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光測力學實驗室
簡 介
負責老師：王明忠
地點：機械大樓1F光測力學實驗室
Updated ：2014/11/04

職稱：副教授
學歷：美國路易斯安娜大學碩士
授課：電腦機械繪圖、機械設計、
機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

1

․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
2

儀器設備項目

光彈儀

規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

4

儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
 光學桌

相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
 Resolution：0.5μin
（0.127μm）、0.1μin
（0.0025μm）
5

光彈影像

ESPI：W場影像

ESPI：剪切影像

ESPI：U場影像
6

92年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
試」之建教合作計劃。

7

明新科大
機械系
歡迎您的加入

簡報完畢 敬請指教
8

http://me.mcut.edu.tw/files/11-1027611.php 明志機械系 PPT
http://mse.mcut.edu.tw/files/11-1031553.php 明志材料系 文字＋圖
http://mse.mcut.edu.tw/files/11-1031968-1.php明志材料系 文字＋圖
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學歷：美國路易斯安娜大學碩士
授課：電腦機械繪圖、機械設計、
機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

1

․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
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光彈儀

規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

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儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
 光學桌

相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
 Resolution：0.5μin
（0.127μm）、0.1μin
（0.0025μm）
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ESPI：W場影像

ESPI：剪切影像

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92年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
試」之建教合作計劃。

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學歷：美國路易斯安娜大學碩士
授課：電腦機械繪圖、機械設計、
機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

1

․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
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儀器設備項目

光彈儀

規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

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儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
 光學桌

相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
 Resolution：0.5μin
（0.127μm）、0.1μin
（0.0025μm）
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ESPI：W場影像

ESPI：剪切影像

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助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
試」之建教合作計劃。

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學歷：美國路易斯安娜大學碩士
授課：電腦機械繪圖、機械設計、
機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

1

․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
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光彈儀

規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

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儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
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相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
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變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
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助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
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機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

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․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
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儀器設備項目

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規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

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儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
 光學桌

相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
 Resolution：0.5μin
（0.127μm）、0.1μin
（0.0025μm）
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ESPI：W場影像

ESPI：剪切影像

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助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
試」之建教合作計劃。

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機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

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․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

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、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
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規格/功能說明

課程/用途

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 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
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儀器設備項目

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 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
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 所得紋像是全場的，放大倍率
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 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
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 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
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（0.127μm）、0.1μin
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助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
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機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

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․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
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規格/功能說明

課程/用途

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 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
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 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
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（U場）、（W場） 6.錯位鏡
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 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
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 適用於1200lines/mm及
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 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
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助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
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授課：電腦機械繪圖、機械設計、
機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

1

․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
2

儀器設備項目

光彈儀

規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

4

儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
 光學桌

相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
 Resolution：0.5μin
（0.127μm）、0.1μin
（0.0025μm）
5

光彈影像

ESPI：W場影像

ESPI：剪切影像

ESPI：U場影像
6

92年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
試」之建教合作計劃。

7

明新科大
機械系
歡迎您的加入

簡報完畢 敬請指教
8

http://me.mcut.edu.tw/files/11-1027611.php 明志機械系 PPT
http://mse.mcut.edu.tw/files/11-1031553.php 明志材料系 文字＋圖
http://mse.mcut.edu.tw/files/11-1031968-1.php明志材料系 文字＋圖
http://mse.mcut.edu.tw/files/11-1031551-1.php明志材料系 文字＋圖


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光測力學實驗室
簡 介
負責老師：王明忠
地點：機械大樓1F光測力學實驗室
Updated ：2014/11/04

職稱：副教授
學歷：美國路易斯安娜大學碩士
授課：電腦機械繪圖、機械設計、
機械設計製圖
專業：CAD、機械設計、實驗應力分析

1

․培育學生利用各種光學方法對各種元件進行高
敏感性的變形或應力的量測及分析。
․配合課程規劃、現有師資專長、現有之特色及
區域產業特色，建立光測力學實務分析技術。

․提供電子散斑干涉、電子剪切、雷射位移測量
、光彈、雲紋干涉等實驗及實作。
2

儀器設備項目

光彈儀

規格/功能說明

課程/用途

相關照片

 Polarizer ψ300mm 偏振片
 Quarter Wave Plate
ψ300mm（λ/4玻片）
 Rotation Housing for
ψ300mm Polarizer and 機械元件之應力量測
ψ300 Quarter Wave Plate
 Power Supply for Light
Source（電源）
 影像處理程式及軟體

1.偏光分光棱鏡 2.楔形鏡
3.CCD
3.ZOOM鏡
ESPI電子散斑干涉儀 4.全反射鏡
5.雙偏振片
U場及W場、位移導
（U場）、（W場） 6.錯位鏡
7.雷射光源
數之測量
（電子剪切散斑場） 8.光學桌
9.影像軟體

4

儀器設備項目

雲紋干涉儀

雷射位移計

規格/功能說明
課程/用途
 偏光分光棱鏡偏振度：1；100
 透鏡直徑：ψ30mm
 適用於1200lines/mm及
600lines/mm的光柵進行測量。
 可測量W場變形或輪廓之量測。
變形或輪廓之量測
 所得紋像是全場的，放大倍率
可以根據需要適當調節。
 光學桌

相關照片

 Dual laser Head controller
Model 7000-DL
 Standard Laser Head
 Model：MT-100-20、MT100-5
變形或位移之量測
 Range：0.2i0n（0.51mm）
 Standoff：2.5in（63.5mm）
 Resolution：0.5μin
（0.127μm）、0.1μin
（0.0025μm）
5

光彈影像

ESPI：W場影像

ESPI：剪切影像

ESPI：U場影像
6

92年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「微細製程之精密檢測與分析整合教學計
劃」。

93年度教育部技專校院發展技專院校發展學校重點特色專案補
助計畫，計畫名稱：「光電與半導電薄膜製程整合教學計劃」。
93年與晶陽科技進行「液晶製程設備之電腦輔助設計」之建教
合作計劃。
94年與錸寶科技進行「OLED薄膜受熱變形量測及顯示性能測
試」之建教合作計劃。

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明新科大
機械系
歡迎您的加入

簡報完畢 敬請指教
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