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授課老師：朱志良
班級：碩研奈米一甲
姓名：黃稚惠
學號：MA11V204
原理
圖1. 雷射干涉儀之基本原理
 構成元件：
光源、分光鏡、補償鏡、固定鏡、可移動鏡
干涉條紋是因為二光束的波峰、波谷作建設性及破
壞性的重疊作用而來。圖2所示，建設性干涉所產生
的條紋為圖中的亮紋，而破壞性干涉則產生圖中間
所示的暗紋，此時若增減AC或AD的長度達二分之
一倍波長時，將會使干涉條紋改變由亮變暗或由暗
變亮。
圖2. 二道光束干涉所產生的干涉條紋
雷射光波之特性
 波長需精準，足以作為精確的量測。
 波長需非常短，足以作為高分辨率測量。
 全部波都相同，產生干涉原理。
應用
 線性距離之測量
 角度之測量
 真直度之量測量
 垂直度量測
 旋轉量測
 平坦度量測
 平面度之數位化影像處理
參考文獻
 雷射干涉儀原理與應用-財團法人精密機械研究發展中心-沈建
華-九十七年4月十一日
 精密機械精度檢測-台灣大學機械系-范光照教授
 捷胤工業有限公司
 httpel.mdu.edu.twdatacos09820922002Ach8laserinter.pdf-
雷射干涉儀原理與運用
 httpme.csu.edu.twswlSCAL22.pdf-雷射干涉儀
 馬達電子報第257期-2007-11/28雷射干涉儀之奈米量測-林高輝
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