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半導體檢測實務
Auger
Electron
Spectroscopy
指導老師:吳坤憲
組員:黃維德
王宗昶
洪浩洋
教授
19323002
19323011
19323018
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2016/7/12
前言
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
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1925年Pierre Auger發現了歐傑電子,但歐傑電
子的訊號很弱。
1953年才由Lander利用電子激發材料表面、產
生歐傑電子以分析物體表面成分。
1970年學者專家利用電子儀器之輔助,順利將
歐傑光譜轉換為鑑別率高之資料形式,AES的重
要性才倍受肯定。
現在的歐傑電子儀廣泛採用CMA能量分析器並採
用電子束做為激發源。
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AUGER電子
原理
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當激發源與原子碰撞,原
子的內層軌道的電子被激
發出來。而會產生一個空
穴。
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外層軌道的電子躍遷到空
穴而釋放出能量,而該釋
放出的能量又可以激發同
一軌道或者更外層的軌道
使電子逃離樣品表面,這
釋放出電子稱之歐傑電子。
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AUGER電子
原理
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
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產生歐傑電子的激發能量可
以是電子,可以是光子,也
可以是離子。
由於電子束可聚焦到一
個極小的面積,因此可
以掃瞄過一個固定的範
圍獲得成份分析資訊。
由於歐傑電子的形成需有兩
個電子能階軌域及三個電
子,因此 H 及 He 兩元素
無法產生歐傑電子
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AUGER電子
能量計算


歐傑電子的動能只與元素激發的原子軌道的能量有關,
而與激發源的種類和能量無關。
歐傑電子的能量躍遷過程涉及的原子軌道能階的結
合能來計算。可以用下面的方程表示:
EKLM(Z)=EK(Z)-EL(Z)-EM(Z+Δ)
EKLM(Z)→原子序為Z的原子KLM躍遷過程的歐傑電子動能
EK(Z)→K軌道能階的電離能
EL(Z)→L軌道能階的電離能
EM(Z+Δ)→M軌道能階的電離能
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歐傑電子能譜儀
簡介
所有表面分析儀器使用之
技術,不外乎藉著光子、
電子、離子及中子等,入
射於試樣之表面而偵測其
所產生的二次訊號,產生
的二次訊號亦包含與光
子、電子、原子及離子等
有關之特性。
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歐傑電子能譜儀
系統架構
由快速進樣室系統、超高真空系統、電子槍、離子槍、
能量分析系統、計算機數據採樣系統
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歐傑電子能譜儀
原理
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歐傑電子能譜儀是一種用來
分析材料表面奈米尺寸、化
學結構及組織形態的儀器。
電子束打到試片表面所引發
的各種反應機制,如二次電
子、特性 X-光及歐傑電子等,
其中可被偵測的歐傑電子只
有表面 30 Å 左右的深度。
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歐傑電子能譜儀
原理
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利用電子束照射試片引發歐傑反應,產生的歐傑電子
經由電子能量分析器接收,再經過訊號處理系統判斷表
面元素成分與濃度,必須在高真空下進行。
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歐傑電子能譜儀
電子槍

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
主要作為激發源之用途。
由一直徑大約0.1毫米,
彎成為髮夾狀的熱鎢絲
組成,具有V型的尖端。
在電子槍內,陽極維持
在1到50kV的電位。
圍繞著燈絲的陰極,被加
上相對於燈絲的負電壓。
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歐傑電子能譜儀
離子槍
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

一般試片表面極易吸附空氣中的污染物或者形成氧
化物,由於歐傑電子的脫離深度只有30 Å ,必須
利用中低能離子束濺射以將此干擾物清除。
另一作用是作為元素的深度分析用。
一般運用於歐傑電子分析技術之離子源有熱陰極和
冷陰極兩種。
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歐傑電子能譜儀
熱陰極離子源
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離子源安裝於高真空室內,將熱陰極離子源內的燈絲加
熱至熱游離電子的發射溫度,並於圓柱狀的柵極上加
適當正偏壓,熱游離電子便自燈絲朝柵極加速度運動,
並因此游離氣體分子成正離子
在游離區前面,有一抽引極,可將正離子由抽引極上的
微小孔徑導入離子透鏡組內,可進一步修正離子束的圓
徑及能量; 一般離子槍均在離子源前端另有抽氣裝
置,進行微差抽氣。
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歐傑電子能譜儀
冷陰極離子源
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

不使用加熱燈絲。
游離室被同軸心的電磁鐵所包圍,工作氣體由離子槍後
面進入游離室,此時真空系統的氣壓保持在10-6 torr範
圍,離子經高壓放電產生後,經陽極抽引至聚焦區,離
子能量在0.5keV-10keV範圍內。
由於氣體會擴散至整個真空系統,必須防止對其它真空
組件造成劣化作用,尤其是活性氣體的使用,必須更加
注意。
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歐傑電子能譜儀
橢圓鏡面分析儀(CMA)
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CMA的主體分別為r1及r2的兩同軸心的柱狀圓筒組成,通
常外筒附加-V電位,內筒接地。當電子通過了進口夾縫
進入圓筒間的電位場後,不同動能的電子會有不同的偏
折半徑,適當的調整V值可使帶特定動能的電子到達圓
筒末端出口夾縫,並進入檢測器內。
當電子進入CMA的角度(α)固定在42°18’,可使CMA有
最大的接收
立體角此時
CMA的傳送率
很高。
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歐傑電子能譜儀
球扇能量分析器(SSA)

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球扇電子能量分析器與CMA一樣,都是屬於電場擴散
形的電子能量分析器。
在相同的能量解析度情形下,SSA的穿透率比CMA小,
不過藉由適當的電子透鏡設計可大幅提昇SSA的傳送
率。
SSA的高能量解析度對於歐傑能譜訊號能量細微變化
的觀察有很大的幫助,這是CMA所不及的。
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歐傑電子能譜儀
球扇能量分析器(SSA)


兩個球心相同,半徑分別為r1及r2的半球面,分別附加
-V1及-V2的偏壓,在r1及r2中間,半徑為r0的區域會有等
電位面,具適當動能(E0)的電子由SSA夾縫進入。
偵測到試片不同點會有不同能量變化,並將訊號輸出至
電子檢測器內。
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歐傑電子能譜儀
樣品製備技術

歐傑電子能譜儀對分析樣品有特定的要求,粉體樣品原
則上不能進行歐傑電子能譜分析。

由於涉及到樣品在真空中的傳遞和放置,待分析的樣品
一般都需要經過一定的前處理。主要包括樣品大小,揮
發性樣品的處理、表面污染樣品及帶有微弱磁性的樣品
等的處理。
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歐傑電子能譜儀
樣品製備技術-前處理

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含有揮發性物質和表面污染的樣品
一般可以透過對樣品進行加熱或用溶劑清洗等方法。
含油性物質的樣品,一般依次用正己烷、丙酮和乙醇
超音波清洗,然後紅外光烘乾,才可進入真空系統。
對於表面有機物污染的樣品,在進入真空系統前
必須用油溶性溶劑如環己烷,丙酮等清洗掉樣品表面的
污染。最後再用乙醇清洗掉有機溶劑。
而對於一些樣品,可以進行表面打磨等處理。
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歐傑電子能譜儀
樣品製備技術-前處理


帶有微弱磁性的樣品
由於歐傑電子帶有負電荷,當樣品具有磁性時,由樣品
表面出射的歐傑電子就會在磁場的作用下偏離接收角,
得不到正確的AES譜。
當樣品的磁性很強時,還存在導致分析器頭及樣品架磁化
的危險,因此,絕對禁止帶有強磁性的樣品進入分析室。
對於具有弱磁性的樣品,一般可以通過退磁的方法去掉樣
品的微弱磁性,然後就可以像正常樣品一樣分析。
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分析技術
能譜的定性分析
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

歐傑電子能譜的定性分析是一種最常規的分析方法,也是
歐傑電子能譜最早的應用之一。
可以根據歐傑電子的動能來定性分析樣品表面物質的元素
種類。
在進行定性分析時,通常採取歐傑譜的微分譜的負峰能量
作為歐傑動能
對原子序數較高的元素,歐傑峰的數目更多,使歐傑電子
能譜的定性分析變得非常複雜。在利用歐傑電子能譜進行
元素定性分析時,主要是利用與標準譜圖對比的方法。
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分析技術
表面元素的半定量分析
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
一般不能測出所分析元素的絕對含量,僅能提供元素的相
對含量,而不是絕對含量,得到的僅是一種半定量分析結
果。
AES譜儀對不同能量的歐傑電子的傳輸效率也是不同的,會
隨譜儀污染程度而改變。當譜儀分析器受到嚴重污染時,
歐傑峰的強度會大幅度下降。
相對靈敏度法:
Ci=(Ii/Si)/(ΣIi/Si)
Ii ---第i種元素的AES訊號強度
Si ---第i種元素的相對靈敏度因子
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分析技術
元素深度分佈分析

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
採用Ar離子束進行樣品表面剝離深度分析方法,此方
法為破壞性分析。
是先用Ar離子把表面一定厚度濺射掉,再用AES分析
剝離後的表面元素含量,就可以獲得元素在樣品中沿
深度方向的分佈。
由於離子束與樣品做用太久會使樣品產生效應,為了
獲得良好的深度結果,必須使用交替濺射式方式。並
盡可能降低每次濺射的間隔時間。
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分析技術
微區分析


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微區分析也是歐傑電子能
譜分析的重要功能。這種
功能是歐傑電子能譜在微
電子元件研究中最常用的
方法。
圖為Si3N4薄膜經850度快速
熱退火處理後表面不同點
的歐傑定性分析圖。從表
面定性分析圖上可見,在
正常樣品區,表面主要有
Si、N以及C和O元素存在。
而在損傷點,表面的C、O
含量很高,而Si、N元素的
含量卻比較低。這結果說
明在損傷區發生了Si3N4 薄
膜的分解。
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應
用
薄膜表面清潔度測定



通過歐傑電子譜可以實時
監測樣品的表面清潔程度。
在圖可以看出,原始表面
上除有Cr元素存在,還有C、
O等汙染雜質存在。
經過Ar離子濺射清潔後,
其表面C雜質峰值基本消失。
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應
用
鑽石薄膜表面判定
經過化學清洗薄膜表面前後之歐傑圖
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應
用
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結論

具有很高的表面靈敏度、空間解析度,因此AES對於
表面薄層的分析是較適當的選擇。

雖是同樣元素但會產生不同的歐傑電子能量

配合離子槍可進行深層的介面分析
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END
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歐傑電子與X光的產生機率與原子序的關係
 基本上,歐傑效應是一個電子重新排列組合的結果。
原子序大的原子,電子較多,其互相牽扯也較多,不易重
排,因此產生歐傑電子機率也比較低,反之原子序小的容
易產生歐傑電子。
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雖是同樣元素但會產生不同的歐傑電子能量



同樣元素所產生的歐傑電子,會因為參與歐傑效應的電
子軌道不同,產生歐傑電子的能量也不同。
當電子能量小於10或大於1000eV時,其平均自由徑大,
其穿透原子層的能力較高。訊號來源的深度範圍較大,
也就是表面敏感度差。
至於10~1000eV的歐傑電子,因擁有較小的平均自由徑,
穿透原子層的能力較低,訊號的來源可能在表面幾個原
子層範圍內,也就是具有較高的表面敏感度。
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微差抽氣

由於熱陰極離子源內高熱的燈絲容易遭受氧化,所以多
用氬氣做為產生離子的氣體,氣體由離子源後端進入真
空室內,為了避免未游離成離子的氣體分子對真空室造
成污染,影響分析品質和真空系統的功能與壽命,一般
離子槍均在離子源前端另有抽氣裝置,這樣的抽氣裝置
稱為微差抽氣法,如此的設計,即使離子源的氣壓在
1*10-4torr,分析室內的氣壓依然可保持在1*10-9torr
以下。
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元素的相對&絕對含量
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相對含量
例如:Aux強度1000 count;靈敏度0.6
Cuy強度3000 count;靈敏度0.1
但是元素含量不是1:3
(1000*0.6)/(1000*0.6+3000*0.1)=>金含量
(3000*0.1)/(1000*0.6+3000*0.1)=>銅含量

絕對含量
不須計算,僅直接明確測量單一元素的含量為多少
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關於微分負峰值
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KLL

KLL為電子從K層激發到L層,從L層回覆到K層放出的能
量使L層電子被激發成為二次電子
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