Transcript 第二章
1/149 半导体器件原理 主讲人:仇志军 本部物理楼435室 55664269 Email: [email protected] 助教:熊丝纬 [email protected] 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.6 频率特性 2.7 开关特性 2/149 3/149 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布1 2.1.1 晶体管的基本结构 发射区 基区 集电区 E n+ p C 发射区 基区 集电区 E p+ n B E npn p B C B n E C B pnp C 4/149 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布2 2.1.2 制造工艺 合金管 平面管 5/149 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布3 2.1.3 杂质分布 均匀基区 缓变基区 自建电场 扩散 扩散型晶体管 基区内载流 子传输方式 扩散 + 漂移 漂移型晶体管 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.6 频率特性 2.7 开关特性 6/149 2.2 电流放大原理1 2.2.1 放大条件 E C n+ Ie p RE n Ic B Vbe Ib Vcb RL 放大条件: 1、Wb << Lnb 2、发射结正偏 3、集电结反偏 7/149 8/149 2.2 电流放大原理2 2.2.2 电流传输 I e I ne I pe I c I nc I cbo I b I pe I vb I cbo Ine Inc Ie Ib Ic 9/149 2.2 电流放大原理3 2.2.3 共基极电流放大系数 Ie Ib Ic Ic <1 I e Vcb 0 1 I c I ne I nc I c * * I e I e I ne I nc 发射效率(注入比) 基区传输系数 Ie Vbe Ib Ic Vcb 集电区倍增因子 I ne I ne 1 1 (当 Ne / Nb >> 1 时) I e I ne I pe 1 I pe I ne I nc I ne I vb I vb 1 I ne I ne I ne * 1 (当 Wb << Lnb 时) 10/149 2.2 电流放大原理4 2.2.4 共射极电流放大系数 Ic Ic Ib V Ie Ic 1 ce >> 1 Ib Ic Vce Vbe Ie 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.6 频率特性 2.7 开关特性 11/149 12/149 2.3 直流特性1 2.3.1 晶体管中的少子分布 Ecp N+ P q(VD –V) N Efp x -x1 0 Wb x2 Ecp qV Ecn p Ef Ef n Evp Evp q(VD -V) qV Evn x p xn n pb (0) n 0pb exp qVbe kT n pb (Wb ) n 0pb exp qVbc kT 0 0 pne ( x1 ) pne exp qVbe kT x2 0 pnc ( x2 ) pnc exp qVbc kT 0 Ecn Efn Evn 13/149 2.3 直流特性2 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 假设: 突变结 一维(Aje = Ajc = A) 外加偏压全加在结上 忽略势垒区的产生-复合电流 小注入 基区均匀掺杂 1. 少子分布 (1) 基区 d 2 n pb ( x ) n pb ( x ) n 0pb 2 L nb Dnb n 0 dx 2 L2nb n pb (0) n 0pb exp qVbe kT n pb (Wb ) n 0pb exp qVbc kT 0 0 Wb n pb (0) sinh Wb x Lnb n pb (Wb ) sinh x Lnb n pb ( x ) n sinh Wb Lnb Wb << Lnb 0 pb n 0pb exp qVbe kT 1 x Wb 14/149 2.3 直流特性3 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 1. 少子分布 (2) 发射区 d 2 pne ( x ) pne ( x ) pne0 0 2 2 dx Lpe We >> Lpe 0 pne ( x1 ) pne exp qVbe kT 0 pne ( ) pne 0 pne ( x) pne pne ( x1 ) exp x x1 Lpe -x1 0 Wb x 2 We We << Lpe 且 pne ( x1 We ) 0 0 pne ( x ) pne exp qVbe kT 1 x x1 We -x1 0 Wb x 2 15/149 2.3 直流特性4 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 1. 少子分布 (3) 集电区 d 2 pnc ( x ) pnc ( x ) pnc0 0 2 2 dx Lpc 0 pnc ( x2 ) pne exp qVbc kT 0 0 (Wc >> Lpc ) pnc ( ) pnc 0 1 exp x x2 Lpc pnc ( x ) pnc -x10 Wb x 2 16/149 2.3 直流特性5 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 2. 电流密度 (只计算扩散电流) (1) 基区中电子电流 J nb dn pb ( x ) qDnb dx -x10 Wb x 2 n pb (0) sinh Wb x Lnb n pb (Wb ) sinh x Lnb n pb ( x ) n sinh Wb Lnb 0 pb qDnb n pb (0) coshWb x Lnb n pb (Wb ) cosh x Lnb Lnb sinh Wb Lnb 2.3 直流特性6 17/149 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 2. 电流密度 (只计算扩散电流) (1) 基区中电子电流 Jnb(0) Jnb(Wb) qDnb n pb (0) cosh Wb Lnb n pb (Wb ) J nb (0) Lnb sinh Wb Lnb qDnb n pb (0) n pb (Wb ) cosh Wb Lnb J nb (Wb ) Lnb sinh Wb Lnb J nb (0) J nb (Wb ) 0 n 0pb exp qVbe kT Wb a qDnb n pb (0) n pb (Wb )coshWb Lnb 1 J vb Lnb sinhWb Lnb Wb << Lnb 0 b 0 Wb qDnb n 0pb J nb ( x ) exp qVbe kT Wb = 常数 = Jnb(0) = Jnb(Wb) 问题:上述结论也可从载流子线性分布直接推出. 问题:考虑复合时,少子如何分布?a 还是 b ? 2.3 直流特性7 18/149 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 2. 电流密度 (只计算扩散电流) (2) 发射区中空穴电流 We >> Lpe 0 pne ( x) pne pne ( x1 ) exp x x1 Lpe qDpe pne0 exp qVbe kT 1 J pe ( x1 ) Lpe (3) 集电区中空穴电流 Wc >> Lpc 0 1 exp x x2 Lpc pnc ( x ) pnc qDpc pnc0 exp qVbc kT 1 J pc ( x2 ) Lpc x2 19/149 2.3 直流特性8 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 3. Ie、Ib、Ic 表达式 (1) Ie 表达式 J e J ne ( x1 ) J pe ( x1 ) J nb (0) J pe ( x1 ) 0 Dnb n 0pb Wb D pe pne qVbe 1 q coth exp L L L kT nb pe nb qDnb n 0pb Wb qVbc csc h exp 1 Lnb kT Lnb qV qV I e J e A a11 exp be 1 a12 exp bc 1 kT kT 0 Dnb n 0pb Wb D pe pne a11 qA coth L L L nb pe nb x2 E C Ie Ic Ib qADnb n 0pb W a12 csc h b Lnb Lnb B x Je , Jc 20/149 2.3 直流特性9 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 3. Ie、Ib、Ic 表达式 (1) Ie 表达式 Wb << Lnb 时,且放大偏置 0 0 Dnb n 0pb D pe pne qVbe qDnb n pb J e q 1 exp W L kT Wb b pe qVbc exp kT 1 qVbe qVbc I e a11 exp 1 a12 exp 1 kT kT 0 Dnb n 0pb D pe pne a11 qA W L b pe qADnb n 0pb a12 Wb 21/149 2.3 直流特性10 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 3. Ie、Ib、Ic 表达式 (2) Ic 表达式 J c J nc ( x2 ) J pc ( x2 ) J nb (Wb ) J pc ( x2 ) qDnb n 0pb W qV csc h b exp be 1 Lnb kT Lnb 0 Dnb n 0pb D p Wb qVbc 1 pc nc q coth exp L pc kT Lnb Lnb qVbe qVbc I c J c A a21 exp 1 a22 exp 1 kT kT x2 E C Ie Ic Ib 0 Dnb n 0pb qADnb n 0pb Wb D pc pnc Wb coth a21 csc h a12 a22 qA L L L Lnb L nb pc nb nb B x Je , Jc 2.3 直流特性11 22/149 2.3.2 理想晶体管的电流-电压方程 3. Ie、Ib、Ic 表达式 (2) Ic 表达式 Wb << Lnb 时,且放大偏置 0 Dnb n 0pb D pc pnc qDnb n 0pb qVbe qVbc Jc exp 1 q exp 1 Wb Lpc kT kT Wb qVbe qVbc I c a21 exp 1 a22 exp 1 kT kT qADnb n 0pb a21 a12 Wb 0 Dnb n 0pb D pc pnc a22 qA W L b pc 23/149 2.3 直流特性12 2.3.3 、 表达式 1. 表达式 = * * (1) J ne 1 1 J e 1 J pe J ne 1 J pe ( x1 ) J ne (0) Dpe p Lnb Wb 1 tanh Dnb n Lpe Lnb 0 ne 0 pb pb N b Wb 1 N L ne e pe 1 1 x2 Dpe p Wb 1 D n L nb pe e Wb 1 L b pe 0 ne 0 pb 1 We < Lpe 1 (Wb < Lnb) e Wb 1 b We 1 24/149 2.3 直流特性13 2.3.3 、 表达式 L 1. 表达式 W W = * * 薄层电阻推导示意图 (1) R e Wb 1 L b pe t 电流I L n W n n Rs S t W t 1 We < Lpe 定义方块电阻 Rsh ,e e We Rsh,b b Wb 要 则要 Rsh,e/Rsh,b Ne/Nb Rsh ,e 1 Rsh ,b 1 25/149 2.3 直流特性14 2.3.3 、 表达式 1. 表达式 = * * (2) * J nc J nb (Wb ) x J ne J nb (0) qDnb n 0pb Wb J ( 0 ) coth exp( qVbe kT ) 放大偏置时 nb Lnb Lnb qDnb n 0pb Wb J nb (Wb ) csc h exp( qVbe kT ) Lnb Lnb * 2 2 J ( W ) W W * nb b sec h b 1 b2 J nb (0) 2 Lnb Lnb 要 * 则要 Wb Lnb nb 2.3 直流特性14 26/149 2.3.3 、 表达式 1. 表达式 = * * (3) * = 1 e Wb 1 L b pe 2 W * * b 1 2 2 Lnb 1 2 J ( W ) W W * nb b sec h b 1 b2 J nb (0) 2 Lnb Lnb 2 e Wb W W 1 1 e b b2 1 L b L pe 2 Lnb b pe 2. 表达式 eWb W 1 1 1 b Lpe 2 L 2 b 2 nb 1 >> 1 27/149 2.3 直流特性15 2.3.4 理想晶体管的输入、输出特性 1. 共基极 Ie IE / mA Vbe Ic Ib VCB VBE / V 输入特性 输出特性 Vcb 28/149 2.3 直流特性16 2.3.4 理想晶体管的输入、输出特性 2. 共射极 Ic Ib Vce Vbe Ie VCE 输出特性 输入特性 29/149 2.3 直流特性17 2.3.5 晶体管的非理想现象 1. 发射结结面积对 的影响 Ine’ n+ 本征基区:Wb << Lnb Ajeo Ine n 非本征基区:Wb >> Lnb p Aje* I pe J pe A*je Ajeo I ne J ne A*je J pe A Ajeo Ajeo I ne 1 * ' * I ne I pe I ne J ne Aje Aje 1 1 Ajeo J pe 1 * 1 Aje J ne * je 要 则要 Ajeo/ Aje* 结面积大、结浅 1 30/149 2.3 直流特性18 2.3.5 晶体管的非理想现象 2. 基区宽度调制效应(Early效应) N+ P Wb* N Wb Vcb Wb* dnb/dx Ine Ic qADnb n 0pb I c I ne exp qVbe kT * Wb I c I I Wb I Wb I c c c c Vce Vcb Wb Vcb Wb Vcb VA Early 电压 VA Wb 影响输出电阻 Wb Vcb Wb 对非均匀基区晶体管 V A 0 N b ( x )dx Wb N b (Wb ) Vcb 2.3 直流特性19 31/149 2.3.5 晶体管的非理想现象 3. 发射结复合电流影响 Ie Ipe Ire Ivb Ic ni exp qVbe 2kT 2 1 I re q e An i exp qVbe 2kT 2 I e I ne I pe I re I ne I ne I pe I re 复合率 U Ine 0 -x1 Vbe 2 势垒区 np ni exp qVbe kT > ni2 qADnb n 0pb I ne exp qVbe kT Wb eWb N b eWb 1 exp qVbe 2kT 2 b Lpe 2ni Lnb 1 32/149 2.3 直流特性20 2.3.5 晶体管的非理想现象 3. 发射结复合电流影响 发射结复合电流影响 增益 随电流 Ic 变化 Ic I nc I ne I b I pe I re I vb I pe I re I vb 1 I pe I vb I re exp qV mkT be I ne I ne I ne exp qV kT be e Wb b L pe Wb2 2 L2nb qV exp 1 m 1 be kT d log I c d I c d dVbe 1 1 m d log I c dIc dVbe dIc 2.3 直流特性21 33/149 2.3.5 晶体管的非理想现象 4. 大注入效应之一 Webster 效应 基区大注入条件:npb(0) ~ Nb Ex.:Si npn晶体管:若 Nb = 1017 cm-3 , 计算当 npb(0) = 0.1Nb 时所需的发 射结偏压Vbe .(答案:0.76 V) qADnb n 0pb I c I ne exp qVbe kT Wb Dnb 2Dnb qVbe/kT qVbe/ 2kT I c I ne qA2 Dnb I pe ni expqVbe 2kT Wb qDpe pne0 exp qVbe kT Lpe 34/149 2.3 直流特性22 2.3.5 晶体管的非理想现象 4. 大注入效应之一 Webster 效应 增益 随电流 Ic 变化 1 Ic I ne I b I pe I re I vb Webster 效应 I pe I vb I re I ne I ne I ne I pe exp qVbe kT I ne exp qVbe 2kT I pe exp qVbe 2kT Ic I ne 1 1 I c 2 3 I c1 m1 发射结复合电流 1 Wb2 2 基区复合 2 2L nb Webster 效应 ( D nb 2 D nb ) 2.3 直流特性23 2.3.5 晶体管的非理想现象 5. 大注入效应之二 Kirk 效应 n p n+ (基区展宽效应) E x q ( N c nc ) q ( N b + nc ) 集电区大注入:nc ~ Nc 集电极电流 Jc nc nc Jc qvs 饱和漂移速度 35/149 36/149 2.3 直流特性24 2.3.5 晶体管的非理想现象 5. 大注入效应之二 Kirk 效应 N - -- -- -- -- ---- Emax Wc 中性 nc = N c nc > N c 问题:计算 Jc0 , nc0 1 Vbc Wc E max 2 s Vbc 2 nc 0 Nc 2 E max qnc 0 N c qWc Wc s 即 J c0 临界 Jc0 nc = nc0 Kirk 效应 2 s Vbc qvs N Jc > Jc0 Wb Wb + Wb c 2 qWc 2.3 直流特性25 2.3.5 晶体管的非理想现象 6. 大注入效应之三 发射极电流集边效应(基极电阻自偏压效应) Seff -发射极有效半宽 kT Vy V ( Seff ) Vy (0) q J (Seff) = J (0) x e-1 Se z y x Seff Wb Le S eff Ic kT q kT pb N bWb Le Ic 37/149 38/149 2.3 直流特性26 2.3.5 晶体管的非理想现象 6. 大注入效应之三 发射极电流集边效应(基极电阻自偏压效应) 发射极电流分布 E B +dIB V ( y) 0 … J e ( y ) J e (0) exp qV ( y ) kT … dV ( y ) I b ( y ) drb I b ( y ) b dy J b ( y ) b dy LeWb dIb J e ( y ) J c ( y ) Le dy 0 rbb’ y y JC y+dy y dJb J e ( y ) J c ( y ) 1 J e ( y ) dy Wb Wb d 2V ( y ) b 1 qV ( y ) V(y) Je (y) J e (0) exp 2 kT Seff = ? dy Wb qV ( y ) qV ( y ) exp 1 kT kT 39/149 2.3 直流特性27 2.3.6 实际晶体管的输入、输出特性 rbb’自偏压 Webster/Kirk 效应 发射结复合电流影响 Webster/Kirk 发射结复合电流 Si 晶体管 Vbe (V) 40/149 2.3 直流特性28 2.3.6 实际晶体管的输入、输出特性 1. 共基极输入、输出特性 E N+ P* Wb Wb Vcb Wb* dnb/dx C B dnb/dx Early 效应 Vcb 0, I c 0 输入特性 输出特性 N Ine Ic 41/149 2.3 直流特性29 2.3.6 实际晶体管的输入、输出特性 2. 共射极输入、输出特性 Early 效应 C B E Early 效应 基区复 合减少 Vbe 0, I b I cbo 输入特性 输出特性 问题:为什么Early效应对共发射极输出特性有明显影响,而共基极输出特性却无明显影响? 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.6 频率特性 2.7 开关特性 42/149 43/149 2.4 反向特性1 2.4.1 晶体管的反向电流 PN 结反向电流 I R Id I g Il n p < ni 2 漏电流(与工艺有关) pn np p n Si 管:Ig 为主 产生电流 Dn n 0p D p pn0 扩散电流 qA Lp Ln Dn ni2 D p ni2 qA L N n A Lp N D IR (Si) << IR (Ge) Ge 管:Id 为主 qAni x D 2 44/149 2.4 反向特性2 2.4.1 晶体管的反向电流 1. Icbo n+ + Veb(fl) qAni xc 2 Dnb n 0pb D pc pnc0 1 qA L pc Wb Si : I cbo p n Icbo Ge:I cbo V 因此 I c I e I cbo 问题:为什么有浮动电压 Veb(fl) ,且 > 0? 2. Iebo n+ Iebo p n Si : I ebo Ge: I ebo qAni xe 2 Dnb n 0pb D pe pne0 1 I qA W L b pe 反向工作注入比 45/149 2.4 反向特性3 2.4.1 晶体管的反向电流 3. Iceo(反向穿透电流) I c I e I cbo n+ p n Iceo Ie Ib Ic 基极开路 Ib = 0 I ceo I ceo I cbo I ceo 1 问题:从物理上如何理解此关系? I cbo 1 I cbo 1 结论:要 Iceo 则 Icbo 不宜太高 I c I e I cbo Ie Ib Ic 1 Ic Ib I cbo I b 1 I cbo I b I ceo 1 1 2.4 反向特性4 46/149 2.4.2 晶体管的反向击穿电压 1. BVebo 特点: Ie n+ p 1o 通常为雪崩击穿 Nb 很高时可能有齐纳 n A Veb BVebo 2o 双扩散管击穿在表面 3o 通常 BVebo > 4 V 即可 2. BVcbo Ic n+ p 特点: n 1o 雪崩击穿 A Vcb BVcbo 2o BVcbo 越高越好 理想 BVcbo = VBR(纯pn结) 2.4 反向特性5 47/149 2.4.2 晶体管的反向击穿电压 3. BVce BVceo BVces BVcer BVcex (1) BVceo 雪崩击穿时 I c MI e MI cbo 基极开路时 Ib = 0 Ic = Ie I ceo MI cbo 1 M M→∞ Iceo 发生雪崩倍增条件:1 M = 0 M = 1/(更容易达到) 经验公式: 4 npn 1 n(Si)= M n 2 pnp 1 V VBR BVcbo BVceo n 1 n(Ge)= BVceo < BVcbo 3 npn 6 pnp 2.4 反向特性6 48/149 2.4.2 晶体管的反向击穿电压 3. BVce BVceo BVces BVcer BVcex (1) BVceo 问题:击穿时为何有负阻特性? 集电结雪崩 注入到基区 的空穴 基区开路 无法流出 填充发射 结耗尽区 发射结正 偏压增大 I c , 填充集电 结耗尽区 集电结反 偏压减小 M M 1 1 n 1 V VBR 负阻 2.4 反向特性7 2.4.2 晶体管的反向击穿电压 3. BVce BVceo BVces BVcer BVcex (2) BVces > BVceo rb Ic Ib RL Vce Ie (3) BVceo < BVcer < BVces (4) BVcex > BVcer 49/149 2.4 反向特性8 50/149 2.4.3 晶体管穿通电压(punch-through) 1. 基区穿通 Ic n+ p BVcbo = Vpt + BVebo xc n Vcb Vpt BVcbo 不发生穿通现象的条件:Vpt > BVcbo Nc W Wb xc 0 Nc Nb 1 qN eff 2 V pt xc 2 s * b 2 sV pt Wb 2 q N b N eff 1/ 2 2 sVcbo 2 q N b N eff 1/ 2 结论:合金管更容易发生基区穿通,而平面管则不太可能发生。 Nc<Nb,集电结耗尽区主要向集电区扩展 2.4 反向特性9 51/149 2.4.3 晶体管穿通电压(punch-through) 2. 集电区穿通效应 n+ p E n (Nc) 为防止集电区穿通:Wc xmc’ (←Nc) n+ 集电区穿通时击穿条件:Emax = Ec 1/ 2 0 Wc xmc’ x ' mc x Emax 电场分布斜率一样 集电区穿通电压 2 s VBR q Nc 1 ' E max xmc VBR 2 ' ' 1 xmc Wc Emax xmc Wc VBR BVcbo ' 2 xmc BVcbo Wc Wc VBR ' 2 ' xmc xmc 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.6 频率特性 2.7 开关特性 52/149 2.5 晶体管的模型1 53/149 2.5.1 Ebers-Moll 方程(本征晶体管) qVbe qVbc I e a11 exp 1 a12 exp 1 kT kT qV qV I c a21 exp be 1 a22 exp bc 1 kT kT 0 Dnb n 0pb Wb D pe pne a11 qA coth L L L nb pe nb qADnb n 0pb W a12 a21 csc h b Lnb Lnb 0 Dnb n 0pb Wb D pc pnc a22 qA coth L L L nb pc nb 2.5 晶体管的模型2 54/149 2.5.1 Ebers-Moll 方程(本征晶体管) IF Ie E Ie IF R IR IR Ic RIR FIF Ic IR F IF Ib 其中 规定:端电流流入为正 B I b 1 F I F 1 R I R C I F I F 0 exp qVbe kT 1 I R I R 0 exp qVbc kT 1 a11 I F 0 a12 a21 F I F 0 R I R 0 Ebers-Moll方程: I e I F 0 exp qVbe a22 I R 0 kT 1 R I R 0 exp qVbc kT 1 I c F I F 0 exp qVbe kT 1 I R 0 exp qVbc kT 1 问题:求 IF0, IR0 与 Iebo, Icbo 之间的联系. 答案:Iebo = (1 FR) IF0 , Icbo = (1 FR) IR0 . 2.5 晶体管的模型3 55/149 2.5.1 Ebers-Moll 方程(本征晶体管) Ebers-Moll方程: 1 qVbe R qVbc Ie I ebo exp I cbo exp 1 1 1 F R kT 1 F R kT Ic F qV 1 qV I ebo exp be 1 I cbo exp bc 1 1 F R kT 1 F R kT F I ebo R I cbo F = 100 只有 3 个独立参数 R = 2 2.5 晶体管的模型4 56/149 2.5.2 实际晶体管模型 IF E (Vce’/VA)IF IR res E’ C’ rcs B’ Ce gle Cc glc rbb’ I c ( 有Early 效应) I c ( 无Early 效应) Vc’e’ Ic(无Early效应) C B Ic(有Early效应) I c ( 无Early 效应) VA Vc 'e ' 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.6 频率特性 2.7 开关特性 57/149 2.6 频率特性1 58/149 2.6.1 晶体管的放大作用 Ie Ie p n+ n n RL RE Vbe Ic Ic RL Ib p Ib Vcb RB Vbe 问题:共基极有放大作用吗? 问题:放大时能量守恒吗 ? Vce n+ Ie 2.6 频率特性2 2.6.1 晶体管的放大作用 Ie Ie 1. 共基极 re RE ri re re RE Vi I e re Pi I e2 re rc RL ro RL rc RL Vo I c RL Po I RL 2 c 59/149 p n+ Ic n RL RE Vbe Ib Vcb Ic GI 1 Ie V I R R GV o c L L >> 1 Vi I e re re Po I c2 RL RL GP 2 >> 1 Pi I e re re Transistor = Trans + Resistor ! 2.6 频率特性3 2.6.1 晶体管的放大作用 60/149 Ic n 2. 共发射极 RL Ib p RB re RB ri re re RB Vi I b re Pi I b2 re rc RL RL rc RL Vo I c RL ro Po I c2 RL Vce n+ Vbe Ie Ic GI >> 1 Ib V I R R GV o c L L >> 1 Vi I b re re Po I c2 RL R GP 2 2 L >> 1 Pi I b re re 功率放大的是交流信号! 2.6 频率特性4 61/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 ii io + + 以 ii io 为自变量 z 参数等效电路 vo vi 1. y 参数等效电路 (共基极) IF IR Ie E RIR FIF Ib B 以 vi vo 为自变量 y 参数等效电路 以 ii vo 为自变量 h 参数等效电路 Ic 本征晶体管的直流模型 Ebers-Moll 方程: C qV qV I e a11 exp be 1 a12 exp bc 1 kT kT qVbe qVbc I c a21 exp 1 a22 exp 1 kT kT 2.6 频率特性5 62/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 1. y 参数等效电路-以 vi vo 为自变量 求 Ie(Veb, Vcb), Ic(Veb, Vcb) 对 E-M 方 程求微分 dI e qa11 qV qa qV exp be dVbe 12 exp bc dVbc kT kT kT kT qa21 qVbe qa22 qVbc dI c exp exp dVbe dVbc kT kT kT kT ie y11ve y12 vc ie dI e ve dVbe ic y21ve y22 vc ic dI c vc dVbc y11 qa11 qV I e exp be >0 kT kT Veb qa12 qVbc I e y12 exp <0 kT kT Vcb 量纲:电导 qa21 qVbe I c y21 exp <0 kT kT V eb qa22 qVbc I c y22 exp >0 kT kT Vcb 2.6 频率特性6 63/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 1. y 参数等效电路-以 vi vo 为自变量 共基极 y 参 数等效电路 E ie ic C + + y111 ve |y12|vc |y21|ve y221 vc B 放大偏置时 E B ie ic C + ve B kT y re qI e 1 11 a21 / a11 F + ie rc vc y21 / y11 F ve ie re B 2.6 频率特性7 64/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量 C B ib ic C + B + ? vbe vce E E 全微分 E h 参数 以 ib vce 为自变量 Vbe Vbe dVbe dI b dVce I b Vce Vce I b I c I c dI c dI b I b Vce Vce dVce Ib vbe(ib, vce) ic(ib, vce) vbe h11ib h12 vce ic h21ib h22 vce 2.6 频率特性8 65/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量 h11 Vbe I b 1 Vbe Vce I b Vce hie 共发射极输出端交流短路时的输入电阻 B ib + vbe E ic C + vce E Ebers-Moll方程 I b 1 F I F 0 exp qVbe kT 1 1 R I R 0 exp qVbc kT 1 放大偏置时,Vbe >> kT/q, Vbc < 0 I b 1 F I F 0 exp qVbe kT I b qI b Vbe Vce kT kT h11 hie re qI b VCE h-111 2.6 频率特性9 66/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 ic C 2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量 B ib + Vbe h12 > 0 Why ? vbe Vce I b E hre 共发射极输入端交流开路时的电压反馈系数 Vbe Vce Ib Vce 1 Vbe Ib Vbc Vbe Vbc 1 1 1 Vbe Vbe I b Ib 由 Ib(Vbe, Vbc) 全微分 I b 1 F I F 0 exp qVbe kT 1 1 R I R 0 exp qVbc kT 1 q qV q qV exp be dVbe 1 R I R 0 exp bc dVbc kT kT kT kT 1 F I F 0 exp qVbe kT 1 F R qV qV exp ce R exp ce 1 R I R 0 exp qVbc kT 1R F F kT kT dI b 1 F I F 0 Vbc Vbe Ib + vce E 2.6 频率特性10 67/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量 F qVce h12 hre exp R qV R kT 1 exp ce F kT 1 实际 hre 104,原因: (i) Early 效应,Wb(Vce) 0 (<10 15) VCE=4V (ii) Early 效应,rbb’(Vce) (i) Early 效应,Wb(Vce) (Vce) Vbc Vbe Ib 1 F qI F 0 exp qVbe I R 0 exp qVbc 1 R kT kT kT Vbe Ib 1 R qI R 0 exp qVbc I F 0 exp qVbe 1 F kT kT 1 F q 1 F kT V bc I b <0 kT Vbc VBE Ib 2.6 频率特性11 68/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量 B ib I + h21 c I b Vce vbe hfe 共发射极输出端交流短路时的正向电流传输比 E ic C + vce E 共发射极 E-M 方程: I c F I b 1 F I cbo expqVbc kT 1 F I b I ceo I c F h21 h fe F Ib I b Vce I b 中等电流 Ib , F I b 0 Vce IC Vce h21 h fe F IB 2.6 频率特性12 69/149 2.6.2 低频交流小信号等效电路 2. h 参数等效电路 (共发射极)-以 ii vo 为自变量 I c h22 Vce B ib + vbe E Ib hoe 共发射极输入端交流开路时的输出电 导 I c 0 Vce Early 效应 B ib ic C + vce E 输出阻抗rce 不是 ic hoe C + + hie vbe E + ~ hrevce hfeib hoe1 vce E 问题:共基极 h 参数 等效电路如何画? 2.6 频率特性13 70/149 2.6.3 放大系数的频率特性 1. 晶体管的高频效应 inc ( 0) re inc ( xm ) E ie res i pe iCTe ine CTe CDe CDc iCDe ivb rbb’ n 0 B 交流(高频): t ie ~ ic 相位差 CTc rc incc iCTc rcs ic C 2.6 频率特性14 71/149 2.6.3 放大系数的频率特性 2. () 和发射极延迟时间 e 2.1. () I ne 直流(或低频) I ne I pe 高频 ie ine i pe iCTe ine ine i pe iCTe iCTe 问题:为什么CTe充放电电流对 有影响,而CDe充放电电流对 无影响? 2.2. e CTe E re iCTe ine+ ipe B ine ine i pe ine 0 0 iCTe ie 1 ireCTe 1 i e 1 ine i pe e reCTe 正偏 pn 结CTe = 2.5~4.0 CTe(0) 2.6 频率特性15 72/149 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 3. *() 和基区渡越时间 b 3.1 *() Vbe VE ve (t ) VE Ve exp( it ) Vbc VC vc (t ) VC Vc exp( it ) n+ ~ p n ~ ve(t) VE VC 假设 Wb = 常数 基区中少子分布 npb(x,t) n pb ( x, t ) 2 n pb n pb n 0pb Dnb 2 t x nb vc(t) n+ p n ie, ic 0 Wb 2.6 频率特性16 73/149 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 3. *() 和基区渡越时间 b 3.1 *() n pb ( x, t ) n0 ( x ) n1 ( x ) exp( it ) n pb ( x, t ) 2 n pb n pb n 0pb Dnb 2 t x nb n1 ( x ) A exp x L'nb B exp x L'nb 0 n n d n0 0 pb 0 直流分量 2 2 dx Lnb d 2 n1 n1 交流分量 0 dx 2 L'nb 2 Lnb ' L 通解 nb 1 i nb 2 qVE Ve exp it n pb (0, t ) n 0pb exp kT 边界条件 小信号条件 qVC Vc exp it 0 n pb (Wb , t ) n pb exp kT kT Vc kT Ve q q qVE qVe 0 n pb (0, t ) n pb exp exp it nE ne exp it 1 kT kT 边界条件 qVC qVc 0 n pb (Wb , t ) n pb exp exp it nC nc exp it 1 kT kT 2.6 频率特性17 74/149 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 3. *() 和基区渡越时间 b 3.1 *() npb (Wb , t ) nC nc expit npb (0, t ) nE ne expit nE n exp qVE kT 0 pb ne qnE Ve kT 边界条件 nC n expqVC kT 0 nc 0 pb n1 ( x ) A exp x L'nb B exp x L'nb qnC Vc 0 kT Lnb L 1 i nb ' nb qVe sinh Wb x L'nb n1 ( x ) nE kT sinh Wb L'nb n pb ( x, t ) n0 ( x ) n1 ( x ) exp( it ) d n1 ( x ) exp it qDnb nE qVe coshWb x L'nb jnb qDnb exp it ' ' dx Lnb kT sinh Wb Lnb 2.6 频率特性18 75/149 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 3. *() 和基区渡越时间 b 3.1 *() 交流 Wb Wb jnb (Wb ) sec h ' sec h 1 i nb jnb (0) Vc 0 Lnb Lnb * Wb2 * ( ) sec h Wb L'nb 1 Wb2 2 L2nb 1 i nb Wb2 Wb2 1 2 1 2 i * 2 2 2 L 2 L 2 D 0 sec h Wb Lnb 1 Wb 2 Lnb nb nb nb Wb2 1 1 1 i 2 Dnb 1 i Wb2 2 Dnb 1 i b 严格分析可以证明: 超相移因子 0* exp im b 1 m 1 i b 1 m Wb2 b 2 Dnb * m 0.22 0.098 电场因子 N b (0) ln N b (Wb ) 2.6 频率特性19 76/149 2.6.3 放大系数的频率特性 3. *() 和基区渡越时间 b I nc I ne Aqnpb ( x) ( x) 1. 3.2 基区渡越时间 b Wb b 0 IncIne Ine Wb I ne AqDnb 0 Wb 扩散电容 3. b C De re Wb Aqnpb ( x ) 1 dx dx 0 ( x) I ne n pb (0) Wb 0 Aqnpb (0)(1 Wxb ) I ne 1 Q qA n pb (0) Wb 2. 2 Q Wb2 b I ne 2 Dnb dQ dVbe q 1 qVbe q Wb2 0 qAn pb exp Ie Wb E kT 2 kT 2 Dnb kT CDe re kT qI e Wb2 = 1/b dx 2 Dnb 发射结电阻 re CDe B 2.6 频率特性20 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 4.集电结势垒区输运系数 d () 和集电结渡越时间 d 4.1 d () E > 104 V/cm n p - ++ - ++ - ++ qnvs E 77/149 t d xm d 2 2v s vs = 8.5 106 cm/s td = xm / vs xm x jc j传导 j位移 jnc s E t E(x,t) jnc qnvs 假设 连续性方程 n( x, t ) n( x) expit n 1 jnc t q x dn( x ) in( x ) dx vs 2.6 频率特性21 78/149 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 4.集电结势垒区输运系数 d () 和集电结渡越时间 d 4.1 d () dn( x ) in( x ) dx vs n( x ) n(0) exp ix v s jnc qnvs n( x, t ) n( x) expit jnc ( x, t ) qv s n(0) exp ix v s exp it x jnc ( x, t ) jnc 0, t x qv s n(0) exp i t vs v s 对势垒区积分 xm xm xm x 0 jc dx 0 (q)vs n(0) exp i t vs dx t 0 s E ( x, t )dx 1 exp itd s Vbc jc ( q)vs n(0) exp it 0 itd xm t jc 1 exp itd d 定义: d 势垒区平均传导电流 jnc jnc (0) Vbc itd 2.6 频率特性22 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 4.集电结势垒区输运系数 d () 和集电结渡越时间 d 4.2 d 1 2 1 1 itd itd ...... 1 exp itd 2 d itd itd 1 1 1 1 itd 1 2 1 itd 1 i d 2 t d xm 这里 d 2 2v s 79/149 2.6 频率特性23 80/149 2.6.3 放大系数的频率特性(自学) 5. 集电极衰减因子 c 和集电极延迟时间 c E ie + CTe hib CDe + ~ ie hrbvc c rcs CTc inc C’ incc iCTc hob1 ic C rcs CTc B’ rbb’ B incc incc c inc innc iCTc Vcb = 常数 c rcs CTc 1 1 1 1 iCTc rcs 1 ircs CTc 1 i c 1 1 1 iCTc innc 2.6 频率特性24 81/149 2.6.3 放大系数的频率特性 6. 放大系数的频率特性 6.1 () 和 f d c * 低频 0 1 i e 1 i b 1 i d 1 i c 0 0 1 i e b d c 1 i ce 0 0 0 ( ) 1 i ce 1 i 1 i f f 共基极截止频率 f 1 2 ce ce e b d c Wb2 x reCTe m rcsCTc 2 Dnb 2vs 1 2 e b d c 2.6 频率特性25 82/149 2.6.3 放大系数的频率特性 6. 放大系数的频率特性 6.1 () 和 f Wb2 x ce e b d c reCTe m rcsCTc 2 Dnb 2vs 1 1 f 2 ce 2 e b d c 0 f 2 dB(分贝)定义: (dB) 20 log (dB) 20 log f : 3dB 频率 通常 b >> e d c 2.6 频率特性26 2.6.3 放大系数的频率特性 B ic ? = ib Vce 1 CTc E ic ic e 定义 e ie Vce ie ic Vce 1 e ie CTe re res E CDe e 定义 CTe ic ie Vcb B r bb’ C 定义 6. 放大系数的频率特性 6.2 () 和 f 83/149 CTc e reCTe rcs C e' re CTe CTc 2.6 频率特性27 84/149 2.6.3 放大系数的频率特性 6. 放大系数的频率特性 6.2 () 和 f 0 0 e ' 1 i e b d c 1 i f f' e' re CTe CTc reCTe e e f f ' 1 i f f' 1 2 e' b d c CTe >> CTc 0 e 1 i f f' 0 1 e 1 f ' 0 1 0 i f f 0 0 ' 1 i 0 f f 1 i f f ' f f' 0 0 1 0 1 i f 0 1 f f' 1 0 2.6 频率特性28 85/149 f 2.6.3 放大系数的频率特性 0 2 6. 放大系数的频率特性 6.2 () 和 f 同样 1 ' 1 ' e b d c 0 0 1 Wb2 xm reCTe rcsCTc 0 2 Dnb 2vs 6.3 fT 0 1 i f f f : 3dB 频率 f f 0 1 m 共发射极截止频率 考虑超相移因子 m,且 b >> e d c (1) fT 定义 1 f > f 时, > 1. 定义 0 1 fT f 2 1 fT 1 0 >> 1 fT 0 f f 1 m 2.6 频率特性28 86/149 2.6.3 放大系数的频率特性 6. 放大系数的频率特性 6.3 fT 当 f < f < f 时 fT if 或 f fT 特征频率 电流增益-带宽积 1 1 W xm 1 e b d c reCTe fT rcsCTc 2 2 2 Dnb 2vs 2 b (2) 提高 fT 的措施 ( 通常 b >> e d c ) b Wb 非均匀基区 e re CTe Aje d xm Nc c rcs Nc CTc Ajc Nc 1 f < fT f 2.6 频率特性29 87/149 2.6.3 放大系数的频率特性 6. 放大系数的频率特性 6.3 fT (3) fT 与工作点的关系 e b Kirk 效应 b,c d 2.6 频率特性30 88/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 1. h 参数等效电路 1.1 共基极 E ie + E’ res re + CTe ~ ie B’ rob hrbvc’b’ CDe CTc rbb’ B 共基极 h 参数高频等效电路 共基极 T 形高频等效电路 ic C C’ + rcs 2.6 频率特性31 89/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 1. h 参数等效电路 1.2 共发射极 B + rbb’ B’ re CTc vce hret vce C ~ CTe + E’ ib C C’ roe + rcs CDe CTc 共发射极 h 参数高频等效电路 共发射极 T 形高频等效电路 (1+)CTc res E 问题:为什么 CTc 需要乘上 (1+) ? 问题:证明高频时反馈电压系数为 CTc / Ct ,这里Ct = CTe + CDe +CTc? 2.6 频率特性32 2.6.4 高频等效电路(自学) 1. h 参数等效电路 1.2 共发射极 B ib + 90/149 CTc rbb’ B’ ic C rb’c + re CTe CDe ib roe E E 共发射极 h 参数高频等效电路 共发射极 形高频等效电路 rb’c 反馈电阻 反馈电压源 hre re re rb'c vce hrevce 1 r r 1 b 'c e hre 问题:验证高频时反馈电压源可等效为反馈容抗 CTc . 2.6 频率特性33 91/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 CTc vce Ct 2.1 高频功率增益 Gp() B rbb’ B’ re E’ + ~ CTe + 共发射极 h 参数 T 形高频等效电路 ib C C’ + rcs roe CDe CTc B + rbb’ B’ ib C + E 高频 (1+)CTc (1+)CTc res 输入阻抗 zi rbb ' 输出阻抗 E zo 1 i 1 CTc 2.6 频率特性34 92/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 2.1 高频功率增益 Gp() 1 1 1 zo i 1 CTc i 1 T i CTc T CTc iCTc T i Pi ib2 zi Po ic2 RL 1 T CTc 2 i R ic RL ' 2 RL GP i z rbb ' ib rbb ' 2 c L 2 b i ib CTc 2.6 频率特性35 93/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 1 RL T CTc 1 L CTc 2.1 高频功率增益 Gp() 当输出阻抗最佳匹配(共轭复量)时, 可得到最大功率增益 Gpmax z L zo* ib vce vce vce vce ib 1 T CTc 1 iCTc RL iL 2v ce 2ic ' ic RL ib 2 1 T CTc CTc L RL 最大功率增益 RL RL fT rbb ' 2 rbb ' 8f 2 rbb 'CTc 2 GP max '2 2.6 频率特性36 2.6.4 高频等效电路 2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 2.2 最高振荡频率 fm (1) fm 定义 当 Gpmax = 1 时,对应 fm 最高振荡频率 RL f T 1 fT 2 2 r 2 f 2 f C r 8 f rbb 'CTc bb ' T Tc bb ' 2 2 GP max 1/ 2 fT fm 8rbb 'CTc 高频优值 M G p max ( f ) f 2 f m2 功率增益-带宽积 94/149 2.6 频率特性37 95/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 i ib rbb ' ie (iLe ) rbb ' 1 c iLe ib ib rbb' 1 ’iLe 2.2 最高振荡频率 fm zi (2) 发射极引线电感 Le 影响 ib B B’ rbb’ Le 1 T CTc CTc E C rbb ' 1 iLe 2 T i 1 rbb ' T Le 2 RL 2 阻抗匹配时 fT GP max 2 zi 8f 2 r T Le C bb ' Tc 2 2.6 频率特性38 96/149 2.6.4 高频等效电路(自学) 2. 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 2.2 最高振荡频率 fm (3) 提高 fm 的措施 fT rbb’ CTc Ajc Nc Le 1/ 2 (4) fm 与工作点的关系 d , fT , CTc fT fm 8rbb 'CTc fT GP max 8f 2 rbb 'CTc Wb , fT fT 1/Wb2 Ic ,Vcb , Wb , fT re ,e ,fT rbb’ 1/Wb 2.6 频率特性39 97/149 2.6.5 漂移晶体管 1. 非均匀基区及自建电场 1.1 漂移晶体管杂质分布 ND NA ND, NA Ne n+ Nb Nc n p x 0 n+ x 0 xje xjc E阻滞 E加速 2.6 频率特性40 2.6.5 漂移晶体管 1. 非均匀基区及自建电场 1.2 基区自建电场 近似 忽略 E阻滞 均匀电场 Nb(x) 指数分布 考虑自建场 Eb(x) 后 dp pb J pb q pb p pb ( x ) Eb ( x ) qD pb dx dn pb J nb q nb n pb ( x ) Eb ( x ) qDnb dx 令 Jpb = 0(为什么?) Eb D pb pb dp pb ( x ) kT 1 1 dN b ( x ) p pb ( x ) dx q N b ( x) dx 若假设 Nb(x) 为指数分布 Eb(x) = 常数 98/149 2.6 频率特性41 99/149 Nb (x) 2.6.5 漂移晶体管 1. 非均匀基区及自建电场 n+ n p Nb (x) 1.2 基区自建电场 若 Nb(x) 为指数分布 x N b ( x ) N b (0) exp x Wb Eb D pb pb We dp pb ( x ) kT 1 1 dN b ( x ) p pb ( x ) dx q N b ( x) dx kT Eb q Wb N b 0 基区电场因子 ln N b Wb = 0 均匀基区 ? Eb 0 Wb 2.6 频率特性42 100/149 2.6.5 漂移晶体管 2. 直流特性 2.1 少子分布与少子电流 (1) Jnb J nb 假设 Jvb = 0 Jnb(x) = 常数 dn pb D pb 1 dp pb ( x ) dn pb q nb n pb ( x ) Eb ( x ) qDnb qnb n pb qDnb dx pb p pb ( x ) dx dx n pb dN b ( x ) dn pb 1 d N b ( x)n pb ( x ) qDnb qDnb dx Nb ( x) dx N b ( x ) dx J nb ( x ) N b ( x )dx qDnb d N b ( x )n pb ( x ) Wb x J nb ( x ' ) N b ( x ' )dx' qDnb d N b ( x ' )n pb ( x ' ) Wb x Jnb = 常数 J nb N b ( x ' )dx' qDnb d N b ( x ' )n pb ( x ' ) Wb Wb x x 2.6 频率特性43 101/149 2.6.5 漂移晶体管 2. 直流特性 2.1 少子分布与少子电流 J nb N b ( x ' )dx' qDnb d N b ( x ' )n pb ( x ' ) Wb Wb x x 边界条件 n pb (Wb ) 0 N b ( x ) N b (0) exp x Wb Wb J nb J nb Wb n pb ( x ) N ( x ' ) dx ' b 1 exp Wb x qDnb N b ( x ) x qDnb Wb 假设 Jre = 0 Jne = Jnb J ne Wb n pb ( x ) 1 exp Wb x qDnb Wb 2.6 频率特性44 2.6.5 漂移晶体管 2. 直流特性 2.1 少子分布与少子电流 102/149 J ne Wb n pb ( x ) 1 exp Wb x qDnb Wb 问题:定性解释 > 0 时,少子分布 npb(x) 的 形状。为什么不象红虚线? J nb ( x ) N b ( x )dx qDnb d N b ( x )n pb ( x ) J nb N b ( x )dx qDnb d N b ( x )n pb ( x ) Wb Wb 0 0 边界条件 J ne n pb (Wb ) n 0pb exp qVc kT 0 qDnb ni2 exp qVe kT Wb 0 n pb (0) n 0pb exp qVe kT N b ( x )dx Gummel 数 Qb Wb 0 qDnb ni2 qV exp e Qb kT N b ( x )dx [cm 2] 2.6 频率特性45 2.6.5 漂移晶体管 发射区有自建场 Ee(x) ,类似地 2. 直流特性 Ee 2.1 少子分布与少子电流 (2) Jpe W e 0 + + + Ee p kT 1 dN e ( x ) q N e ( x ) dx 问题:Ee 与 Eb 方向相反,相差 一个 “”号,为什么? Ee(x)有何作用? ND NA n+ 103/149 n Wb (3) Jpc 与均匀基区相同 若为薄发射区,即 We << Lpe 时,则 n+ x J pe qDpeni2 0 We qVe exp kT N e ( x)dx 发射区 Gummel 数 0 nc qDpc p J pc ( x2 ) Lpc Qe 0 We N e ( x )dx qDpc pnc0 exp qVc kT 1 Lpc 2.6 频率特性46 104/149 2.6.5 漂移晶体管 2. 直流特性 2.2 直流增益 0 0 (1) J ne 1 J ne J pe 1 J pe J ne (2) * Rsh,e 1 Wb D pe N b ( x )dx Rsh,b 1 1 0 0 Dnb We J nc J nb (Wb ) =1? J ne J nb (0) N e ( x )dx Qb Qe * 更高级近似 J ne J vb J vb 1 J vb 0 J ne J ne * 1 Rsh,e 1 Rsh,b 2.6 频率特性47 105/149 2.6.5 漂移晶体管 npb(x) 2. 直流特性 2.2 直流增益 0 0 Wb I vb J vb qA n pb ( x )dx 0 q nb 0 0 nb Wb x n pb ( x )dx q Wb nb 0 J ne Wb 1 exp Wb x dx qDnb Wb J ne Wb2 1 exp( ) 1 Dnb nb 定义 1 exp( ) 2 1 Wb J vb Wb2 1 1 2 J ne Lnb * 1 1 exp( ) 2 2 Wb2 1 2 Lnb * 0(均匀基区) 2 > 0(加速场) > 2 2.6 频率特性48 106/149 2.6.5 漂移晶体管 2. 直流特性 2.2 直流增益 0 0 (3) 0 0 1 2 2 R R W W 0 * 1 sh,e 1 b2 1 sh,e b2 Rsh,b Lnb Rsh,b Lnb 1 2 Rsh,e Wb 0 0 2 1 0 Rsh,b Lnb 0 0 除了 Rsh,e / Rsh,b Ne/Nb 还可以 Wb Lnb nb 2.6 频率特性48 107/149 2.6.5 漂移晶体管 2. 直流特性 2.3 Early 效应 I c I c Wb Vcb Wb Vcb J ne qDnb ni2 exp qVe kT Wb Jc Wb 0 N b ( x )dx 0 J c J c Wb Wb W qDnb ni2 exp qVe kT ( 1) Wb 2 Vcb Wb Vcb b Vcb N ( x ) dx 0 b N b (Wb ) Wb Jc J c Wb VA N ( x )dx Vcb N b ( x )dx 0 Wb VA 0 b N b ( x )dx Wb < 0 N b (Wb ) Vcb 2.6 频率特性49 108/149 2.6.5 漂移晶体管 (自学) 3. 频率特性 3.1 b 方法 解连续性方程 求 *() / 0* 设 n pb ( x, t ) 2 n pb ( x, t ) n pb ( x, t ) n pb ( x, t ) n 0pb Dnb nb Eb 2 t x x nb n pb ( x, t ) n0 ( x ) n1 ( x ) exp( it ) 代入上式 d 2 n0 ( x, t ) nb Eb dn0 ( x, t ) n0 ( x, t ) n pb 直流分量 0 2 2 dx Dnb dx Lnb kT Eb q Wb Wb 0 交流分量 d 2 n1 ( x ) dn1 ( x ) n1 ( x ) ' 2 0 2 dx Wb dx Lnb Lnb L 1 i nb ' nb 2.6 频率特性50 109/149 2.6.5 漂移晶体管(自学) 3. 频率特性 3.1 b 方法 解连续性方程 直流分量 2 2 4 4 0 1 1 n0 ( x ) A exp 2 x B exp 2 x n pb 2 W Lnb Wb 2 W Lnb Wb b b n0 (0) A B n 0pb 边界条件 … … 1 2 4Wb2 1 2 4Wb2 n0 (Wb ) A exp 2 B exp 2 n 0pb 2 Lnb 2 Lnb 0 求出 0* Lnb Lnb’ 交流分量 *() Wb2 Wb2 * 1 2 ( ) 1 ' 2 Lnb Lnb * 0 *() / 0* b 2.6 频率特性51 110/149 2.6.5 漂移晶体管 3. 频率特性 3.1 b 方法 解连续性方程(自学) Wb2 1 ' 2 * ( ) Wb2 Wb2 Wb2 Wb2 Lnb 1 ' 2 2 1 1 i nb 2 2 2 * W 0 Lnb Lnb Lnb Lnb 1 b2 Lnb Wb2 Wb2 Wb2 1 1 1 1 i nb 2 2 1 i Wb2 1 i b Lnb Lnb Dnb 1 i Dnb 方法 基区渡越 2 W qAn ( x ) 1 pb b b b dx dx 0 v( x ) 0 Dnb I nb ( x ) I nb Wb n pb ( x ) 1 exp Wb x qADnb Wb Wb Wb Wb2 b Dnb 2.6 频率特性52 111/149 2.6.5 漂移晶体管 3. 频率特性 3.1 b 方法 扩散电容(自学) CDe 2 dQ qI W 1 b …… e b 问题:试推导左式。 dVbe kT Dnb re 考虑超相移因子后, 0* exp im b 1 m ( ) 1 i b 1 m * Wb2 1 1 exp( ) N b (0) ln m 0.22 0.098 这里 b Dnb 2 N b (Wb ) 3.2 f 、f 、 fT 、 fm Wb2 2 Dnb Wb2 Dnb 2.6 频率特性53 2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT) 1. 结构 n+-GaAs 11019 cm-3 750 Å n-GaAs 51017 cm-3 1250 Å E n-Al0.3Ga0.7As 51017 cm-3 2500 Å B p+-GaAs 51018 ~ 11020 cm-3 500~1000 Å C n-GaAs 31016 cm-3 5000 Å n+-GaAs 41018 cm-3 6000 Å SI-GaAs Sub. 112/149 2.6 频率特性54 113/149 2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT) 2. 理想异质结能带图 不考虑界面态情况,突变反型异质结的能带图 真空能级 真空能级 W2 2 1 W 1 E c1 E F 1 E g1 E v1 Ec 1 2 Ec 2 EF 2 Eg 2 Ev Ev 2 -能带弯曲,形成尖峰和凹口 -能带在界面处不连续 -界面处内建电场不连续,要考虑材料介 电常数的不同 -结两边都是耗尽层 1 W 凹口 1 E c1 qVD1 E F 1 E g1 E v1 qVD 尖峰 W2 2 Ec qV D2 Ev Ec 2 EF 2 Eg 2 x1 x0 x2 Ev 2 VD VD1 VD 2 Ec 1 2 Ec Ev Eg 2 Eg1 2.6 频率特性55 114/149 2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT) 3. 工作原理 热平衡 Ic I ne 0 I b I pe I vb I re 放大偏置 max I ne I pe Dnb n 0pb I ne qA exp qVbe kT Wb 注意 D pe pne0 exp qVbe kT 1 I pe qA Lpe 2 n n 0pb i b Nb ni2e 0 pne Ne 2.6 频率特性56 115/149 2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT) 3. 工作原理 max I ne Dnb Lpe N e nib2 Dnb Lpe N e 2 exp E g kT I pe D pe Wb N b nie D pe Wb N b 若 Eg = 0.25 eV,则 exp(Eg / kT) ~ 104 ND NA ND NA HBT 特点: n+ 1o 宽 Eg 发射区 p n n+ n+ p+ 2o 重掺杂基区 n+ n 3o 窄基区 n 0 同质结 BJT x 0 HBT x 2.6 频率特性57 2.6.6 异质结双极型晶体管(HBT) 3. 工作原理 HBT 优点: 1o Eg > 0 2o rbb’ 0 fmax 基区穿通效应 3o N b Wb 0 4o Ne CTe Early效应 基区大注入效应(Webster) fT 116/149 第二章 双极型晶体管 2.1 基本结构、制造工艺和杂质分布 2.2 电流放大原理 2.3 直流特性 2.4 反向特性 2.5 晶体管的模型 2.5 频率特性 2.7 开关特性 117/149 2.7 开关特性1 118/149 2.7.1 晶体管的开关作用 1. 晶体管的工作区 A A rb RL Vcc VCC VCE 负载电流: I C RL A A 2.7 开关特性2 119/149 2.7.1 晶体管的开关作用 2. 截止区和饱和区的少子分布 1. 截止区 npb0 B A Vbe < 0 (A) = 0 (B) Ine Inc Iebo Icbo Ipe Ipc Ib = Iebo + Icbo Vbc < 0 2.7 开关特性3 120/149 2.7.1 晶体管的开关作用 2. 截止区和饱和区的少子分布 2. 饱和区 (1) 发生饱和现象的原因 问题:为什么当 Vbc > 0 时,而流过 集电结的电流却与 Vbc 极性相反? rb b Vin 放大区、饱和区 Vin Vbb V je Ib rb Vcc Vce Vcc Vbb < Ic RL RL V Vces I c ,max I cs cc RL 当 Ib Ic,max 时,进入饱和状态, Ib Ic,(= Ib) IcRL Vce Vbc () (+) 放大区 饱和区 Ib c Ic e RL Vcc A A A A 2.7 开关特性4 121/149 2.7.1 晶体管的开关作用 2. 截止区和饱和区的少子分布 2. 饱和区 (1) 发生饱和现象的原因 定义:临界饱和状态 Ib I cs I bs Vbc 0 (2) 少子分布 线性放大状态 饱和状态 (超量储存电荷) 临界饱和状态 2.7 开关特性5 122/149 2.7.1 晶体管的开关作用 2. 截止区和饱和区的少子分布 Ics Ie Ibx 2. 饱和区 (3) 电流传输 Ipe Ivb + Ivbs Ipcs Ib = Ipe + Ivb + Ivbs + Ipcs Ibs Ibx 过驱动电流 I bx I b I bs I vbs I pcs 饱和时 Ib Vin Vbb V je 定义:饱和深度 Ib rb Ib Ib Ib s Vcc I bs I cs Vcc RL I c I cs RL s = 1 临界饱和状态 I e I b I c I bs I bx I cs 2.7 开关特性6 123/149 2.7.1 晶体管的开关作用 3. 晶体管的开关作用 K合上,CE导通, K断开,CE断开, C Vcc Vcc Vce 0 I ce RL I ce 0 Vce Vcc K RL E rb 截止 I ce I ceo 0 Vce Vcc I ceo RL Vcc 导通 Vce Vces 0 I c Vcc Vces Vcc RL RL c b RL e Vcc Vbb 开关管要求: 1o Vces 越小越好,最好 0 rb1 2o Iceo 越小越好,最好 0 3o BVce 高(使用范围大) 4o 开关时间短 ViH ViL c b rb2 Vbb RL e Vcc 2.7 开关特性7 2.7.1 晶体管的开关作用 Vin ViH 4. 晶体管的开关过程 rb1 ViH ViL b rb2 124/149 ViL c t RL Ib e Ib1 Vcc t Vbb ViH V je V je Vbb I b1 >> 0 rb1 rb 2 V je Vbb V je ViL I b2 rb 2 rb1 延迟时间 td = t1 t0 储存时间 ts = t4 t3 上升时间 tr = t2 t1 下降时间 tf = t5 t4 Ib2 Ic 0.9Ics 0.1Ics t0 t1 t2 Ics t t3 t4 t5 Vce t 2.7 开关特性8 Vin 2.7.1 晶体管的开关作用 ViH 4. 晶体管的开关过程 .. ViL t A D Ib Ib1 A C 储存时间 125/149 上升时间 下降时间 t A .. B Ib2 A Ic 延迟时间 0.9Ics A 下降时间 tf = t5 t4 ( C B ) t 0.1Ics 延迟时间 td = t1 t0 ( A B ) t = t + t on d r 上升时间 tr = t2 t1 ( B C ) toff = ts + tf 储存时间 ts = t4 t3 ( D C ) Ics t0 t1 t2 波形频率 1 ton toff f t3 t4 t5 Vce t 2.7 开关特性9 126/149 2.7.1 晶体管的开关作用 5. 晶体管开关过程中的少子分布 .. 1. 延迟过程 td n+ 储存时间 A 反偏 A C n p A D 上升时间 A .. 下降时间 B A 延迟时间 A 反偏 对 CTe, CTc 充电 n+ n p n+ n p B 零偏 反偏 弱正偏 反偏 2.7 开关特性10 127/149 2.7.1 晶体管的开关作用 5. 晶体管开关过程中的少子分布 .. A D 2. 上升过程 tr n+ p A C n 储存时间 B 上升时间 下降时间 A .. B A 延迟时间 A 弱正偏 反偏 n+ n p n+ n p 对 CTe, CDe, CTc 充电 正偏 C 反偏 正偏 零偏 2.7 开关特性11 128/149 2.7.1 晶体管的开关作用 5. 晶体管开关过程中的少子分布 3. 储存过程 ts n+ n p D .. A D A C 储存时间 正偏 正偏 抽取基区、集电区超量储存电荷 n+ 下降时间 n p 零偏 A .. B A 延迟时间 A C 正偏 上升时间 2.7 开关特性12 129/149 2.7.1 晶体管的开关作用 5. 晶体管开关过程中的少子分布 4. 下降过程 tf n+ .. A D A C 储存时间 n p C 上升时间 下降时间 A .. B A 延迟时间 A 正偏 n+ 零偏 n p n+ n p B 弱正偏 反偏 A 反偏 反偏 2.7 开关特性13 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 1. 电荷控制理论 交流小信号 线性放大区 (线性微分方程 线性元件等效) 开关晶体管 { 截止区 饱和区 } 大信号过程(Ebers-Moll方程 高度非线性) 电荷控制理论 少子连续性方程 基区少子电荷 基区电子电荷 Qb n( x, t ) 1 n ( x, t ) J n t q n V ( 基区) dV 130/149 2.7 开关特性14 131/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 1. 电荷控制理论 定义 n( x, t ) 1 n ( x, t ) J n t q n Qb (t ) qn( x, t )dV V J dV J V n I CTe S n ds I n 注入基区的净电子电流 净流出的电子电流 I p I n (电中性条件) Ipe 注入基区的净空穴电流 I CDe (e ) Ib I p I b I CTe I CTc I pe I pcs I CDe ( e ) I CDc ( c ) dQb (t ) Qb (t ) I p dt nb 势垒电容充放电 少子扩散 扩散电容充放电 I b I CTe I CTc I pe I pcs Qb dQb I CDe ( e ) I CDc ( c ) nb dt 2.7 开关特性15 132/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 1. 电荷控制理论 I b I CTe I CTc I pe I pcs Qb dQb I CDe ( e ) I CDc ( c ) nb dt Ic / Ivb +Ivbs I b I pe I vb I vbs I CTe I CTc I pcs Ic / 各电流 含义 Ipe :少子扩散电流 Ivb + Ivbs :基区复合电流 dQb I CDe ( e ) I CDc ( c ) dt dQ pc 截止区,Ipe 0 放大、饱和区, I pe dt Rsh ,e I ne Rsh,b 截止区,Ivb 0 2 2 W W 放大区, I b I b I vb ne c 2 L2nb 2 L2nb 2.7 开关特性16 133/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 1. 电荷控制理论 I b I pe I vb I vbs I CTe I CTc I pcs I CTe :对 CTe 充电电流 I CTc :对 CTc 充电电流 I CTe I CTc Ipcs :集电区少子扩散电流 I c I nc I pcs I nc I b I pcs d dt d dt Vbe ( t ) Vbe ( t0 ) Vbc ( t ) Vbc ( t0 ) dQb I CDe ( e ) I CDc ( c ) dt (V )dV CTe (Vbe )dVbe CTc bc bc 截止、放大区,Ipcs = 0 饱和区, Ipcs 饱和时 I pcs Q pc pc Ic 1 I pcs I b 1 I b 1 1 I b s 1 Q pc I pcs pc I b pc 1 s 2.7 开关特性17 134/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 1. 电荷控制理论 I b I pe I vb I vbs I CTe I CTc I pcs I CDe( e ) 对发射结发射区侧的扩散电容 CDe(e) 充电电流 CDe ( e ) CDe ( b ) CDe I CDc( c ) dQb I CDe ( e ) I CDc ( c ) dt dQb dt 对集电结集电区侧的扩散电容 CDc(c) 充电电流 截止、放大区, I CDc ( c ) 0 饱和区, I CDc ( c ) Ib Ic I CTe I CTc dQ pc I CDc ( c ) I CDc ( b ) dt dQb dQ pc I vbs I pcs dt dt 电荷控制方程 2.7 开关特性18 135/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 1. 电荷控制理论--各工作区讨论 Ib Ic I CTe I CTc 1). 截止区 Ic 0 Qb = Qpc = 0 I b CTe CTc 2). 放大区(有源区) I CTe d dt dQb dQ pc I vbs I pcs dt dt Vje = 0.7 V Vbe ( t ) Vbe ( t0 ) dVje 0 dVbe dt Qpc = 0 CTe (Vbe )dVbe CTe Vbe dVbe dt dVbe redIe I CTe dVbe (t ) dI e dI c CTe CTe re CTe re dt dt dt 截止区电荷 控制方程 2.7 开关特性19 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 1. 电荷控制理论--各工作区讨论 同理 I CTc CTc RL rcs dI c dt Vbc Vbe Vcc I c RL rcs dQb d Wb2 Wb2 dI c Ic dt dt 2 Dnb 2 Dnb dt Wb2 dI c dI c Ib CTe re CTc rcs RLCTc 2 Dnb dt dt Ic 1 dI c Ib RLCTc 2f T dt Ic 放大区电荷控制方程 136/149 2.7 开关特性20 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 1. 电荷控制理论--各工作区讨论 Ic Ics dIc = 0 dVje = 0 3). 饱和区 在此忽略 I vbs 以及在饱和区 Qb I c b 几乎不随时间变化。 Ib Ic Q pc pc dQ pc dQb >> dt dt Ib Ic Q pc pc dQ pc dt 饱和区电荷控制方程 137/149 2.7 开关特性21 138/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) Vbe ( t ) 1 C Te CTe (Vbe )dVbe Vbe (t ) Vbe (t0 ) Vbe ( t0 ) 2. 开关时间 1). 延迟时间 td = t1 t0 n+ p 放大区 .. A D n td = td1 + td2 A C 储存时间 上升时间 A 截止区 下降时间 计算 td1(截止区) 对 CTe, CTc 充电 .. B A 延迟时间 A dVbe I b1 CTe CTc dt td 1 td 1 0 Vbe ( B ') I b1dt Vbe ( A) CTe CTc dVbe C Te C Tc Vbe ( B' ) Vbe ( A) C Te C Tc 0.5 Vbb C Te C Tc Vbb 0.5 I b1 I b1 I b1 2.7 开关特性22 139/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 1). 延迟时间 td = t1 t0 计算 td2(放大区) n+ p .. A D A C 储存时间 上升时间 A n 下降时间 .. B A 延迟时间 A 1 dI c Ib RLCTc 2f T dt Ic C Tc 初始条件 Ic(0) = 0 dI c (t ) I c (t ) 1 I b1 RL C Tc 2f T dt t I c (t ) I b1 1 exp 1 R C L Tc 2 f T 2.7 开关特性23 140/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 1). 延迟时间 td = t1 t0 1 I b1 td 2 RL C Tc ln 2f T I b1 0.1I cs 1 0.1I cs dI c (t ) 线性近似 I c (t ) 1 I b1 RL C Tc I b1 RL C Tc 2f T td 2 2f T dt 1 0.1I cs td 2 RL C Tc 2f T I b1 Ic(t) 从 0 0.1Ics t 从 0 td2 降低 td1 措施: 降低 td2 措施: 1o CTc Ajc 2o Vbb 2o fT Wb 3o Ib1 (但导致 s ) 3o Ib1 (但导致 s ) 1o CTe CTc Aje Ajc 2.7 开关特性24 141/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 2). 上升时间 tr = t2 t1 n+ p .. A D n A C 储存时间 上升时间 下降时间 A .. B A 延迟时间 A 1 dI c RLCTc 计算 tr(放大区) I b 2f T dt 1 I 0.1I cs Ic(t) 从 0.1Ics 0.9Ics tr t1 t2 RL C Tc ln b1 t 从 t1 t2 2f T I b1 0.9 I cs 0.8 I cs 0.5I cs 1 线性近似 I b1 RL C Tc tr = ? 2f T tr Ic 降低 tr 措施 降低 td2 措施 + 4o Wb Lnb nb 2.7 开关特性25 142/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 .. 3). 储存时间 ts = t4 t3 n+ p A D A C 储存时间 n ts = ts1 + ts2 饱和区 上升时间 下降时间 放大区 A .. B A 延迟时间 A 计算 ts1(饱和区) I b Ic Q pc pc dQ pc dt 初始条件 Q pc (0) pc I b1 I Q pc (t ) I b1 I b 2 pc exp t pc I b 2 cs pc I cs 2.7 开关特性26 143/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 3). 储存时间 ts = t4 t3 当 t = ts1 时,Qpc = 0 ts1 pc ln 计算 ts2(放大区) I b1 I b 2 I b 2 I cs 问题:用线性近似 如何计算 ts1 ? 1 dI c Ib RLCTc 2f T dt Ic C Tc 初始条件 Ic(0) = Ics t I b 2 I c (t ) I cs I b 2 exp 1 R C L Tc 2f T 2.7 开关特性27 144/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 3). 储存时间 ts = t4 t3 当 t = ts2 时,Ic = 0.9 Ics 1 I b 2 I cs ts 2 RL C Tc ln 2f T I b 2 0.9 I cs 问题:用线性近似如何计算 ts2 ? 降低 ts1 措施: 1o Ib1 s 降低 ts2 措施: 1o CTc 2o pc 掺 Au(有效复合中心) 2o fT 3o Ib2 3o Ib2 4o Ajc 2.7 开关特性28 145/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 4). 下降时间 tf = t5 t4 n+ p n .. A D A C 储存时间 上升时间 下降时间 A .. B A 延迟时间 A 计算 tf(放大区) 1 dI c Ib RLCTc 2f T dt t I b 2 I c (t ) I cs I b 2 exp 1 R C L Tc 2f T Ic 2.7 开关特性29 146/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间(自学) 2. 开关时间 4). 下降时间 tf = t5 t4 Ic(t) 从 0.9Ics 0.1Ics 问题:用线性近似如何计算 tf ? 1 I b 2 0.9 I cs tf RL C Tc ln 2f T I b 2 0.1I cs t 从 t4 t5 降低 tf 措施 降低 ts2 措施 综合考虑 ton = td + tr CTe CTc Ib1 Vcc toff = ts + tf fT pc fT CTc Ib1 Ib2 Vcc 2.7 开关特性30 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 2. 开关时间 5). 提高开关速度的途径 1o 掺 Au pc 2o 不掺 Au 时 c Nc pc 3o Wc Qpc 4o CTe CTc 5o Wb Qb fT Aje Ajc 147/149 2.7 开关特性31 148/149 C Ic 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 rcs 2. 开关时间 6). 正向压降和饱和压降 (1) 正向压降 Vbes Vbes Ve I b rbs I e res rbs B Ib Ebers-Moll 方程 qVbe R qVbc Vbes Ie I ebo exp I cbo exp 1 1 1 F R kT 1 kT F R 1 Ic F qV 1 qV I ebo exp be 1 I cbo exp bc 1 1 F R kT 1 F R kT 消去 Vbc kT I e R I c Vbe ln 1 q I ebo 消去 Vbe Vc + Vces + Ve res E kT F I e I c V 1 bc q ln I cbo kT I e R I c Vbe ln 1 I b rbs I e res q I ebo 0.7 V 2.7 开关特性32 149/149 2.7.2 电荷控制理论和晶体管开关时间 2. 开关时间 6). 正向压降和饱和压降 (2) 饱和压降 Vces Vces Vbe Vbc I cs rcs I e res 合金管 rcs res 均很小 Vces kT I e R I c I cbo kT 1 1 R I c I b Vbe Vbc ln ln q F I e I c I ebo q R 1 I c F I b s Vces (但 ts ) 一般 s 4 即可, Vces 0.1 V 平面管 rcs >> res Vces Vbe Vbc I cs rcs I cs rcs 用 n+ 埋层或 n/n+ 外延结构做集电极