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核断熱消磁冷凍機
世界有数の最低温度と保持時間をもち、サイズもコン
パクト。主に2次元3Heの比熱およびNMR測定に使用中。
核断熱消磁冷凍機
最低温度： 51 mK
保持時間： 2 weeks（≤ 200 mK）
希釈冷凍機部
無負荷時最低温度： 8 mK
冷却力： 400 mW@100 mK
超伝導マグネット部
最大磁場： 9 T
比熱測定用試料セル
温度範囲： 0.1 ≤ T ≤ 80 mK
印加磁場： ≤ 1 T
NMR測定用試料セル
温度範囲： 60 mK ≤ T ≤ 1.5 K
印加磁場： ≤ 0.2 T
無冷媒希釈冷凍機
液体ヘリウム浴槽を使用せず、
パルス管冷凍機で4 Kを発生して運
転する新型の希釈冷凍機。国内導
入第１号機。
低温真空槽がないので、実験空
間が広く、室温からの光学的・機
械的アクセスが容易。ボタンを押
すだけで１日半後に12 mKの極低
温度が実現。
量子液体・固体、低温電子物性
など広い用途に使用予定。
Oxford Instruments社製DR200型（旧VeriCold社製）
最低温度： 12 mK
冷却力： 200 mW@100 mK
冷却時間： 35 h（室温から最低温度まで)
全自動運転
超低温・走査トンネル顕微鏡（ULT-STM）
rf-shielded box
DR elevation system
Air spring/damper
3He-4He
dilution
refrigerator (DR)
STM chamber
Superconducting
magnet
He flow
Sample transfer
Floor level
Precooling
chamber
STM/STS部
動作温度： 30 mK ≤ T ≤ 300 K
最大磁場： 6 T（13 Tに改造中）
超高真空環境： ≤ 1×10-8 Pa
磁場掃引中で原子分解能有
希釈冷凍機温度で
作動し、試料表面を
処理・評価できる超
高真空チャンバーを
有する世界で唯一の
STM装置。
主にグラフェン、
異方的超伝導、超薄
膜超伝導の走査トン
ネル分光（STS）測
定に使用中。
Sample/tip preparation and
characterization UHV chamber
試料表面処理・評価
アルゴンイオンスパッタ
試料加熱： 1500℃ (抵抗加熱), 800℃ (間接加熱)
電子ビーム蒸着装置
低速電子線回折装置（LEED）
低温劈開機構
試料予冷温度： 7 K
複合走査プローブ（ULT-STM/AFM/TR）
超低温複合走査プローブ
室温大気中STM装置
同一試料に対して
・走査トンネル顕微鏡 (STM)
・原子間力顕微鏡 (AFM)
・電子輸送特性 (TR)
の３種類の計測を行うことができる最新鋭の複合走査
プロープの心臓部。超低温 (≥ 300 mK)・高磁場 (≤ 13
T)・超高真空 (≤ 11×10-8 Pa)の複合極限環境下で動作す
るシステムに組み込み予定。
第一世代のULT-STMに使われてい
たSTMヘッド。現在は室温大気中で
の予備実験に使用。
表面微細加工装置
マスクアライナー
デジタル光学顕微鏡
ミカサ社製MA-20型 (フォトリソグ
ラフィー用)
キーエンス社製 VN-2450型 (3000倍)
右隣はニコン社製実体顕微鏡
スピンコーター
ミカサ社製MS-A100型
簡易クリーンブース
Class 2000
製膜装置
超高真空蒸着装置
真空度： ≤ 1×10-6 Pa
電子ビーム蒸着源 ×２
抵抗加熱蒸着源 ×２
３ゾーン電気炉
真空度： ≤ 1×10-4 Pa
最高温度： 1500℃
均熱帯長さ： 40 cm