ic
Q pc
pc
dQ pc
dt
初始条件 Q pc (0) pc I b1
I
Q pc (t ) I b1 I b 2 pc exp t pc I b 2 cs pc
I cs
2.7 开关特性26
143/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
3). 储存时间 ts = t4 t3
当 t = ts1 时,Qpc = 0
ts1 pc ln
计算 ts2(放大区)
I b1 I b 2
I b 2 I cs
问题:用线性近似
如何计算 ts1 ?
1
dI c
Ib
RLCTc
2f T
dt
Ic
C Tc
初始条件 Ic(0) = Ics
t
I b 2
I c (t ) I cs I b 2 exp
1 R C
L Tc
2f T
2.7 开关特性27
144/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
3). 储存时间 ts = t4 t3
当 t = ts2 时,Ic = 0.9 Ics
1
I b 2 I cs
ts 2
RL C Tc ln
2f T
I b 2 0.9 I cs
问题:用线性近似如何计算 ts2 ?
降低 ts1 措施:
1o Ib1
s
降低 ts2 措施:
1o CTc
2o pc 掺 Au(有效复合中心)
2o fT
3o Ib2
3o Ib2
4o
Ajc
2.7 开关特性28
145/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
4). 下降时间 tf = t5 t4
n+
p
n
..
A
D
A
C
储存时间
上升时间
下降时间
A
..
B
A
延迟时间
A
计算 tf(放大区)
1
dI c
Ib
RLCTc
2f T
dt
t
I b 2
I c (t ) I cs I b 2 exp
1 R C
L Tc
2f T
Ic
2.7 开关特性29
146/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学)
2. 开关时间
4). 下降时间 tf = t5 t4
Ic(t) 从 0.9Ics 0.1Ics
问题:用线性近似如何计算 tf ?
1
I b 2 0.9 I cs
tf
RL C Tc ln
2f T
I b 2 0.1I cs
t 从 t4 t5
降低 tf 措施 降低 ts2 措施
综合考虑
ton = td + tr
CTe CTc
Ib1 Vcc
toff = ts + tf
fT
pc
fT
CTc
Ib1 Ib2 Vcc
2.7 开关特性30
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
2. 开关时间
5). 提高开关速度的途径
1o 掺 Au
pc
2o 不掺 Au 时 c Nc pc
3o Wc
Qpc
4o CTe
CTc
5o Wb
Qb fT
Aje
Ajc
147/149
2.7 开关特性31
148/149
C
Ic
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
rcs
2. 开关时间
6). 正向压降和饱和压降
(1) 正向压降 Vbes Vbes Ve I b rbs I e res
rbs
B
Ib
Ebers-Moll 方程
qVbe
R
qVbc Vbes
Ie
I ebo exp
I cbo exp
1
1
1 F R
kT
1
kT
F R
1
Ic
F
qV
1
qV
I ebo exp be 1
I cbo exp bc 1
1 F R
kT 1 F R
kT
消去 Vbc
kT I e R I c
Vbe
ln
1
q I ebo
消去 Vbe
Vc
+
Vces
+
Ve
res
E
kT F I e I c
V
1
bc q ln I
cbo
kT I e R I c
Vbe
ln
1 I b rbs I e res
q I ebo
0.7 V
2.7 开关特性32
149/149
2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间
2. 开关时间
6). 正向压降和饱和压降
(2) 饱和压降 Vces Vces Vbe Vbc I cs rcs I e res
合金管 rcs res 均很小
Vces
kT I e R I c I cbo kT 1 1 R I c I b
Vbe Vbc
ln
ln
q F I e I c I ebo q R 1 I c F I b
s Vces
(但 ts ) 一般 s 4 即可, Vces 0.1 V
平面管 rcs >> res
Vces Vbe Vbc I cs rcs I cs rcs
用 n+ 埋层或 n/n+ 外延结构做集电极