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非破壞性檢測實習 NonDestructive Testing 第三章磁粒檢測(MT) 1 大 綱 • • • • • 簡介 檢測原理 檢測設備 檢測方法 實作實習 2 磁 粒 檢 測 簡 介 磁粒檢測(簡稱MT) 是利用材料中瑕疵所形成的 磁漏磁場,吸引細小磁粒而形成顯示,常用於檢 測鐵磁性材料的表面及近表面瑕疵。 磁粒檢測適用性 僅適合鐵磁性材料檢測。 無法檢測材料內部缺陷。 需用不同磁化方向才能檢出不同方向缺陷。 檢測後常需退磁處理及表面後處理。 不規則形狀試件不易找到適當磁化方向。 用接觸棒法﹐若接觸不當易產生弧擊灼傷試件。 試件需各別磁化﹐多量小型試件檢測費時耗工。 3 磁 粒 檢 測 原 理 由於被檢物的瑕疵或 斷面積改變﹐造成磁 力線在磁路上受阻﹐ 而進出被檢物表面。 4 磁 粒 檢 測 原 理 5 磁 粒 檢 測 原 理 6 磁 粒 檢 測 原 理 適當磁化材料︰磁場強度與磁場方向。 施加磁性介質︰磁性介質種類與施加方 式。 檢視︰判斷缺陷的位置及嚴重性。 7 磁 粒 檢 測 原 理 退磁是降低被檢物剩磁至可接受程度。也是將 材料的磁田重新排列成凌亂不規則方向。 退磁之時機:剩磁會影響試件後續加工或是剩 磁會造成使用上的干擾 退磁方法 縮減磁滯曲線法 熱處理法 8 磁 粒 檢 測 原 理 磁性:材料具有吸引相同或其他物質的能力。 磁場:鐵磁性材料會受到一吸引的作用力場。 磁力線:磁場作用力所形成的封閉曲線。 • 封閉曲線﹐各曲線不相交。 • 磁鐵兩端(磁極)密集﹐距離愈遠磁力線愈稀疏。 • 順著阻力最小(磁阻最低)的路徑排列。 • 方向性:外由北極至南極﹐內由南極到北極。 磁極:磁力線進出磁鐵的兩個地區。 磁田:磁的最小單位﹐原子的自旋角動量和磁矩皆朝向 同一方向。未磁化前﹐磁田排列雜亂﹐磁化時﹐磁田排 列規律。 9 磁 粒 檢 測 原 理 名 詞 單 位 換 算 磁力線 馬克斯威爾 磁通量 韋伯 1韋伯=108馬克斯威爾 磁通密 高斯 度 韋伯/米2 1高斯=1馬克斯威爾/cm2 1高斯=10-4韋伯/米2 磁場強度(H):,磁場某定點的強度值,單位為奧斯特 (Oersted)或安匝/米。一奧斯特是一單位磁極產生一達因力, 等於1000/4π 安匝/米的電磁力。 磁化力:磁路中建立磁通量的合力,以H表示,奧斯特。 10 磁 粒 檢 測 原 理 導磁率 =dB/dH H:磁化力 B:物體感 應磁通密 度 11 磁 粒 檢 測 原 理 非鐵磁性材料 抗磁材料 鐵磁材料 順磁材料 材料 導磁係數 材料 導磁係數 材料 導磁係數 銅 0.99999 鋁 1.000022 鐵 7000 銻 0.999952 鉬 1.00289 鈷 170 水 0.9999992 空氣 1.00000029 鎳 1000 12 磁 粒 檢 測 原 理 磁滯 曲線 寬 窄 磁特 性 低導磁率(不易磁化) 高磁阻 高保磁力(高剩磁) 高抗磁力 高導磁率(易被磁化) 低磁阻 低保磁力(低剩磁) 低抗磁力 常見 材料 高碳鋼、硬鋼 低碳鋼、軟鋼、鑄鐵、 鈷、鎳 13 磁 粒 檢 測 原 理 磁場強度 (H) H I / D …直線導體 [電流大小(I) 距導體距離(D)] H= NI ...….線圈 (安匝) [線圈數(N) 電流大小(I) ] 磁場方向 (安培右手定則) 右手大拇指方向--電流方向﹐四指的方向--磁力線方向 14 磁 粒 檢 測 原 理 周向磁化 縱向磁化 15 磁 粒 檢 測 設 備 攜帶式裝備 16 磁 粒 檢 測 設 備 活動式裝備 周向磁化:接觸棒、接觸夾、中心導體 縱向磁化:磁軛、可撓纜線繞線、線圈 17 磁 粒 檢 測 設 備 固定式裝備 周向磁化:頭射法、中心導體法 縱向磁化:線圈 18 磁 粒 檢 測 試 塊 磁場指示八角塊:判定磁場方向與強度。 貝氏環狀規塊:評估磁化電流大小和種類及測試 磁浴靈敏度。 磁粒測試塊:評估磁化電流大小和種類及測試磁 浴靈敏度。 貝氏環狀規塊 指示八角塊 磁粒測試塊 磁場 19 磁 粒 檢 測 方 法電 流 種 類 電流種類 磁化方向 磁場強度 磁性介質 施加方式 穿透性:半波直流最好,直流其次,交流電較差。 脈波效果:半波直流佳,交流可,直流無。 施加時機 退磁處理 20 磁 粒 檢 測 方 法 磁 化 方 向 磁化方向:和缺陷垂直, 磁漏最明顯。夾角愈小, 顯示愈不清楚,平行時, 無法檢出缺陷。 磁粒檢測,多用交互磁化, 二次磁化方向約垂直。 電流種類 磁化方向 磁場強度 磁性介質 周向磁化:接觸棒、頭射 施加方式 法及中心導體法。 縱向磁化:線圈法及磁軛 法。 施加時機 退磁處理 21 磁 粒 檢 測 方 法 磁 場 強 度 頭射法 被檢物外徑D(mm) 125以內 125~250 250~375 375以上 電流種類 磁化電流範圍(安培) (試件外徑/25)*700 /25)*900 (試件外徑/25)*500 /25)*700 (試件外徑/25)*300 /25)*500 (試件外徑/25)*100 /25)*300 磁化方向 ~ (試件外徑 磁場強度 ~ (試件外徑 磁性介質 ~ (試件外徑 施加方式 ~ (試件外徑 施加時機 退磁處理 磁化電流為交流電且用於表面缺陷時,電流為上表之一半。 試件非圓形時,外徑更改為垂直電流方向最大橫截面的最大對角線長。 頭射法 接觸棒 中心導體 線圈法 磁軛法 22 磁 粒 檢 測 方 法 磁 場 強 度 接觸棒 電流種類 試件厚度 磁化電流 磁化方向 >=19時mm (接觸棒間距/25)*100 ~ (間距/25)*125 磁場強度 <19時mm (接觸棒間距/25)* 90 ~ (間距/25)*110 磁性介質 施加方式 接觸棒的間距需保持在75mm至200mm之間,以保持安全與檢測靈敏度。施加時機 退磁處理 頭射法 接觸棒 中心導體 線圈法 磁軛法 23 磁 粒 檢 測 方 法 磁 場 強 中心導體 度 電流種類 磁化方向 磁場強度 磁化電流:和頭射法相同。 交流電做試件內表面檢測時,被檢物外徑(D) 磁性介質 施加方式 改為被檢 物內徑。 偏置法檢測大內徑試件,被檢物外徑(D)改為導體直徑加 上兩倍的試件厚度,導體應貼近試件內表面,有效磁化區 為中心導體直徑的4倍,分段檢測時,檢測區重疊10%。 頭射法 接觸棒 中心導體 線圈法 磁軛法 施加時機 退磁處理 24 磁 粒 檢 測 方 法 磁 場 強 線圈法 度 電流種類 磁化方向 磁場強度 磁性介質 施加方式 施加時機 退磁處理 頭射法 接觸棒 中心導體 線圈法 磁軛法 25 磁 粒 檢 測 方 法 磁 場 強 度 磁軛法 電流種類 磁軛法之磁化力以舉升力表示。 磁化方向 交流電磁軛在最大磁極間距時,最低吸舉力應 磁場強度 為4.5Kgf。 直流磁軛或永久磁軛在最大磁極間距時,最低 吸舉力應為18.1Kgf。 磁性介質 施加方式 施加時機 退磁處理 頭射法 接觸棒 中心導體 線圈法 磁軛法 26 磁 粒 檢 測 方 法 磁性介質 乾式磁粒:低抗磁性及低保磁性鐵磁性材料。 用於粗糙表面、近表面瑕疵檢測,靈敏度最 佳。 濕式磁粒:較乾式磁粒更細微,可懸浮於水或 輕質油中形成磁浴,適合檢測細微瑕疵。 磁漆:調和透明漆,試件磁化後,刷在檢測面 上。特點為磁漆黏性大,適合垂直面或倒仰 面的檢測,且檢測結果易於保存。 磁膠磁粒:濕式磁粒懸浮於可在室溫凝固的橡 膠中,磁化後,磁粒受磁漏場吸住,經約1小 時後,橡膠凝固取下,便可做為永久之檢測 紀錄。一般可用於檢測凹入之孔穴等不易觀 察的場合。 電流種類 磁化方向 磁場強度 磁性介質 施加方式 施加時機 退磁處理 27 磁 粒 檢 測 方 法 磁性介質施加方式 連續法:磁化同時施加磁性介質。 用於乾式及濕式磁粒。 磁化效果較佳,靈敏度較佳,適合表面、近 電流種類 磁化方向 表面缺陷及細微的表面缺陷。 高保磁性材料(較硬的材料)及低保磁性材料 (較軟材料)。 磁場強度 剩磁法:被檢物的剩磁(小於磁飽和)來檢測。 用於乾式及濕式磁粒。 磁化電流較正常檢測大。靈敏度較差,僅適 施加方式 磁性介質 施加時機 退磁處理 用於表面缺陷的檢測。 僅用於高保磁性材料(磁滯曲線較為寬胖者)。 28 磁 粒 檢 測 方 法 磁性介質施加時機 連續法 剩磁法 適用磁粒 乾式及濕式 乾式及濕式 磁化電流 一般磁化電流 較一般磁化電流大 適用材料 高、低保磁材料皆可 僅用於高保磁材料 靈敏度 較高 較差 適合缺陷類型 表面、近表面、細微缺陷 表面缺陷 檢測速度 較快 較慢 操作技術性 較高 較容易 適用場合 一般用 特殊目的或自動化檢驗 設備搭配需要 29 磁 粒 檢 測 方 法 退 磁 處 理 退磁要件 磁極交迭 磁化電流採用交流電 交替改變直流電方向 轉變磁場中試件的方向 磁場強度遞減 試件漸離磁場或磁場漸離試件 電源控制電流衰減 分段步降(一般常採用30 點步降)。 電流種類 磁化方向 磁場強度 磁性介質 施加方式 施加時機 退磁處理 30 磁 粒 檢 測 方 法 退 磁 處 理 電流種類 退磁方法 交流電退磁法:控制易,穿透淺 直流電退磁法:穿透深、磁極交替難 磁軛退磁法 :小零件、低長寬比、局部 磁化方向 磁場強度 磁性介質 施加方式 施加時機 退磁處理 31