실리콘/화합물 반도체 소자공정 이론교육

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Transcript 실리콘/화합물 반도체 소자공정 이론교육

[실리콘/화합물 반도체 소자공정 이론
교육]
▣이론 교육 세부일정 – 현대성우리조트 본관5층 실버홀
일자
제1일
09:00~10:30
10:30~11:00
등록 및
제2일
제3일
(실리콘/화합물 반도체 분반)
화합물 반도체
Thin Film 공정
실리콘 소자
(박경완 교수/
Characterization
서울시립대)
(장문규 박사/ETRI)
휴식
(박경현 박사
/ETRI)
휴식
숙소 배정
화합물 반도체
Etching 공정
11:00~12:30
광소자 기술
(김남헌 박사/APTC)
Scaling limitation
광소자
factors
응용 기술
(장문규 박사/ETRI)
(박경현 박사
/ETRI)
12:30~14:00
점심식사
점심식사
수료증 전달식 및
점심식사
나노전자/광 소자 개론
14:00~15:30
(박경완 교수
Doping 공정
/서울시립대,
(조병진 교수/KAIST)
한일기 박사/KIST)
15:30~16:00
휴식
Graphene
technology for
future electronics
16:00~18:00
Lithography 기술
(조병진 교수/KAIST)
(이성구 책임/하이닉스)
Solar cell
technology; 현황
및 미래
(한일기 박사/KIST)
18:30~
저녁식사
저녁식사
* 교육내용
- 나노소자 제작을 위한 중급 공정 이론 교육 및 실습 교육
- 에피성장기술, 패턴형성기술, 식각기술, 박막형성기술, 후공정기술 등
* 상기의 일정은 사정에 따라 변경될 수 있습니다.
귀가
[Lithography for Nanotechnology 실
습교육]
▣ 실습 세부일정 - 나노종합팹센터(대전)
교육일정
7.19(화)
7.20(수)
7.21(목)
7.22(금)
교육 내용
13:00 ~ 14:00
입소 및 일정 소개
14:00 ~ 15:00
Fab 안전 및 청정도 교육
15:00 ~ 16:00
Optic Lithography 실습 개론
16:00 ~ 17:00
E-Beam Lithography 실습 개론
17:00 ~ 18:00
Imprint Lithography 실습 개론
09:00 ~ 12:00
Optic Lithography(KrF Scanner) 1
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 18:00
Optic Lithography(KrF Scanner) 2
09:00 ~ 12:00
E-Beam Lithography 1
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 18:00
E-Beam Lithography 2
09:00 ~ 12:00
Imprint Lithography 1
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 17:00
Imprint Lithography 2
17:00 ~ 18:00
수료식
* 상기의 일정은 사정에 따라 변경될 수 있습니다.
[Basic Nanofabrication Processes 실습교육 ]
▣ 실습 세부일정 - 나노종합팹센터(대전)
교육일정
8.9(화)
8.10(수)
8.11(목)
8.12(금)
교육 내용
13:00 ~ 14:00
입소 및 일정 소개
14:00 ~ 17:00
실습 개론
17:00 ~ 18:00
Fab 안전 및 청정도 교육
09:00 ~ 10:00
실습교육 소개(2일차)
10:00 ~ 12:00
Active E-Beam Lithography 1
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 14:00
Active E-Beam Lithography 2
14:00 ~ 16:00
Active Poly Etch
16:00 ~ 17:00
Gate Oxidation
17:00 ~ 18:00
Doped Poly Deposition
09:00 ~ 10:00
실습교육 소개(3일차)
10:00 ~ 12:00
Poly Gate Photo-lithography
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 15:00
Gate Poly Etch
15:00 ~ 16:00
S/D Implant, Activation
16:00 ~ 18:00
Metal Photo-lithography
09:00 ~ 10:00
실습교육 소개(4일차)
10:00 ~ 11:00
Oxide Etch
11:00 ~ 12:00
Metal Deposition
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 14:00
Lift-Off
14:00 ~ 16:00
Measurement
16:00 ~ 17:00
수료식
* 상기의 일정은 사정에 따라 변경될 수 있습니다.
[Nano Process Technology 실습교육 ]
▣ 실습 세부일정 - 나노소자특화팹센터(수원)
교육일정
7.19(화)
7.20(수)
7.21(목)
교육 내용
13:00 ~ 14:00
입소 및 일정 소개
14:00 ~ 15:00
Fab 안전 및 청정도 교육
15:00 ~ 18:00
나노에피성장기술 특론
09:00 ~ 10:00
나노에피성장 실습 개론
10:00 ~ 12:00
나노에피성장장비 및 공정 실습 1
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 15:00
나노에피성장장비 및 공정 실습 2
15:00 ~ 16:00
나노패터닝 실습 개론
16:00 ~ 18:00
나노패터닝장비 및 공정 실습 1
09:00 ~ 11:00
나노패터닝장비 및 공정 실습 2
11:00 ~ 12:00
나노식각 실습 개론
12:00 ~ 13:00
중식
13:00 ~ 17:00
나노식각장비 및 공정 실습
17:00 ~ 18:00
나노박막증착 및 후공정 실습개론
09:00 ~ 12:00
나노박막증착장비 및 공정 실습 1
12:00 ~ 13:00
중식
* 교육내용
13:00
~ 14:00
나노박막증착장비
및 공정 실습 2
-7.22(금)
나노소자 제작을
위한
중급 공정 이론 교육
및 실습 교육
- 에피성장기술, 패턴형성기술, 식각기술, 박막형성기술, 후공정기술 등
~ 따라
17:00변경될 수 있습니다.후공정장비 및 공정 실습
* 상기의 일정은14:00
사정에
17:00 ~ 18:00
수료식
* 교육내용
- 나노소자 제작을 위한 나노공정 실습 교육
- 에피성장기술, 패턴형성기술, 식각기술, 박막형성기술, 후공정기술 등
* 상기의 일정은 사정에 따라 변경될 수 있습니다.