Transcript catalog - (주)라소닉

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TEL. 031)203-8858 FAX. 031)203-8859
본사 : 경기도 수원시 영통구 덕영대로 1556번길 16 E동 1101호(영통, 디지털엠파이어)
공장 : 경기도 화성시 향남읍 토성로 310-15
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회사연혁
◆ 2014.12.01
• ㈜라소닉 설립
• ㈜엘티엘 ‘VALVE사업’부 인수하여 법인 설립
◆ 2008
• Valve 품질/환경 관련 인증 획득
ISO9001/14001 (TQCSI) 획득(11월)
◆ 2013
• Pendulum Valve 20”, 22” 개발 및 양산장비 적용
• Valve 900호기 출하
◆ 2007
• 공장신축이전(8월)
-화성시 향남읍 백토리
◆ 2012
• Valve 700호기 출하
• 11G Vertical Valve 개발
◆ 2006
• ㈜엘티엘 설립(1월)
• 연구개발전담부서 설립(8월)
◆ 2011
• 11G Valve 신뢰성평가 진행 (4월)-KTL
• LASonic Valve CE인증 (6월)
◆ 2003
• ㈜티아이 설립(5월)
◆ 2010
• Valve 600호기 출하
• 전 공정 Valve Type별 모두 적용 가능
◆ 2009
• L-Motion Gate, Door Valve 양산장비 적용
VALVE MOTION TYPE
Motion Type
Swing Motion
L-Motion
T-Motion
Cam Motion
Model
SG,SD
LG,VLG,LD,VLD
TG
CG,RD
3
Valve : 대형 Size
Type
Horizontal Type
Vertical Type
Swing Type
CVD, Sputter, Etcher,
Etc.Vacuum System
CVD, Sputter, Etcher,
Etc.Vacuum System
CVD, Sputter, Etcher,
Etc.Vacuum System
2,980x300
2,300x160
2,980x300
2,250x160
TFT-LCD, OLED, Solar Cell
TFT-LCD, OLED, Solar Cell
TFT-LCD, OLED, Solar Cell
TFT-LCD/OLED 적층 Chamber
L-Motion Type
T-Motion Gate
Applicat
ion
CVD, Sputter, Etcher,
Etc.Vacuum System
최대
Slot Size
적용
공정
Image
장점
■ 가장 일반적으로 사용함.
■ 정확한 L-Motion 동작으로
일반 O-ring 사용 가능
■ 양쪽 Slot Sealing/ Blade
개별 구동 가능
■ Cluster Type의 장비에서
하나의 Chamber를
Maintenance 중 다른
Chamber는 공정 진행가능함
■ 내부 Stress를 최소화한 구조
■ Tact time 빠르다.
■ Blade Block 처짐을 방지
할 수 있는 안정적인 구조
■ Maintenance Jig 적용
하여 Maint가 용이
■ 3단 이상의 적층 Chamber
에 적용 가능하다.
■ Tact time 빠르다.
* 7단이상 SG/SD 개발완료
4
Valve : 소형 Size
반도체/디스플레이/Solar Cell/TSP 제조공정 적용
Type
반도체 공정적용
Pendulum Valve
Butterfly Valve
Circular Gate Valve
Applicat
ion
CVD, Sputter,
Vacuum System
Turbo Pump 전단
Cryo Pump 전단
CVD, Sputter, Etcher, Vacuum
System Dry Pump 전단
CVD, Sputter, Etcher,
Vacuum System Pump 전단)
최대
Size
ISO 320
ISO 400
ISO 550
ISO 670(26인치급)
적용
공정
TFT-LCD, OLED, Solar Cell,
반도체 제조공정
Gate Valve
(CAM Motion Type)
Image
장점
■ 26인치급 세계 최초개발
진행중(특허 출원 완료)
■ 고진공 공정시 공정
Chamber 하부에 부착적용
ISO
ISO
ISO
ISO
100
160
200
250
TFT-LCD, OLED, Solar Cell,
반도체 제조공정
■ 반도체, 디스플레이의 Utility
Line에 적용
ISO 100
ISO 160
ISO 200
TFT-LCD, OLED, Solar Cell,
반도체 제조공정
■ 반도체, 디스플레이 등
Utility Line내 Dry
Pump 부착적용
CVD, Sputter, Etcher,
Vacuum System
(Cam type, Roller Type)
336 X 50
500 X 100
반도체 제조공정
■ 반도체 메인 공정 장비등에
적용 300mm, 450mm Wafer 대응
5
Valve : ㈜라소닉 Valve 공정라인 內 적용현황
Process
Process
Chamber
공정장비:
Working Area
Pendulum Valve:
Chamber 와 부착
Gate Valve
Ion
Pump
Utility 라인:
Service Area
Transfer
Chamber
Dry
Pump
Scrubber
Gate Valve
Process
Butterfly Valve:
Utility 배관라인 설
치
Circular Gate
Valve: Dry Pump
위 설치
 증착공정과 식각 공정 등에 사용되는 Valve 는 ATM (대기 상태)에서 Transfer Chamber
로 Glass 및 Wafer 등을 반송하는데 사용되어(Door Valve) 편의상 Valve라 호칭하며,

Transfer Chamber와 Process Chamber 사이를 반송하는 경우에는 Gate Valve를 사용하
게 된다.

공정 Chamber와 Pump등이 연결되는 Utility 라인에서는 Pendulum Valve, Butterfly
Valve, Circular Gate Valve 등이 사용된다.
6
Valve : 실 공정장비 및 Utility 라인 적용현황
Gate Valve
Door Valve
Pendulum Valve
Circular Valve
Butterfly Valve
7
Valve Repair
■ Valve Set-Up 후 2년 후에 Valve Repair 주기적으로 발생
- 소모성 부품 교체
- Leak 발생 Valve에 대한 원인 분석 및 수리
- Valve 성능을 향상하기 위한 Modify
■ Valve 제작기술과 설계기술을 바탕으로 정확하고 신속한 Valve Repair 가능
- 소모성 부품에 대한 자체 설계 및 제작 가능
Test Room 및 Test 설비
Test Room
Leak Test
Heating Test
설비 명
수량
Maker
Dry Pump
6ea
LOT
Edwards
Turbo Pump
2ea
Alcatel
Seiko Seike
Leak Detector
2ea
Alcatel
Valve Control Rack
1ea
자체제작
Log Data Panel
1ea
자체제작
Temp Recorder
1ea
Yokogawa
8
Valve 장점
HMS 기능
납품, 수리, 고장 History를 저장하여,
정확한 이력관리기능
인증
Controller ( MiCOM )
Control 동기화, CDA압력조절기능,
Alarm 및 동작횟수 Count , Maint용 Pendent 기능
설계 -> 생산 -> 조립체계
-Valve Model별
CE인증 취득
(AM 50206834 0001)
-KTL 인증완료
◎Valve 특허 17건
일괄 생산 System구축으로 타사 대비
우수한 경쟁력 확보 ( Delivery , Cost , Quality )
◎모든 Model에 대한 CE인증 취득완료
◎ 月생산 CAPA 60SET
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Valve 납품실적
Product
Valve Type
GEN
수량 (Set)
고객 사
Process
SEMI
CAM
12”
3
J사, S사,E사
ALD, SIN
4G,5G
11
L사, J사
PE-CVD
6G
13
L사, J사
PE-CVD
7G
15
L사, J사
PE-CVD
8G
42
L사, J사
PE-CVD
LG/LD
8G
6
S사, I사
PE-CVD . MO-CVD
VLG/VTG/VLD
8G
50
A사
Sputter ( SiO2 , ITO )
SG/SD
LCD
소 계
OLED
137
비고
SD : Swing Door
VLG : Vertical
L-Motion
VTG : Vertical
T-Motion
PV
20”,22”
145
L사
OLED
BV
Ø160, Ø250
13
A사
SPUTTER
SD/SG
4G
97
L사, T사, I사
Feeler
LG : L-Motion Gate
5G
47
L사, A사, J사, K사
증착,IN-CAP/Bake/CVD/계
측
LD : L-Motion Door
8G
29
L사, D사, S사, K사
IN-CAP/Bake/CVD/계측
8G
109
S사, I사
증착/BAKE/CVD/물류
TG : T-Motion Gate
4G,8G
14
I사, A사
Sputter ( SiO2 , ITO )
PV : Pendulum Valve
LG/LD
VLG/VLD
소 계
TG
LG/LD
454
BV : Butter Fly Valve
5G
28
L사, J사
PE-CVD.MO-CVD
6G
9
L사, J사
PE-CVD.Sputter
8.5G
31
L사, J사
PE-CVD.MO-CVD
5G
60
L사, J사
PE-CVD.MO-CVD.CIGS
6G
162
L사, J사
PE-CVD.MO-CVD
8.5G
41
L사, J사
PE-CVD
PV
Ø320
15
A사
PE-CVD
BV
Ø100, Ø160,
Ø200 Ø250
46
L사, J사,A사
PE-CVD
15
A사
Sputter ( SiO2 , ITO )
Solar
VLG/VLD
5G
소 계
총합계
407
1,001
VLD : Vertical Door
10
2015년 2월 기준
Valve 특허현황
NO
MODEL
등록일
등록번호
권리
2005.03.24 10-2005-0024442
2007.04.11
0708610
특허
액정표시장치 제조설비
2005.12.01 10-2005-0116606
2007.01.23
0675696
특허
액정표시장치 제조설비용 밸브 틸팅 장치
3
2005.12.01 10-2005-0116612
2007.06.12
0729678
특허
액정표시장치 제조설비용 밸브구동장치
4
2004.12.15 10-2004-0106007
2007.01.23
0675676
특허
액정표시장치 제조설비
2008.11.28 10-2008-0120123
2011.11.25
1088898
특허
진공차단 슬롯밸브 및 이를 구비한 진공차단 도어
2010.02.14 10-2010-0010469
2012.02.27
1123299
특허
진공 차단장치 및 이를 포함하는 영상표시장치 제조설비
7
2011.06.02 10-2011-0053486
2014.05.20
1399654
특허
챔버와 진공차단장치의 진공 밸런싱 장치
8
2009.02.26 10-2009-0016555
2011.04.19
1031343
특허
실린더
9
2011.03.03 10-2011-0019133
2014.02.17
1380178
특허
고진공 대응용 진공 차단장치
2011.03.03 10-2011-0019132
2013.09.24
1313083
특허
진공 차단 장치
11
2010.12.28 10-2010-0136346
2012.10.09
1191441
특허
수직 형 진공 차단 장치
12
2011.04.13 10-2011-0034384
2013.11.26
1335666
특허
밸브실링체 및 이를 사용한 진공차단장치
13
2006.09.05 10-2006-0085084
2007.08.13
0750605
특허
액정표시장치 제조설비용 진공차단밸브
2008.01.23 10-2008-0007271
2010.03.19
0949778
특허
반도체 제조설비용 전자밸브
2008.01.23 10-2008-0007267
2009.12.11
0932906
특허
영상표시장치 제조설비용 진공차단 전자밸브
2013.12.23 10-2013-0161726
출원중
특허
진공밸브(Pump 적용 Pendulum Valve)
1
2
5
6
10
14
SG, SD
TG
LD/LG/TG
기타 Valve
15
16
Pendulum
Valve
출원일
출원번호
명칭
11
Clean Room
Clean Room
-. 면적 : Assembly Room : 660㎡(약 200평)
Test Room : 165 ㎡(약 50평)
-. Class : 10,000
-. 층고 : 8m
-. CRANE : 7.5Ton, 5Ton 각각 1대
-. Utility : 전기 : 520KW
PCW : 1,000LPM
CDA : 2,000LPM
청정실
Assembly Room
Test Room
12
가공 Shop
가공 Line
생산1팀
생산2팀
용접실
사상실
대형 #50호기 장비포함 5대 보
유 (11세대급 가공 가능함)
소형 가공장비 MCT 3대,
CNC 2대, 밀링 선반 보유
8세대급 Frame 용접용
Base ( 조방 ) 보유
자체 사상, 세정 등 작업진
행 가능함.
크레인 10T, 5T 설치
크레인 2T 설치
크레인 5T 설치
크레인 3T 설치
10년 이상 경력자 3명 보유
10년 이상 경력자 1명 보유
10년 이상 경력자 2명 보유
◎ 月생산CAPA 6세대 이상 10Chamber 가능
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생산 설비 보유내역
Name of Equip
Max Work Area
Q’ty
Name of Equip.
MCT 50
8,000 X 5,000 X 1,500
1
Lathe
MCT 32
6,000 X 3,200 X 1,400
1
Milling
820*300
1
MCT 27
4,000 X 2,500 X 1,400
1
TIG Welding Machine
Ar 500AC
1
MCT 25
4,000 X 2,500 X 1,000
1
CO2 Welding Machine
Ar 500AC
1
MCT 16
3,060 X 1,600 X 1,000
1
Plasma Cutter
70AP
1
MCT 7
1,400 X 700 X 850
1
TAPING Machine
MCT 6.5
1,150 X 600 X 600
1
Might Welding Machine
600S
1
CNC(10inch)
Ø500
1
Large size welding base
7,000 X 3,500
1
Band saw
Max Work Area
Ø500
Q’ty
1
1
1
14
회사 전경
본사
화성 공장
15
회사 약도
본사
화성 공장
본사 : 경기도 수원시 영통구 덕영대로 1556번길 16 E동 1101호(영통, 디지털엠파이어)
공장 : 경기도 화성시 향남읍 토성로 310-15
16
감사합니다.
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